スプッターによる堆積物

プラスチック横の高真空は沈殿システムDc血しょうクリーニングを放出させます 横のDCの放出させる沈殿装置、高真空の放出させる沈殿システム システム応用を金属で処理するPVDのマグネトロンの放出させることおよび蒸発: ガラス ブレスレット、電子工学プロダクト陶.........

パーソナライズされたPVD真空プロフェッショナル光学コーティングマシン 記述: PVDコーティングマシンは,薄くて耐久性のあるフィルムを様々な基板に堆積するために使用される高度に専門化された機器です.PVDは物理蒸気堆積を意味します.高真空条件下で実施されるプロセス基本原理は,金属,セラ.........

植物を金属で処理するコータの真空を放出させるために機械を金属で処理する380v真空 機械コーティング厚さのモニターが付いているアルミニウム コータを金属で処理する真空 この装置は酸化膜の、超伝導のフィルム、半導体のフィルム、ferroelectricフィルム、極度の堅いフィルム、等を準備す.........

高純度ニッケル金属から作られたスパッタリングターゲットであり、優れた延性、耐食性、磁気特性を備えています。成膜プロセス中に良好な密着性と膜密度を示し、半導体、エレクトロニクス、電気めっき、光学コーティング、再生可能エネルギー分野で広く統合されています。ニッケルターゲットは、高い化学的安定性と良好な導......

マグネトロンスパッタリング 技術概要 マグネトロンスパッタリングは、様々な基板上に高品質な薄膜を成膜するために広く使用されている汎用性の高い物理気相成膜（PVD）技術です。高真空チャンバー（圧力 < 10⁻³ Torr）内で貴ガス（例：アルゴン）をイオン化し、プラズマを生成します。プラズマからの高エ......

チタニウムの円柱放出させるターゲット、チタニウムの回転シリンダー ターゲット薄膜の沈殿、マグネトロン 高い純度の半導体の使用のための最大級密度の回転チタニウムの放出させるターゲットそして最も小さく可能な平均結晶粒度、化学気相堆積（CVD）および物理的な蒸気沈殿（PVD）表示および光学適用。 指.........

製品の説明: 金属スパッタリングターゲットは、薄膜堆積技術、特に物理蒸着（PVD）プロセスにおいて広く使用されている重要なコンポーネントです。高品質の金属スパッタリングカソードターゲットとして、さまざまな産業および研究用途において優れた性能と信頼性を提供するように設計されています。この製品は.........

自動車部品のChromeめっきの装飾の反射のコーティングのためのPVDのマグネトロンの放出させる機械連続的なコーティング Goldstoneは専門の真空を開発するために放出させる顧客の適用範囲が広い適用のための沈殿システムを従事している。自動車ミラーのコータは良質の表面鏡および青いミラーのた.........

脈打ったレーザーの沈殿（PLD）システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

製品説明 デスクトップ アルミ合金室 シングルターゲット マグネトロンスプッターコーティングコーティングスプッターコーティングテストマシン フィルムデポジションテスト簡潔 な 紹介The desktop single-target magnetron sputtering coater with........

&quot;ターゲット&quot;という単語は 日常生活で使われる ターゲット材料から由来しますコーティング材料は電子線またはイオン線で爆撃されます発射する材料は&quot;発射対象&quot;と呼ばれます 金属チタンからチタン発射標的へ タイタンのスプートリングターゲットは,チタン金属を原材料とし......

高純度チタン標的 記述: &quot;ターゲット&quot;という言葉は 日常の射撃目標から来ているコーティング材料は,電子線またはイオン線で爆撃されます.発射する材料は&quot;発射標的&quot;と呼ばれます 仕様: 製品名 タイタン標的 純度 99.99% 配達時間 7〜15日 適用する........

スカンジウム噴射標的は,鉄電,ピエゾ電,光学コーティング,特殊半導体分野で広く使用される高純度先進機能材料です.この製品は高純度スカンジウム金属から精密加工で製造されています優れたフィルム均一性,構造密度,スプッター安定性がある.様々な物理蒸気堆積プロセスに適しています.マグネトロン発射やパルスレー......

1,記述: モリブデンは,物理蒸気堆積 (PVD) プロセスで使用される高純度材料である. 薄膜堆積で様々な基質を塗装するために一般的に使用されます. モリブデンスプッターターゲットは優れた熱伝導性と電気伝導性を示しています. 高度な溶融点,良い粘着性,均質なフィルム堆積性で知られています. モリ.......

超高純度ワルフスタン合金 W-Ti 発射標的 半導体物理蒸気堆積のためのプレート平面ビレット トルンプトンチタン (WTi) フィルムは半導体および太陽光電池産業におけるAlとSiの間の効果的な拡散障壁として機能することが知られている.WTiフィルムは通常,物理蒸気堆積 (PVD) によって薄膜とし......

真空スプッティングコーティングのためのモリブデン標的 1真空スプッティングコーティング用モリブデン標的の記述: モリブデンのスプッターターゲットは,通常,モリブデンの粉末からシンター化されます.ほとんどの場合,シンター化されたモリブデンの粉末であるアノードから作られます.標的にアノードに.........

Q-15 深暗スプッター カーウィンドウフィルム プレミアム 15% VLT メタリック 窓色 高度なスプッター技術により 最大限のプライバシー,UV保護,熱を排斥します 先進的なスプッター技術 Q-15は金属の色素を 均等に堆積させる 洗練されたスプッター技術を使いますより均質な仕上げで.........

高精度マグネットロンスプッターフィルム 製品説明: マグネティック・スプッティング・シリーズ (Magnetic Sputtering Series) は,研究開発プロジェクトのために高品質の薄膜を必要とする研究者や科学者の理想的な選択です.磁気記録メディアなどの様々なアプリケーションで薄膜堆積........

半導体物理気相成長（PVD）における石英製ボトムライナー0200-11112は、真空チャンバーの底部に配置される高純度石英製の保護部品です。金属汚染からのシールドとして機能し、スパッタ堆積からチャンバー表面を保護し、ウェーハ加工のためのクリーンで一貫性のある均一な環境の維持を支援します。 説.........

製品概要 Westglassのマグネトロンスパッタリングカーウィンドウフィルムは、真空マグネトロンスパッタリング技術を採用し、精密スパッタリングによってナノスケールの金属粒子を超薄型PET基板に堆積させ、多層複合光学フィルムを形.........