物理蒸気堆積装置

フォシャン 高効率の中国 ステンレス鋼 物理蒸気堆積装置 記述:PVDコーティングマシンは,物理的な蒸気堆積プロセスを利用して表面処理のための先進技術です.それは優れたコーティング品質を保証し,耐久性を高め,耐磨性精密な堆積処理の制御により,特定の用途に合わせた均質で密度の高いコーティングが得ら........

SiC PVDの皿 炭化ケイ素PVDの皿は地殻均衡プロセスによって押すおよび高温の焼結形作られる。タブレットの溝のacupoints、位置および形の外の直径、厚さ、数およびサイズはまたユーザーの特定の条件を満たすユーザーの設計デッサンの条件に従って終了する。 典型的な適用 物理的な蒸気沈殿（PVD）......

製品説明: 物理蒸気沉積 (PVD) は,時計やその他の表面に保護用および装飾用コーティングおよび仕上げを施す広く使用される技術である.この 費用 効果 的 な 方法 は 耐久 性 を 向上 さ せる腕時計には,以下のような様々なPVDコーティングが市場に出されています. 1. DLC (ダイ.........

保証 1 年 タイプ コーティング生産ライン 電圧 380V または 要求 コーティング バキュームコーティング 主要な部品 PLC,モーター,ポンプ,真空機械室 ビデオ出勤検査 提供 機械の試験報告 提供.........

Goldstoneの真空の技術は車ミラーのための専門機械を背面図ミラーおよび側面ミラー両方発達させた。機械は最低のサイズに車ミラーのための専門の設計の高出力を与えるためにあるが。コーティングの質は建築ガラスのための大きい放出させる機械として同じであるしかし小さい機械は大きい機械投資およびエネルギー・......

粒状純度99.95%、99.99%の、99.999% 3x3mm、6x6mm、3x6mmにニッケルを被せなさい 高い純度材料、超高度純度材料、半導体の高い純度材料 材料の世界は4Nからの7Nに高純度材料を提供する:半導体の企業およびエレクトロニクス産業の基本原料が、高純度材料さまざまな産業分.........

133OD*125ID*2940Lはフランジのチタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 ASTM B861-06を目標資料の真空メッキ含んでいる 名前 チタニウムの管ターゲット 標準 ASTM B861-06 輸送のパッケージ 木の場合の真空パック 起源 宝鶏市、シャンシー、中国 港の渡すため 西......

超高純度ワルフスタン合金 W-Ti 発射標的 半導体物理蒸気堆積のためのプレート平面ビレット トルンプトンチタン (WTi) フィルムは半導体および太陽光電池産業におけるAlとSiの間の効果的な拡散障壁として機能することが知られている.WTiフィルムは通常,物理蒸気堆積 (PVD) によって薄膜とし......

CVD化学気相成長炉 1000℃ 溶解加熱炉 製品仕様 属性 値 用途範囲 産業用...

蒸気堆積炉は,金属ハロイド,金属有機化合物,目標材料の表面に固体堆積物を生成するために,特異圧力下での炭化水素および他の反応源また,C/C複合材料,SiC複合材料,CVDなどの炭素源として炭化水素ガス (C3H8など) を含む複合材料の化学蒸気堆積に使用されます.CVI処理. 特徴: 1.........

製品説明:化学蒸気堆積塗装機,CVD塗装機としても知られています化学堆積装置の最先端の部品で 異なる基質を塗装する際の性能が 卓越していますこの先進機器は,様々な前駆物やプロセスガスを利用して高品質のコーティングを提供するために設計されており,幅広い産業のための汎用的なソリューションとなっています.......

実験室血しょうは1200度まで化学気相堆積の炉を高めました 理性的なPECVDの紹介: PECVDシステムは従来のCVDの反作用の温度を減らすように設計されています。それはガスの反応をイオン化するために従来のCVDの前のRFの誘導装置を取付けました従って血しょうは発生します。血しょうの高い活動は反作......

高画質の多層蒸気堆積型BOPP/PET複合フィルム精密グラフィック転送のための熱融合結合鏡仕上げ基板わかった ポイント 高画質の多層蒸気堆積型BOPP/PET複合フィルム精密なグラフィック転送のための熱融合結合鏡仕上げ基板 長さ 200~3000mかカスタマイズ 厚さ 21 マ.........

7*7*0.3mm Cvd 種子 高品質 化学蒸気堆積 ダイヤモンド 種子 CVDダイヤモンド (CVDダイヤモンド,CVDダイヤモンド,CVDダイヤモンド,CVDダイヤモンド,CVDダイヤモンド,CVDダイヤモンド,CVDダイヤモンド,CVDダイヤモンド,CVDダイヤモンド,CVDダイヤモンド,C......

7x7 化学気相成長ダイヤモンドチップ 合成CVDダイヤモンドシード 属性 値 サイズ 7*7*0.3mm...

血しょうによって高められる化学気相堆積PECVDシステム機械 マイクロウェーブまたは無線周波数の原子含んでいるガスのイオン化によるPECVDシステムは、期待された薄膜を沈殿させ、形作るために容易に反応する活動的な血しょうを局部的に作成する。それはZnOのnanostructuresの陶磁器の基質の伝......

化学蒸気堆積 (CVD) システム 最終真空 5*10-3Pa 真空コーティングマシン 適用範囲バキュームコーティングマシン: 半導体チップ産業,太陽光発電,LEDなどの産業におけるフィルム堆積 製品の特徴バキュームコーティングマシン: 精密に最適化されたガス配送と流量場設計と 知的反応圧力.........

CVD 大型単結結晶ダイヤモンド CVD シングル結晶ダイヤモンド 70GPa-120GPa 化学蒸気堆積ダイヤモンド 尺寸: ≤ 20*20*3mm 窒素含有量:0.1〜10ppm 硬さ:70〜120 GPa ユングモジュール:1050 GPa 熱伝導性 1800-2300W/mK @室温 熱........

化学蒸気堆積 CVD ウォルフタン製品 半導体 ウォルフタンリング ワルフスタンリングは,幅,厚さ,リング直径でカスタマイズすることができます. ワルフスタンリングは,カスタマイズされた形状の穴があり,開くか閉まる可能性があります. アメリカン・エレメントは,高純度,高純度,高純度,高純度,高純........