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Hangzhou Freqcontrol Electronic Technology Ltd.

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シティ：hangzhou

省/州：shanghai

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シリコンの薄片

8"への2"主の磨かれたシリコンの薄片、テスト、標準モニター、半

8"への直径2"は広い応用範囲で基質材料として主の磨かれたシリコンの薄片、テスト、モニター、半標準的なシリコンの薄片使用される。それらは現代電子工学のブロックである。BonTekは主な、テスト、モニター、半標準を、および2 ″からの300mmにすべての直径のカスタマイズされたシリコンの薄......

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12"への2"半導体のための高い抵抗のPのタイプNのタイプシリコンの薄片

12"への2"単結晶のインゴットからウエファーの処理まで及ぶ統合された方法の半導体の半導体のBonTekの農産物のシリコンの薄片のための高い抵抗のPのタイプNのタイプシリコンの薄片（12インチまたはより少し）。私達は両極集積回路、分離した回路およびMEMSの大量生産されたウエファーのための......

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ほう素は半導体のための高い抵抗のリンによって添加されたシリコンの薄片を添加した

ほう素は半導体のシリコンの薄片のための高い抵抗のリンによって添加されたシリコンの薄片をである薄い切れの純粋な結晶化させたケイ素添加した。ウエファーのこれらの純粋な形態は普通undopedまたは本質的なシリコンの薄片呼ばれる。半導体の企業でシリコンの薄片を使用するための理由の1......

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8"へのファイ2"絶縁の酸化物の層との熱酸化物のシリコンの薄片のNタイプのPタイプ

8"へのファイ2"絶縁の酸化物の層との熱酸化物のシリコンの薄片のNタイプのPタイプ BonTekは良質のケイ素の2 ″からの300mmにすべての直径の熱酸化物のウエファーを提供する。私達は熱酸化物の高い均一層が炉で形作られるようにあなたの特定の条件が主な等級を選び、基質ことをとして自由なシリ......

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12インチの半導体のシリコンの薄片の主なテスト模造のウエファー

12インチのシリコンの薄片の主なテスト模造のウエファーシリコンの薄片は人々の生命を改善するすべてのタイプの電子デバイスで見つけることができる半導体を作り出すために使用される材料である。ケイ素は宇宙の共通の要素として二番目に来る;それは技術および電子セクターで半導体として大抵使用される。......

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半導体シリコンウェーハプライムグレード 3インチ～12インチ

半導体のシリコンの薄片の主な等級3インチから12インチシリコンの薄片は人々の生命を改善するすべてのタイプの電子デバイスで見つけることができる半導体を作り出すために使用される材料である。ケイ素は宇宙の共通の要素として二番目に来る;それは技術および電子セクターで半導体として大抵使用される。......

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