真空スプッティングコーティングのためのモリブデン標的
1真空スプッティングコーティング用モリブデン標的の記述:
モリブデンのスプッターターゲットは,通常,モリブデンの粉末からシンター化されます.ほとんどの場合,シンター化されたモリブデンの粉末であるアノードから作られます.標的にアノードによって形成されます固定型または回転型アノードである.他の標準的な方法は,化学蒸気堆積,または再び,焦点が回転型アノードにある場合,電解堆積により,アノードにモリブデン層が堆積される.標的になる軌道を沿って 陽極表面全体に
多様な基板に,薄膜をモリブデンのスプートリングターゲットを使用して作成することができます.このスプートリングフィルムは電子部品や電子製品に広く使用されています.現在広く使用されているTFT-LCD (Thin Flim Transitor - Liquid Crystal Displays) など薄膜半導体チューブ - 液晶ディスプレイ),プラズマディスプレイ,無機発光ダイオードディスプレイ,フィールド発光ディスプレイ,薄膜太陽電池,センサー,半導体装置CMOS (補完金属酸化半導体) の調節可能な作業機能を持つフィールド効果トランジスタゲートなど
2. 分類モリブデン標的用真空スプッティングコーティング:
モリブデン標的の種類は,正方形モリブデン標的,丸型モリブデン標的,モリブデンプレート標的,モリブデンチューブターゲットと特殊形状のモリブデンターゲット適用分野によると,それはX線モリブデン標的,モリブデン発射標的とコーティングターゲットに分けることができます. 我々は,高性能を提供することができます.高品質のモリブデンのスプートリング標的丸いモリブデンスプッターターゲット,四角形のモリブデンスプッターターゲット,モリブデンスプッターターゲットチューブ,モリブデンスプッターターゲットキャップ.
平方モリブデン標的は,高溶融点,高電導性,低特異阻力を持つモリブデン標的製品の一つである.耐腐食性も環境性能も良好.
円形モリブデン標的は,様々な基板に薄膜を形成することができる.このスプッターフィルムは電子部品や電子製品に広く使用されています.
モリブデンプレートターゲット,モリブデンプレートターゲットの一般的な厚さは0.090インチ~3インチであり,その表面は金属的な輝きを持つ銀灰色である.一般的な仕様 (mm) は:BCM=9.9 (0.3-10) (60-400) 800 以上.
モリブデン回転標的 (モリブデン回転標的) は,通常は円筒形に作られ,内部には静止磁石があり,動作中にゆっくりと回転する磁石標的である.
コーティングされたモリブデン標的は,高温性能,高温物理強度,高弾性モジュール,優れた熱伝導性と耐腐蝕性塗料産業では,塗料材料として頻繁に使用されています.
モリブデンチューブターゲットは一般的なモリブデンターゲット製品である.その長さは一般的に≤3000mm,外径は≤250mm,壁厚さは3-25mm,平らさは0.1mm,形はチューブ状表面は銀色灰色で,金属の輝きがあります.
X線マモグラフィー,マモグラフィーは医療分野で使用できます. 乳房検査,乳房のX線マモグラフィー検査,非侵襲的な検査手段として,乳房全体の構造をより包括的で正確に反映することができます.
3生産 職種モリブデン標的用真空スプッティングコーティング:
モリブデンターゲットの製造プロセスは,一般的なモリブデン製品と類似しています.モリブデンターゲットの生産原材料は,火力強い金属であるモリブデン粉末です.モリブデンのスプッターターゲットの準備プロセスは主に粉末金属技術に基づいています.
モリブデン標的の生産プロセス:
1高純度モリブデン粉末を選択し,冷静圧縮によってコンパクトを取得する.
2. 水素または真空環境でシントリングして,チューブ空白を得ること.
3異なるプロセスによって,異なるモリブデンターゲットの製品がチューブ空から得られます.平坦なターゲットは主に鍛造され,ロールされます.ターニング・ターゲットは,主に鍛造と描きで加工されます.;
4最後に,完成品は,切断,ターニング,ポーリングなどを含む熱処理と加工によって作られます.
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