tio2 発射対象

tio2 噴射標的 チタン標的 シルバー チタンディスク標的 医療用噴射 医療用途では,高性能材料が 生物互換性,耐腐蝕性,機械特性に関する厳しい要求を満たす必要があります.チタンとチタン合金 (等級2など)アルミと組み合わせると,高純度薄膜の堆積のためにスプッターターターゲットに使用される合金........

ジルコニウムの回転放出させるターゲット ジルコニウムの回転放出させるターゲット、ジルコニウムの回転ターゲット、ジルコニウムの放出させるターゲット、ジルコニウムの回転式放出させるターゲット、ジルコニウムの回転放出させるターゲット。 記述 放出させるターゲットの不運.........

10.2g/cm3コーティングのための純粋なモリブデンの放出させるターゲット モリブデンの放出させるターゲットの導入 製品名 純度 密度 表面 処理 Moターゲット 99.95% 10.22g/cm3 地面.........

記述 発射対象は,発射方法により薄膜を培養する材料であり,金属や陶器を加工することによって製造される.我々は,様々な材料のスプッターターゲットの製品を提供してきました溶融,シンテリング,合成,機械加工の技術を組み合わせることで製造方法の選択と用途と目的に応じてカスタマイズが可能目標の材料と要求に........

磁気スプートリング真空コーティングユニット 安定した真空システムと調整可能な弧の標的配置. このシステムは,均質な,耐磨性,金属の表面に耐腐蝕性金属コーティングコーティング厚さと色調は,カスタマイズされた色基準に合わせて完全に調整できます.高粘着性と長寿を保証する. メタル・シーザーや小さな切.........

高純度ニッケル金属から作られたスパッタリングターゲットであり、優れた延性、耐食性、磁気特性を備えています。成膜プロセス中に良好な密着性と膜密度を示し、半導体、エレクトロニクス、電気めっき、光学コーティング、再生可能エネルギー分野で広く統合されています。ニッケルターゲットは、高い化学的安定性と良好な導......

高温抵抗力がある良質の石英ガラスの放出させるターゲット 二酸化ケイ素の放出させるターゲットはSiおよびO.の二酸化ケイ素（SiO2）を含んでいる、別名無水ケイ酸は惑星で最も豊富な材料の2から、自然な混合物作ったである:ケイ素（Si）および酸素（O2）。無水ケイ酸は最も一般に水晶の形にあると考.........

ランタンウム噴射標的は,半導体,光学コーティング,研究分野で使用されている高純度機能材料です.精密加工により高純度ランタン金属から作られています薄膜の均一性,密度,スプッティング安定性が優れている.磁気スプッティングやイオンビームスプッティングなどの様々なコーティングプロセスに適しています. 応........

ターゲットPure>3N5 127*458*10クロムの放出させるターゲットをクロムめっきにしなさい 項目名前 ターゲットをクロムめっきにしなさい サイズ OD127*ID458*10 純粋 Pure>3N5 包装 木の場合の真空パック 場所の港 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 ......

脈打ったレーザーの沈殿（PLD）システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

モリブデン平面スプッタリング標的 材料: モリブデン 形状: プレート 純度: 990.5% 密度: 10.2g/cm 色: シルバー 標準: ASTMB386 サイズ: コスモス 表面: 明るい ハイライト.........

真空スプッティングコーティングのためのモリブデン標的 1真空スプッティングコーティング用モリブデン標的の記述: モリブデンのスプッターターゲットは,通常,モリブデンの粉末からシンター化されます.ほとんどの場合,シンター化されたモリブデンの粉末であるアノードから作られます.標的にアノードに.........

純タングメン金属のスプッティング標的 記述: ターンブランスプッターターゲットは,原材料として純粋なターンブランス粉末で作られた製品です.銀色 の 白い 外見 を 持っ ており,優れた 物理 特性 や 化学 特性 の ため に,多くの 分野 で 人気 に なっ て い ます. スプッターター.........

トリッチ133*4*4113mm 304L 平面スプッターターゲットのスプッターターゲットのステンレス鋼管 トリッチ133*4*4113mm 304L スプッティングターゲットのステンレススチールチューブ グレード304L 仕様: 133*4*4113mm 過剰摂取の許容量:0.1-0.4mm.........

超高純度ワルフスタン合金 W-Ti 発射標的 半導体物理蒸気堆積のためのプレート平面ビレット トルンプトンチタン (WTi) フィルムは半導体および太陽光電池産業におけるAlとSiの間の効果的な拡散障壁として機能することが知られている.WTiフィルムは通常,物理蒸気堆積 (PVD) によって薄膜とし......

NI 200のニッケルは放出させるターゲット純粋なニッケル合金のニッケル ベースの合金を合金にする 製品の説明 製品名 ニッケル200......

純粋なチタニウムの99.99% 4nディスク高い純度のチタニウムの金属の放出させるターゲット チタニウムは金属および延性がある。5,090 m/s.のレートで健全な旅行。チタニウムの主要な特徴は低密度、高い機械強さおよび容易な処理である。新しいチタニウムの合金によい熱抵抗があり、600℃か高温で長.......