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スプッターによる堆積物

1 - 20 の結果 スプッターによる堆積物 から 2765 製品

銅/アルミニウム/カーボン放出させる装置、高真空のマグネトロンの放出させる沈殿システム UHVの放出させる沈殿システムはPVDの沈殿源として放出させる陰極を使用します。それはMFを放出させます常にcomibled、DCはindstrial PVDのコーティングの塗布のために放出させます。異な.........

Time : Dec,09,2024
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植物を金属で処理するコータの真空を放出させるために機械を金属で処理する380v真空 機械コーティング厚さのモニターが付いているアルミニウム コータを金属で処理する真空 この装置は酸化膜の、超伝導のフィルム、半導体のフィルム、ferroelectricフィルム、極度の堅いフィルム、等を準備す.........

Time : Nov,24,2024
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働き主義: 沈殿を行います放出させることによって薄膜の沈殿の蒸気沈殿(PVD)物理的な方法放出させて下さい。これはシリコンの薄片のような「基質」に源である「ターゲット」から材料を出すことを含みます。Resputteringはイオンまたは原子の衝突によって沈殿プロセスの間に沈殿させた材料の再放出です。......

Time : Aug,09,2023
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チタニウムの円柱放出させるターゲット、チタニウムの回転シリンダー ターゲット薄膜の沈殿、マグネトロン 高い純度の半導体の使用のための最大級密度の回転チタニウムの放出させるターゲットそして最も小さく可能な平均結晶粒度、化学気相堆積(CVD)および物理的な蒸気沈殿(PVD)表示および光学適用。 指.........

Time : Jun,05,2025
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自動車部品のChromeめっきの装飾の反射のコーティングのためのPVDのマグネトロンの放出させる機械連続的なコーティング Goldstoneは専門の真空を開発するために放出させる顧客の適用範囲が広い適用のための沈殿システムを従事している。自動車ミラーのコータは良質の表面鏡および青いミラーのた.........

Time : May,30,2025
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脈打ったレーザーの沈殿(PLD)システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

Time : Jul,15,2023
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"ターゲット"という単語は 日常生活で使われる ターゲット材料から由来しますコーティング材料は電子線またはイオン線で爆撃されます発射する材料は"発射対象"と呼ばれます 金属チタンからチタン発射標的へ タイタンのスプートリングターゲットは,チタン金属を原材料として製造したチタン製品で,.........

Time : May,30,2024
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製品説明:薄膜とコーティングの堆積のための滑らかで均質な表面を保証します. さらに,私たちの標的は99.99%の純度レベルを持っています.貯蔵されたフィルムとコーティングが高水準の純度と品質を有することを確保する. 10mmから600mmまでの厚さで提供されています. これは,幅広いアプリケ.........

Time : Nov,19,2024
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1,記述: モリブデンは,物理蒸気堆積 (PVD) プロセスで使用される高純度材料である. 薄膜堆積で様々な基質を塗装するために一般的に使用されます. モリブデンスプッターターゲットは優れた熱伝導性と電気伝導性を示しています. 高度な溶融点,良い粘着性,均質なフィルム堆積性で知られています. モリ.......

Time : Dec,07,2024
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超高純度ワルフスタン合金 W-Ti 発射標的 半導体物理蒸気堆積のためのプレート平面ビレット トルンプトンチタン (WTi) フィルムは半導体および太陽光電池産業におけるAlとSiの間の効果的な拡散障壁として機能することが知られている.WTiフィルムは通常,物理蒸気堆積 (PVD) によって薄膜とし......

Time : Sep,08,2024
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真空スプッティングコーティングのためのモリブデン標的 1真空スプッティングコーティング用モリブデン標的の記述: モリブデンのスプッターターゲットは,通常,モリブデンの粉末からシンター化されます.ほとんどの場合,シンター化されたモリブデンの粉末であるアノードから作られます.標的にアノードに.........

Time : Nov,28,2024
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高精度マグネットロンスプッターフィルム 製品説明: マグネティック・スプッティング・シリーズ (Magnetic Sputtering Series) は,研究開発プロジェクトのために高品質の薄膜を必要とする研究者や科学者の理想的な選択です.磁気記録メディアなどの様々なアプリケーションで薄膜堆積........

Time : Jan,27,2025
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正方形の純粋なチタニウムの放出させるターゲット高い純度99.995%の回状のチタニウムのチタニウムの放出させるターゲットチタニウムの放出させるターゲットPVDのコーティングの等級1のチタニウム アーク ターゲット チタニウム ターゲット チタニウムの放出させるターゲット99.9% Tioxの酸.........

Time : May,30,2024
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10.2g/cm3コーティングのための純粋なモリブデンの放出させるターゲット モリブデンの放出させるターゲットの導入 製品名 純度 密度 表面 処理 Moターゲット 99.95% 10.22g/cm3 地面.........

Time : Apr,04,2025
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高温抵抗力がある良質の石英ガラスの放出させるターゲット 二酸化ケイ素の放出させるターゲットはSiおよびO.の二酸化ケイ素(SiO2)を含んでいる、別名無水ケイ酸は惑星で最も豊富な材料の2から、自然な混合物作ったである:ケイ素(Si)および酸素(O2)。無水ケイ酸は最も一般に水晶の形にあると考.........

Time : Apr,04,2025
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トリッチ133*4*4113mm 304L 平面スプッターターゲットのスプッターターゲットのステンレス鋼管 トリッチ133*4*4113mm 304L スプッティングターゲットのステンレススチールチューブ グレード304L 仕様: 133*4*4113mm 過剰摂取の許容量:0.1-0.4mm.........

Time : Jul,12,2024
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PPM-T332Bの放出させるフィルム圧力送信機 製品紹介: PPM-T332Bの放出させるフィルム圧力送信機はイオン ビームの放出させるフィルムの技術、統合された構造、高精度で、大きい出力信号、等長くワーキング・ライフ、広く適当な温度較差および長期にわたる安定性、低い電力の消費、ヒステリ.........

Time : May,30,2024
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チタニウム ターゲットGr2 ASTM B381-06 OD153*11放出させるターゲット放出させる材料は放出させることを目標とする 項目名前 チタニウム ターゲット 等級 Gr2 材料 チタニウム 包装 木の場合の真空パック 配達の港 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 形 円......

Time : Apr,30,2024
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