semiconductor germanium substrates

4inch赤外線二酸化炭素のレーザーのためのNタイプGEのウエファーのゲルマニウムの基質GEの窓 GE材料は導入する 光学材料の間で、ゲルマニウム材料は赤外線および夜間視界の技術でますます広く利用されている。ゲルマニウムはIV主要なグループ要素に属し、ダイヤモンドの構造.........

製品説明 2インチ 3インチ 4インチ ゲルマニアム基板 半導体ウェーファー カスタム CZ ゲルマニウムは半導体性能が良い.高純度ゲルマニウムは,P型ゲルマニウムの半導体を得るために,三価元素 (例えばインディウム,ガリウム,ボロン) とドーピングされる.半価元素 (e)N型ゲルマニウム半導.........

光学等級のモノラル結晶のゲルマニウムの基質PAM-XIAMENはゲルマニウムのウエファーに単結晶を提供し、VGF/LECによって育つウエファー私達に2インチからの6インチへ直径の範囲のマイクロエレクトロニクスおよび光電子工学の企業にGEのウエファーを提供することで強い利点がある。ゲルマニウムの.........

適用:ドラムの記憶電子工学、Sdカード、メモリ・カード、すべての種類のmemorのycard、MicroSDのMicroTFカード、フラッシュ・メモリ カード、DDRの半パッケージ、半導体、半導体、ICのパッケージ、ICの基質、MCP、UFS、CMOS、MEMSのICアセンブリ、貯蔵IC......

半導体およびLCD基板用超音波真空炭化水素洗浄システム 当社の超音波真空炭化水素洗浄システムは、半導体およびLCD基板の超高純度要求向けに設計されており、電子部品の性能に不可欠な、残留物のない、損傷のない洗浄を実現します。 高度な洗浄技術 このシステ.........

赤外線ゲルマニウム レンズ 2 - 16μmの波長範囲 険しい、耐久材料 防衛、保証および赤外線画像の適用のための理想 普及した基質で利用できる付加的な赤外線レンズ 私達はレンズを作るために良質の単結晶のゲルマニウム材料を選びます。ゲルマニウム材料の抵抗は通常5-40オームです。私達はまた顧客の要求......

99.999%ゲルマニウム棒ゲルマニウムの金棒5Nのゲルマニウムのインゴット 1. ゲルマニウムのインゴット/棒特性（理論的な） 分子量 72.61 出現 黒い固まり 融点 937.4 °C.........

製品説明: 陶器基板 - AIN 陶器基板 セラミックス基板は,半導体電源モジュールで使用するために設計された高性能電子材料です.高熱伝導性のアルミナイトリド (AIN) セラミクで作られています.この基板は,特殊な熱管理と電気隔熱特性を持っています.幅広い産業用用途に最適です 表面塗装: 磨い........

半導体のひずみゲージのトランスデューサーSPDの高速曲がる版のスケール 半導体のひずみゲージSPD 半導体のひずみゲージ（基質で） 照会を送って下さい 指定 関連製品 半導体のひずみゲージ（基質で） F1 F2.........

PUREALは超高度純度7N 99.99999%のゲルマニウムの金属を作り出すことができる。特徴:1.第14族元素の光沢がある、堅い、灰色がか白の固体メタロイド、化学的に同じようなグループの隣人錫およびケイ素と。2.浄化されたゲルマニウムは『pタイプの』半導体材料である。3.伝導性は加えられた不純物......

ミルキーホワイトクォーツ装置 クォーツ製品 半導体の端末ベース 半導体:クォーツガラスは,半導体材料や装置の生産プロセスにおいて不可欠な材料である.例えば,ゲルマニウム,シリコン単結,船舶炉のコアチューブと鐘器すべては利用する必要があります. 製品の特徴: 清潔できれい 均質性が高い 高温耐性.........

高い耐久性の処理し難い注文の窒化珪素Si3N4の陶磁器の基質 Si3N4陶磁器の基質の主な特長 1. 高い熱伝導性（70までW/m.k）、3回アルミナの陶磁器の基質の; 2. 熱拡張係数（3.1×10-6/℃）は半導体のケイ素材料（3.5-4.0×10-6/℃）に一致させます; 3. 曲.........

半導体およびLEDの破片Mo、MoCu 25.4mm 1inchのためのモリブデンのウエファーの基質 モリブデン、モリブデンの銅およびタングステンの銅材料から成っているウエファーの基質:LEDランプの耐久財を作ることを、信頼でき、強い部品が装備されていなければならない。私達のモリブデンを使うと.........

透明アルミナセラミック基板 電子技術の継続的な進歩に伴い、高性能基板材料への需要は高まり続けています。透明アルミナセラミック基板は、半導体パッケージングや電子回路の分野で徐々に人気を集めています。ZGは、4/6/12インチの透明アルミナ基板の量産化を国内で初めて実現した企業.........

半導体のためのCの平らで高い滑らかさそして高い清潔のサファイアの基質 サファイアのウエファーは従来のサファイアの基質標準等級に加えて高い滑らかさおよび高い清潔のような高い指定を提供する新しい半導体デバイスの研究開発のために主に適している。 主な特長 •高力、高い硬度、高い耐久性（ダ.........

2~10 μmの金属金属金属合金からできた,IGBT半導体用金属板 1コーティングされたニッケル基板に関する情報: Nickel-plated molybdenum-copper substrate is a metal material that uses a molybdenum-cop.........

完全自動型造形システム 性能パラメータ ● 模具の閉じる圧力: 98~1764kN ● 注射圧:4.9〜30kN 調節可能 ●適用可能なリードフレーム/基板サイズ:幅20~90mm,長さ100~300mm,厚さ0.15~1.2mm ● 適用可能な鋳造材料のサイズ:直径 φ 11-20mm,長さ/........

アルミナの陶磁器の基本的な破片の薄膜回路半導体統合された回路はランプを導いた アルミナの陶磁器の基本的な破片 製品名:アルミナの陶磁器の基本的な破片 製品の説明: 基質材料として、アルミナの陶磁器の基質はRFおよびマイクロウェーブ電子産業で広く利用されている。その高い比誘電率は小型化さ.........