金属を噴射する標的

金属スプッティングターゲット タイタン アルミウム クロム ツルコニウム ニッケル ニオビウム タントルム モリブデン PVDコーティング蒸発 金属噴射標的は,物理蒸気堆積 (PVD) プロセスで材料を薄い金属層でコーティングするために使用されます.噴射標的に使用される一般的な金属には.........

チタニウム ターゲット放出させるコーティングのチタニウムの高い純度のチタニウム ターゲット純度99.99%のチタニウム ターゲット放出させるターゲット（純度:99.9%-99.999%）正方形の純粋なチタニウムの放出させるターゲット高い純度99.995%の回状のチタニウムのチタニウムの放出させるター......

金属スプッティングターゲット Gr1 Gr2 Gr5 チタンスプッティング シルバースプッティングターゲット 商品の詳細: グレード: Gr1 Gr2 Gr5 チタン,TiAl,TiCr,TiCu,TiSi,Mo,Crなど お客様の要求に応じて サイズ: 60/65/70/80/85/90/.........

高い純度の金属の放出させるターゲット ジルコニウムは酸素のための大きい類縁の活動的な金属であり、多数の腐食性の環境で有能である場合もあることを酸化膜の優秀な耐食性は定める。 3. ジルコニウムに200℃の下で硝酸でよい耐食性が90%以下ある。但し、硝酸のジルコニウムの応力腐食割れの感受性は注意.........

超高純度ワルフスタン合金 W-Ti 発射標的 半導体物理蒸気堆積のためのプレート平面ビレット トルンプトンチタン (WTi) フィルムは半導体および太陽光電池産業におけるAlとSiの間の効果的な拡散障壁として機能することが知られている.WTiフィルムは通常,物理蒸気堆積 (PVD) によって薄膜とし......

純粋なチタニウムの99.99% 4nディスク高い純度のチタニウムの金属の放出させるターゲット チタニウムは金属および延性がある。5,090 m/s.のレートで健全な旅行。チタニウムの主要な特徴は低密度、高い機械強さおよび容易な処理である。新しいチタニウムの合金によい熱抵抗があり、600℃か高温で長.......

10.2g/cm3コーティングのための純粋なモリブデンの放出させるターゲット モリブデンの放出させるターゲットの導入 製品名 純度 密度 表面 処理 Moターゲット 99.95% 10.22g/cm3 地面.........

高温抵抗力がある良質の石英ガラスの放出させるターゲット 二酸化ケイ素の放出させるターゲットはSiおよびO.の二酸化ケイ素（SiO2）を含んでいる、別名無水ケイ酸は惑星で最も豊富な材料の2から、自然な混合物作ったである:ケイ素（Si）および酸素（O2）。無水ケイ酸は最も一般に水晶の形にあると考.........

脈打ったレーザーの沈殿（PLD）システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

ターゲットPure>3N5 127*458*10クロムの放出させるターゲットをクロムめっきにしなさい 項目名前 ターゲットをクロムめっきにしなさい サイズ OD127*ID458*10 純粋 Pure>3N5 包装 木の場合の真空パック 場所の港 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 ......

半導体工業のためのモリブデンの放出させるターゲット 1. 半導体工業のためのモリブデンの放出させるターゲットの記述: モリブデンは高温に拡張の顕著な機械質、低い係数、強い熱伝導性および特別に高い電気伝導率の多目的で処理し難い金属である。純粋なモリブデン ターゲット、モリブデンのチタニ.........

1,記述: 材料: モリブデン 噴射 ターゲットは,高溶融点,優れた熱電導性,耐腐蝕性で知られる耐火性のある金属であるモリブデンで作られています.モリブデンは,スプートリングアプリケーションに広く使用されています.. 形状と構造:モリブデンスプッターターゲットは,通常,円形または長方形で.........

アルミニウム シートによってカスタマイズされるアルミニウム アルミニウム価格のAlの放出させるターゲットを薄板金 7075アルミニウムの適用 タイプ7075アルミニウムは1最も強いアルミ合金である。その高い降伏強さ（>500 MPa）および低密度は重い摩耗に応じて材料に航空機の部品または部品のような......

トリッチ133*4*4113mm 304L 平面スプッターターゲットのスプッターターゲットのステンレス鋼管 トリッチ133*4*4113mm 304L スプッティングターゲットのステンレススチールチューブ グレード304L 仕様: 133*4*4113mm 過剰摂取の許容量:0.1-0.4mm.........

ニッケルの酸化物（NiO）の放出させるターゲット純度---99.9% Denstiy---7.45g/cm3 R.i.---2~2.1融点---1410℃透明のウェーブ バンド----0.52のum形---ディスク、版、ステップ（Dia ≤200mm、厚さ≥1mm）長方形、シート、ステップ（長さ......

高純度99.95%ニオブおよびニオブ合金スパッタリングターゲット ニオブとは？ ニオブは原子番号 41 の化学元素であり、記号 Nb で表されます。周期表. これは、表面に酸化物層が存在するため、腐食に強い柔軟で延性のある遷移金属です。 これは、地球の地殻に見られる最も一般的な元素の 1.........

NI 200のニッケルは放出させるターゲット純粋なニッケル合金のニッケル ベースの合金を合金にする 製品の説明 製品名 ニッケル200......