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Nは、ガリウム砒素のウエファー、4"、テスト等級タイプします
PAM-XIAMENは単結晶を両方提供し、LD、LED、マイクロウェーブ回路および太陽電池の塗布の光電子工学およびマイクロエレクトロニクスの企業のための多結晶性GaAsのウエファー(ガリウム砒素)はさまざまな厚さおよびオリエンテーションの6"に2"からの直径の範囲に、ウエファーあります。私達は2つの主要な成長の技術LECおよびVGF方法によって作り出される単結晶GaAsのウエファーを提供しま電気特性および優秀な表面質の高い均等性を顧客にGaAs材料の最も広い選択与えることを私達を許可します。ガリウム砒素は行なう両方インゴットおよび磨かれたウエファーとして、供給することができ、半絶縁GaAsのウエファー、機械等級およびepiの準備ができた等級はすべて利用できます。私達はあなたのMOCVDおよびMBEの適用のために適した低いEPDの価値および高い表面質のGaAsのウエファーを提供してもいいです。PAM-XIAMENは広い範囲の等級を作り出すことができます:主な等級、テスト等級および光学等級。より多くのウエファー情報のための私達のエンジニアのチームに連絡して下さい。
(LEDの塗布のためのGaAs)ガリウム砒素のウエファー
項目 | 指定 | |
伝導のタイプ | SC/nタイプ | |
成長方法 | VGF | |
添加物 | ケイ素 | |
ウエファーDiamter | 4、インチ | |
水晶オリエンテーション | (100) 2°/6°/15°を離れた(110) | |
の | EJか米国 | |
キャリア集中 | (0.4~2.5) E18/cm3
| |
RTの抵抗 | (1.5~9) E-3 Ohm.cm | |
移動性 | 1500~3000cm2/V.sec
| |
腐食ピット密度 | <5000/cm2 | |
レーザーの印 | 要望に応じて
| |
表面の終わり | P/EまたはP/P
| |
厚さ | 220~450um
| |
準備ができたエピタクシー | はい | |
パッケージ | 単一のウエファー容器かカセット |
(LDの適用のためのGaAs)ガリウム砒素のウエファー
項目 | 指定 | 注目 |
伝導のタイプ | SC/nタイプ | |
成長方法 | VGF | |
添加物 | ケイ素 | |
ウエファーDiamter | 4、インチ | インゴットかようにカットの利用できる |
水晶オリエンテーション | (100) 2°/6°/15°off (110) | 利用できる他のmisorientation |
の | EJか米国 | |
キャリア集中 | (0.4~2.5) E18/cm3 | |
RTの抵抗 | (1.5~9) E-3 Ohm.cm | |
移動性 | 1500~3000のcm2/V.sec | |
腐食ピット密度 | <500/cm2 | |
レーザーの印 | 要望に応じて | |
表面の終わり | P/EまたはP/P | |
厚さ | 220~350um | |
準備ができたエピタクシー | はい | |
パッケージ | 単一のウエファー容器かカセット |
GaAsの水晶の特性
特性 | GaAs |
Atoms/cm3 | 4.42 x 1022 |
原子量 | 144.63 |
故障分野 | およそ4 x 105 |
結晶構造 | Zincblende |
密度(g/cm3) | 5.32 |
比誘電率 | 13.1 |
伝導帯、NC (cm-3)の州の有効な密度 | 4.7 x 1017 |
原子価バンドの州、Nv (cm-3)の有効な密度 | 7.0 x 1018 |
電子親和力(v) | 4.07 |
300K (eV)のエネルギー ギャップ | 1.424 |
本質的なキャリア集中(cm-3) | 1.79 x 106 |
本質的なデバイの長さ(ミクロン) | 2250 |
本質的な抵抗(オームcm) | 108 |
格子定数(オングストローム) | 5.6533 |
線形熱膨張率、 | 6.86 x 10-6 |
ΔL/L/ΔT (1のdeg C) | |
融点(deg C) | 1238 |
少数キャリアの寿命(s) | およそ10-8 |
移動性(漂流) | 8500 |
(/V-s cm2の) | |
µnの電子 | |
移動性(漂流) | 400 |
(/V-s cm2の) | |
µpの穴 | |
光学音量子エネルギー(eV) | 0.035 |
音量子の平均自由行程(オングストローム) | 58 |
比熱 | 0.35 |
(J/g deg C) | |
300 Kの熱伝導性 | 0.46 |
(W/cm-degC) | |
温度伝導率(cm2/秒) | 0.24 |
蒸気圧(Pa) | 1050のdeg Cの100; |
900のdeg Cの1 |
波長 | 索引 |
(µm) | |
2.6 | 3.3239 |
2.8 | 3.3204 |
3 | 3.3169 |
3.2 | 3.3149 |
3.4 | 3.3129 |
3.6 | 3.3109 |
3.8 | 3.3089 |
4 | 3.3069 |
4.2 | 3.3057 |
4.4 | 3.3045 |
4.6 | 3.3034 |
4.8 | 3.3022 |
5 | 3.301 |
5.2 | 3.3001 |
5.4 | 3.2991 |
5.6 | 3.2982 |
5.8 | 3.2972 |
6 | 3.2963 |
6.2 | 3.2955 |
6.4 | 3.2947 |
6.6 | 3.2939 |
6.8 | 3.2931 |
7 | 3.2923 |
7.2 | 3.2914 |
7.4 | 3.2905 |
7.6 | 3.2896 |
7.8 | 3.2887 |
8 | 3.2878 |
8.2 | 3.2868 |
8.4 | 3.2859 |
8.6 | 3.2849 |
8.8 | 3.284 |
9 | 3.283 |
9.2 | 3.2818 |
9.4 | 3.2806 |
9.6 | 3.2794 |
9.8 | 3.2782 |
10 | 3.277 |
10.2 | 3.2761 |
10.4 | 3.2752 |
10.6 | 3.2743 |
10.8 | 3.2734 |
11 | 3.2725 |
11.2 | 3.2713 |
11.4 | 3.2701 |
11.6 | 3.269 |
11.8 | 3.2678 |
12 | 3.2666 |
12.2 | 3.2651 |
12.4 | 3.2635 |
12.6 | 3.262 |
12.8 | 3.2604 |
13 | 3.2589 |
13.2 | 3.2573 |
13.4 | 3.2557 |
13.6 | 3.2541 |
GaAsプロセスは何ですか。
GaAsのウエファーは装置製作前に準備されなければなりません。始まるためには、それらはスライス プロセスの間に起こるかもしれない損傷を取除くように完全にきれいにならなければなりません。ウエファーはそれから最終的で物質的な取り外しの段階のための化学的に機械的に(CMP)磨かれましたり/Plaranrized。これは原子スケールの残りの荒さの超平らで鏡のような表面の達成を可能にします。後それは、ウエファー製作の準備ができています完了します。
結晶構造 | 亜鉛閃亜鉛鉱 |
対称のグループ | Td2-F43m |
1 cm3の原子の数 | 4.42·1022 |
de Broglieの電子波長 | 240 A |
Debyeの温度 | 360 K |
密度 | 5.32 g cm3 |
比誘電率(静的な) | 12.9 |
比誘電率(高周波) | 10.89 |
有効な電子固まり私 | 0.063mo |
有効な穴はmhを集中します | 0.51mo |
有効な穴はmlpを集中します | 0.082mo |
電子親和力 | 4.07 eV |
格子定数 | 5.65325 A |
光学音量子エネルギー | 0.035のeV |
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