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チタニウムの円柱放出させるターゲット、チタニウムの回転シリンダー ターゲット薄膜の沈殿、マグネトロン
高い純度の半導体の使用のための最大級密度の回転チタニウムの放出させるターゲットそして最も小さく可能な平均結晶粒度、化学気相堆積（CVD）および物理的な蒸気沈殿（PVD）表示および光学適用。
指定
| 構成 | チタニウム |
| 純度 |
CPの等級2 （99.5%）、CPの等級1 （99.7%）、 3N5 （99.95%）、4N （99.99%）、4N5 （99.995%） |
| 密度 | 4.51 g/cm3 |
| 結晶粒度 | < 50="" micron="" or="" on="" request=""> |
| 製作プロセス | 掃除機をかけ、溶けることに、機械で造る突き出ること造る |
| 形 | まっすぐに、犬用の骨 |
| 端のタイプ | SCI、SRF、DSF、RFF、WFF、VA、GPIは固定、顧客用螺線形の溝を終える |
| 表面 | RA 1.6ミクロンまたは要求あり次第 |
関連にマグネトロンの放出させる回転ターゲット
| マグネトロンの放出させるターゲット、/rotatingターゲット（管ターゲット） | |||||
| 項目 | 純度 | 密度 | 形 | 次元（mm） | |
| TiAlターゲット | 2N8-4N | 3.6-4.2 | 管、ディスク、版 |
OD70 X T 7 x L カスタマイズされる他 |
|
| Crターゲット | 2N7-4N | 7.19 | 管、ディスク、版 |
OD80 X T8 X L カスタマイズされる他 |
|
| チタニウム ターゲット | 2N8-4N | 4.51 | 管、ディスク、版 |
OD127 X ID105 X L OD219 X ID194 X L OD300 X ID155 X L カスタマイズされる他 |
|
| Zrターゲット | 2N5-4N | 6.5 | 管、ディスク、版 | カスタマイズされる他 | |
| Alターゲット | 4N-5N | 2.8 | 管、ディスク、版 | ||
| NIターゲット | 3N-4N | 8.9 | 管、ディスク、版 | ||
|
CUターゲット （銅） |
3N-4N5 | 8.92 | 管、ディスク、版 | ||
|
CUターゲット （黄銅） |
3N-4N5 | 8.92 | 管、ディスク、版 | ||
| Taターゲット | 3N5-4N | 16.68 | 管、ディスク、版 | OD146xID136x299.67 （3pcs） |
チタニウムの円柱放出させるターゲット映像:
