Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd

ヘーフェイ・チーサーム・エクアピュートメント株式会社

Manufacturer from China
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CVD 化学蒸気堆積炉 1000 オールダムC 溶融熱炉

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Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd
シティ:hefei
省/州:anhui
国/地域:china
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CVD 化学蒸気堆積炉 1000 オールダムC 溶融熱炉

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モデル番号 :MBF100-10
応用範囲 :産業用
タイプ :電動のストーリングオーブン
使用 :セラミック・シンタリング
燃料 :電気
大気 :窒素
効率的な部屋の大きさ :640*640*250mm (W*H*D)
輸送パッケージ :木製の包装
仕様 :1200*1200*1500mm
商標 :チーサーム
原産地 :中国
HSコード :8514101000
供給能力 :50セット/年
カスタマイズ :入手可能
場所のスタイル :垂直
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CVD化学気相成長炉 1000℃ 溶解加熱炉
製品仕様
属性
用途範囲 産業用
タイプ 電気保持炉
使用法 セラミック焼結
燃料 電気
雰囲気 窒素
有効チャンバー寸法 640*640*250mm (W*H*D)
輸送パッケージ 木製パッケージ
仕様 1200*1200*1500mm
商標 Chitherm
原産地 中国
HSコード 8514101000
供給能力 50セット/年
カスタマイズ 利用可能
認証 ISO
設置スタイル 垂直
製品概要

MBF100-10型化学気相成長(CVD)炉は、電子製品の中温熱処理用に設計されています。窒素、ヘリウム、アセチレン、水素雰囲気下で気相反応プロセスを実行し、保護雰囲気下での焼結プロセスにも使用できます。

技術仕様
  • 定格温度: 750℃
  • 最高温度: 1000℃
  • 加熱ゾーン寸法: 770 × 770 × 300 mm (W × D × H)
  • 有効寸法: 640 × 640 × 250 mm (W × D × H)
  • 外側チャンバー材質: SUS310S
  • 内側ライナー材質: 溶融石英
  • 製品サイズ: φ120
  • 装置容量: バッチあたり16枚の基板
  • 最大加熱電力: 16 kW
  • 加熱方法: 下部 + 四側面
  • 温度制御ポイント: 下部 + 側面
  • 熱電対タイプ: K型
  • 加熱速度: ≤8℃/分
  • 発熱体: FECセラミックファイバーヒーター
  • 炉扉開閉方法: 上開き設計
  • 温度制御安定性: ±1℃
  • 温度制御計器: 輸入PIDコントローラー(自動調整機能付き)
  • プログラムステップ: 20ステップ
  • アラームと保護: 過熱、熱電対断線アラーム(電源オフ保護付き)
  • 表面温度上昇: <35℃
  • 重量: 約500kg
  • 炉寸法: 約1200×1200×1500mm (W×H×D)
CVD 化学蒸気堆積炉 1000 オールダムC 溶融熱炉
納品リスト
項目 備考 数量
基本構成 1台
検査証明書 炉および主要購入部品 1セット
技術文書 炉仕様、主要購入部品の技術文書 1セット
質量流量コントローラー(MFC) YamatakeまたはHORIBA 4セット
タッチスクリーン 1台
温度コントローラー 1セット
FECヒーター 1セット
石英ライナー 1セット
SSR 1台
設備要件
  • 環境条件: 温度0~40℃、湿度≤80%RH、腐食性ガスなし、強い気流の乱れなし
  • 接地要件: 水平、明らかな振動なし、耐荷重>500Kg/m²
  • 電源条件: 容量22kVA以上、3相5線、電圧220/380V、周波数50Hz
  • 設置場所: 1500mm×1500mm×3000mm (W×H×D)、設置面積2.5m²以上
CVD 化学蒸気堆積炉 1000 オールダムC 溶融熱炉
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