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シアムンPOWERWAYは先端材料CO.、株式会社を。
XIAMEN POWERWAY ADVANCED MATERIAL CO., LTD.
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シティ:
xiamen
省/州:
fujian
国/地域:
china
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GaNのウエファー
(低い転位密度の20-2-1の)平面のN-GaN支えがないGaNの基質
(低い転位密度の20-2-1の)平面のN-GaN支えがないGaNの基質 PAM-XIAMENはUHB-LEDおよびLDのためである支えがない(ガリウム窒化物) GaNの基質のウエファーのための製造技術を確立しました。水素化合物の蒸気段階のエピタクシーの(HVPE)の技術によって育......
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平面によってSi添加されるGaN支えがない六角形のGaNの水晶の基質
平面によってSi添加されるGaN支えがない六角形のGaNの水晶の基質 PAM-XIAMENはUHB-LEDおよびLDのためである支えがない(ガリウム窒化物) GaNの基質のウエファーのための製造技術を確立しました。水素化合物の蒸気段階のエピタクシーの(HVPE)の技術によって育てられて......
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磨かれる二重側面とEpi準備ができた10*10mm2 N-GaN支えがないGaNの基質
二重側面の磨かれたPAM-XIAMENとEpi準備ができた10*10mm2 N-GaN支えがないGaNの基質はUHB-LEDおよびLDのためである支えがない(ガリウム窒化物) GaNの基質のウエファーのための製造技術を確立した。水素化合物の蒸気段階のエピタクシー(HVPE)の技術によって育てられて....
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(11-22) U-GaN支えがないガリウム窒化物(GaN)の水晶基質を平にしなさい
(11-22) U-GaN支えがないガリウム窒化物を平にしなさい(GaN)水晶基質PAM-XIAMENがUHB-LEDおよびLDのためである支えがない(ガリウム窒化物) GaNの基質のウエファーのための製造技術を確立した。水素化合物の蒸気段階のエピタクシー(HVPE)の技術によって育てられて、GaN...
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(20-21の)平面の半北極のN-GaN支えがないGaNの水晶の基質
(20-21の)平面の半北極のN-GaN支えがないGaNの水晶の基質 PAM-XIAMENはUHB-LEDおよびLDのためである支えがない(ガリウム窒化物) GaNの基質のウエファーのための製造技術を確立しました。水素化合物の蒸気段階のエピタクシーの(HVPE)の技術によって育てられて......
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(20-2-1) SiGaN支えがないガリウム窒化物(GaN)のウエファーを平にしなさい
(20-2-1)支えがないガリウム窒化物(GaN)のウエファーPAM-XIAMENがUHB-LEDおよびLDのためである支えがない(ガリウム窒化物) GaNの基質のウエファーのための製造技術を確立したSiGaNを平にしなさい。水素化合物の蒸気段階のエピタクシー(HVPE)の技術によって育てられて.....
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(20-21の)平面SiGaN支えがなく純粋なガリウム窒化物(GaN)のウエファー
(20-21の)平面SiGaN支えがなく純粋なガリウム窒化物(GaN)のウエファーPAM-XIAMENはUHB-LEDおよびLDのためである支えがない(ガリウム窒化物) GaNの基質のウエファーのための製造技術を確立した。水素化合物の蒸気段階のエピタクシー(HVPE)の技術によって育てられて、GaN...
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N-GaN平らな支えがないGaNの基質
N-GaN平らな支えがないGaNの基質 PAM-XIAMENはUHB-LEDおよびLDのためである支えがない(ガリウム窒化物) GaNの基質のウエファーのための製造技術を確立しました。水素化合物の蒸気段階のエピタクシーの(HVPE)の技術によって育てられて、GaNの私達の基質に低い欠陥密度が......
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Iii窒化物LDsのための10*10mm2 SiGaN支えがないGaNの基質
Iii窒化物LDsのための10*10mm2 SiGaN支えがないGaNの基質 PAM-XIAMENはUHB-LEDおよびLDのためである支えがない(ガリウム窒化物) GaNの基質のウエファーのための製造技術を確立しました。水素化合物の蒸気段階のエピタクシーの(HVPE)の技術によって育......
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Mの平面のU-GaN支えがないGaN (ガリウム窒化物)の基質- Powerwayのウエファー
Mの平面のU-GaN支えがないGaN (ガリウム窒化物)の基質- Powerwayのウエファー PAM-XIAMENはUHB-LEDおよびLDのためである支えがない(ガリウム窒化物) GaNの基質のウエファーのための製造技術を確立しました。水素化合物の蒸気段階のエピタクシーの(HVPE......
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