シアムンPOWERWAYは先端材料CO.、株式会社を。

XIAMEN POWERWAY ADVANCED MATERIAL CO., LTD.

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Nのタイプは、GaSbのウエファー、2"を、テスト等級- Wafer Company Te添加した

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シアムンPOWERWAYは先端材料CO.、株式会社を。
シティ:xiamen
省/州:fujian
国/地域:china
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Nのタイプは、GaSbのウエファー、2"を、テスト等級- Wafer Company Te添加した

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Brand Name :PAM-XIAMEN
Place of Origin :China
MOQ :1-10,000pcs
Price :By Case
Payment Terms :T/T
Supply Ability :10,000 wafers/month
Delivery Time :5-50 working days
product name :GaSb Gallium Antimonide wafer
Conduction Type :N Type
Dopant :Tellurium
Grade :Test Grade
other name :single crystal GaSb Wafer
Wafer Diameter :2 inch
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Nのタイプは、GaSbのウエファー、2"を、テスト等級- Wafer Company Te添加した
 
PAM-XIAMENはCzochralski液体の内部に閉じ込められた(LEC)方法によって単結晶GaSb (ガリウム アンチモン化物)のウエファーの成長を提供する。GaSb (ガリウム アンチモン化物)はようにカットかの、エッチングされるか、または磨かれた終わりとウエファーとして供給することができ、キャリアの集中、直径および厚さの広い範囲で利用できる。PAM-XIAMENはあなたのMOCVD及びMBEのエピタキシアル適用にepiの準備ができた等級のGaSbのウエファーを提供できる。より多くのウエファー情報のための私達のエンジニアのチームに連絡しなさい。

2" GaSbのウエファーの指定 
項目指定
添加物テルル
伝導のタイプNタイプ
ウエファーの直径2"
ウエファーのオリエンテーション(100) ±0.5°
ウエファーの厚さ500±25um
第一次平らな長さ16±2mm
二次平らな長さ8±1mm
キャリア集中(1-20) x1017cm-3
移動性2000-3500cm2/V.s
EPD<2x103cm-2
TTV<10um
<10um
ゆがみ<12um
レーザーの印要望に応じて
Sufaceの終わり、P/P P/E
準備ができたEpiはい
パッケージ単一のウエファー容器かカセット

GaSbのウエファーのバンド構造およびキャリア集中

GaSbのウエファーのバンド構造およびキャリア集中は流体静力学圧力へのエネルギー ギャップの基本的な変数、温度、依存、依存、有効質量、提供者およびアクセプターを含んでいる

基本的な変数

エネルギー ギャップ0.726のeV
ΓとL谷間のエネルギー分離(EΓL)0.084のeV
ΓおよびXの谷間のエネルギー分離(EΓX)0.31のeV
エネルギー回転軌道分裂0.80のeV
本質的なキャリア集中1.5·1012 cm3
本質的な抵抗103 Ω·cm
州の有効な伝導帯密度2.1·1017 cm3
州の有効な原子価バンド密度1.8·1019 cm3
Nのタイプは、GaSbのウエファー、2GaSbのバンド構造およびキャリア集中。300 K
例えば= 0.726のeV
EL = 0.81のeV
前の= 1.03のeV
Eso = 0.8のeV

温度の依存

エネルギー ギャップの温度の依存

例えば= 0.813 - 3.78·10-4·T2 (T+94) (eV)、
Tが程度K (0 < T < 300)の温度であるところ。

エネルギーELの温度の依存

EL = 0.902 - 3.97·10-4·T2 (T+94) (eV)

前エネルギーの温度の依存

前の= 1.142 - 4.75·10-4·T2 (T+94) (eV)

伝導帯の州の有効な密度

NC = 4.0·1013·T3/2 (cm3)

伝導帯の州の有効な密度

NC = 4.0·1013·T3/2 (cm3)

原子価バンドの州の有効な密度

Nv = 3.5·1015·T3/2 (cm3)

Nのタイプは、GaSbのウエファー、2本質的なキャリア集中の温度の依存。

流体静力学圧力への依存

例えば=例えば(0) + 14.5·10-3P (eV)
EL = EL (0) + 5.0·10-3P (eV)
前=前の(0) - 1.5·10-3P (eV)、
Pがkbarの圧力であるところ。

高い添加のレベルで狭くなるエネルギー ギャップ

Nのタイプは、GaSbのウエファー、2密度を添加するアクセプターのアクセプター対狭くなるエネルギー ギャップ。
カーブはp-GaSbのためにに従って計算される
ポイントは実験結果を示す

nタイプのGaSbのため

例えば= 13.6·10-9·Nd1/3 + 1.66·10-7·Nd1/4 + 119·10-12·Nd1/2 (eV)

pタイプのGaSbのため

例えば= 8.07·10-9·Na1/3 + 2.80·10-7·Na1/4+ 4.12·10-12·Na1/2 (eV)

有効質量

電子:

Γ谷のためmΓ = 0.041mo
L-谷で等しいエネルギーの表面は楕円体である
 ml= 0.95mo
 mt= 0.11mo
州の密度の有効質量
 mL= 16 (mlmt2) 1/3= 0.57mo
X-の谷で等しいエネルギーの表面は楕円体である
 ml= 1.51mo
 mt= 0.22mo
州の密度の有効質量
 mX= 9 (mlmt2) 1/3= 0.87mo

穴:

重いmh = 0.4mo
ライトmlp = 0.05mo
割れ目バンドmso = 0.14mo
州の密度の有効質量mv = 0.8mo
伝導性の密度の有効質量
 
mvc = 0.3mo

提供者およびアクセプター

Nのタイプは、GaSbのウエファー、2IVグループの供給の州の図表
 

浅い提供者(eV)のイオン化 エネルギー

Te (L)Te (X)Se (L)Se (X)S (L)S (X)
~0.02≤0.08~0.05~0.23~0.15~0.30

典型的な供給の集中Nd≥ 1017 cm3のためにΓ谷と接続された浅い供給の州は現われなかった。

浅いアクセプター(eV)のイオン化 エネルギー:

undoped GaSbの支配的なアクセプターは原産の欠陥のようである。
このアクセプターは二倍にイオン化可能である

Ea1Ea2SiGEZn
0.030.1~0.01~0.009~0.037

 
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PAM-XIAMENはすべての異なった種類のプロジェクトのためのガリウム アンチモン化物の基質を提供して自慢している。GaSbのウエファーを捜したら、学ぶために私達に照会をあなたがあなたの次のプロジェクトのために必要とするGaSbのウエファーを得るために私達がいかにについてのあなたと働いてもいいか詳細を今日送りなさい。私達のグループのチームはあなたに両方良質品および優秀なサービスを提供することを楽しみにしている!


















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