中国のカテゴリー
日本語
ホーム /

スプッター堆積

1 - 20 の結果 スプッター堆積 から 30 製品

プラスチック横の高真空は沈殿システムDc血しょうクリーニングを放出させます 横のDCの放出させる沈殿装置、高真空の放出させる沈殿システム システム応用を金属で処理するPVDのマグネトロンの放出させることおよび蒸発: ガラス ブレスレット、電子工学プロダクト陶.........

Time : Dec,09,2024
企業との接触

Add to Cart

PVD 垂直真空 プロの光学コーティングマシン 自動車タッチパネル スクリーン スプッティング 堆積 記述: 物理蒸気堆積 (PVD) コーティング機械は,様々な基板,主に金属に薄くて耐磨性のある装飾用コーティングを施すのに使用される洗練された工業機器である.基本原理は,固.........

Time : Mar,28,2026
企業との接触

Add to Cart

植物を金属で処理するコータの真空を放出させるために機械を金属で処理する380v真空 機械コーティング厚さのモニターが付いているアルミニウム コータを金属で処理する真空 この装置は酸化膜の、超伝導のフィルム、半導体のフィルム、ferroelectricフィルム、極度の堅いフィルム、等を準備す.........

Time : Nov,24,2024
企業との接触

Add to Cart

マグネトロンスパッタリング 技術概要 マグネトロンスパッタリングは、様々な基板上に高品質な薄膜を成膜するために広く使用されている汎用性の高い物理気相成膜(PVD)技術です。高真空チャンバー(圧力 < 10⁻³ Torr)内で貴ガス(例:アルゴン)をイオン化し、プラズマを生成します。プラズマからの高エ......

Time : Mar,26,2026
企業との接触

Add to Cart

チタニウムの円柱放出させるターゲット、チタニウムの回転シリンダー ターゲット薄膜の沈殿、マグネトロン 高い純度の半導体の使用のための最大級密度の回転チタニウムの放出させるターゲットそして最も小さく可能な平均結晶粒度、化学気相堆積(CVD)および物理的な蒸気沈殿(PVD)表示および光学適用。 指.........

Time : Apr,07,2026
企業との接触

Add to Cart

自動車部品のChromeめっきの装飾の反射のコーティングのためのPVDのマグネトロンの放出させる機械連続的なコーティング Goldstoneは専門の真空を開発するために放出させる顧客の適用範囲が広い適用のための沈殿システムを従事している。自動車ミラーのコータは良質の表面鏡および青いミラーのた.........

Time : Jun,21,2025
企業との接触

Add to Cart

脈打ったレーザーの沈殿(PLD)システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

Time : Jul,15,2023
企業との接触

Add to Cart

&quot;ターゲット&quot;という単語は 日常生活で使われる ターゲット材料から由来しますコーティング材料は電子線またはイオン線で爆撃されます発射する材料は&quot;発射対象&quot;と呼ばれます 金属チタンからチタン発射標的へ タイタンのスプートリングターゲットは,チタン金属を原材料とし......

Time : Feb,02,2026
企業との接触

Add to Cart

スカンジウム噴射標的は,鉄電,ピエゾ電,光学コーティング,特殊半導体分野で広く使用される高純度先進機能材料です.この製品は高純度スカンジウム金属から精密加工で製造されています優れたフィルム均一性,構造密度,スプッター安定性がある.様々な物理蒸気堆積プロセスに適しています.マグネトロン発射やパルスレー......

Time : Mar,09,2026
企業との接触

Add to Cart

1,記述: モリブデンは,物理蒸気堆積 (PVD) プロセスで使用される高純度材料である. 薄膜堆積で様々な基質を塗装するために一般的に使用されます. モリブデンスプッターターゲットは優れた熱伝導性と電気伝導性を示しています. 高度な溶融点,良い粘着性,均質なフィルム堆積性で知られています. モリ.......

Time : Dec,07,2024
企業との接触

Add to Cart

超高純度ワルフスタン合金 W-Ti 発射標的 半導体物理蒸気堆積のためのプレート平面ビレット トルンプトンチタン (WTi) フィルムは半導体および太陽光電池産業におけるAlとSiの間の効果的な拡散障壁として機能することが知られている.WTiフィルムは通常,物理蒸気堆積 (PVD) によって薄膜とし......

Time : Sep,08,2024
企業との接触

Add to Cart

真空スプッティングコーティングのためのモリブデン標的 1真空スプッティングコーティング用モリブデン標的の記述: モリブデンのスプッターターゲットは,通常,モリブデンの粉末からシンター化されます.ほとんどの場合,シンター化されたモリブデンの粉末であるアノードから作られます.標的にアノードに.........

Time : Nov,28,2024
企業との接触

Add to Cart

高精度マグネットロンスプッターフィルム 製品説明: マグネティック・スプッティング・シリーズ (Magnetic Sputtering Series) は,研究開発プロジェクトのために高品質の薄膜を必要とする研究者や科学者の理想的な選択です.磁気記録メディアなどの様々なアプリケーションで薄膜堆積........

Time : Jan,27,2025
企業との接触

Add to Cart

半導体物理気相成長(PVD)における石英製ボトムライナー0200-11112は、真空チャンバーの底部に配置される高純度石英製の保護部品です。金属汚染からのシールドとして機能し、スパッタ堆積からチャンバー表面を保護し、ウェーハ加工のためのクリーンで一貫性のある均一な環境の維持を支援します。 説.........

Time : Mar,13,2026
企業との接触

Add to Cart

製品概要 Westglassのマグネトロンスパッタリングカーウィンドウフィルムは、真空マグネトロンスパッタリング技術を採用し、精密スパッタリングによってナノスケールの金属粒子を超薄型PET基板に堆積させ、多層複合光学フィルムを形.........

Time : Apr,06,2026
企業との接触

Add to Cart

Glass Industryのための高いPurity Molybdenum Tube Molybdenum Rotatable Target 放出させることはPhysical Vapor Deposition (PVD)方法の新型である。 放出させることは広く利用されている:フラット.........

Time : Feb,10,2026
企業との接触

Add to Cart

6mm魚飼育用の水槽またはアクアリウムのための低い反射ARガラス超明確なガラス ARガラスはまたAntiを反射ガラスと電話される、ARガラスの生産の原則は効果的にガラスの反射自体を減らすことができる普通の和らげられたガラス表面でVacuumのマグネトロンの放出させる沈殿技術を示したガラスの伝送を増加......

Time : Feb,07,2026
企業との接触

Add to Cart

お問い合わせカート 0