​​半導体プラズマ発生器用コーティングオプション付きカスタム石英ベルジャー​​

以下は、半導体プラズマ発生器における石英ベルジャーの主要パラメータの概要であり、主要な仕様を強調しています。

半導体プラズマ発生器における石英ベルジャーの役割は、「プラズマ反応のための理想的な空間の作成と保護」と理解できます​​。

• ​​密閉環境の確立：​​石英ベルジャーは、シール（Oリングなど）を介して金属ベースプレートなどのコンポーネントと組み合わせて、​​密閉された反応チャンバー​​を形成します。プロセスが開始される前に、真空システムはベルジャーの内部を高度真空（例：10⁻⁶〜10⁻⁹ Torrのオーダー）に排気し、空気中の水分や酸素などの不純物を完全に除去し、プラズマ反応のための純粋な「ステージ」を提供します。

• ​​注入と励起：​​高純度プロセスガス（例：エッチング用のCF₄、堆積用のSiH₄、または補助ガスAr）は正確に制御され、ベルジャーに注入されます。その後、マイクロ波や無線周波数などのエネルギー源がこれらのガスを励起し、それらをイオン化して​​プラズマ​​を形成します。プラズマには、高度に活性なイオン、電子、ラジカルが含まれています。

• ​​反応の持続：​​反応中、石英ベルジャーの​​高い化学的安定性と低いアウトガス​​が重要です。プラズマによるチャンバー壁の腐食と浸食に効果的に抵抗し、ベルジャー自体が汚染源になるのを防ぎ、プロセスの整合性とウェーハ製品の純度を保証します。

石英ベルジャーの主な用途​​

上記の特性に基づいて、石英ベルジャーは主に以下の主要な半導体製造プロセスで使用されています。

• ​​プラズマCVD（PECVD）：​​ PECVDプロセスでは、石英ベルジャーは窒化ケイ素や二酸化ケイ素などの膜を堆積するための安定した反応環境を提供します。その高い純度と耐熱性は、堆積された膜の品質を保証します。

• ​ドライエッチング：​​ エッチングプロセスでは、石英ベルジャーは高度に腐食性のフッ素系、塩素系プラズマに耐えることができ、反応チャンバーの他のコンポーネントを保護し、エッチングプロセスの均一性と再現性を維持します。
• ​マイクロ波プラズマCVD（MPCVD）：​​ 大型の高品質ダイヤモンド膜（半導体放熱など）を製造するためのMPCVDなどの高度なプロセスでは、石英ベルジャーは、純粋なプラズマ環境を作り出す能力があるため、重要なコンポーネントです。

ZMSHについて

ZMSHは、半導体、光電子、ハイエンド製造部門向けの高性能材料ソリューションの提供を専門としています。プラズマプロセス装置（石英ベルジャーなど）の主要コンポーネントをカスタマイズする成熟した能力を備えたZMSHは、シーリング、耐熱性、プラズマ耐食性に関してクライアントの要件に合わせて調整された高純度石英材料を採用しています。同社は、エッチング、CVD、その他のプロセスで安定した性能を確保するために、寸法、フランジインターフェース、光透過率を正確に制御しています。

さらに、ZMSHは、サファイア光学窓と基板、炭化ケイ素（SiC）パワーデバイス基板、シリコンウェーハ、石英カスタムコンポーネント、SOIウェーハなど、さまざまなカスタマイズされた製品を提供しています。これらの製品は、材料の準備から精密加工（切断、研削、研磨など）までのフルチェーンサービスをカバーし、家電製品、航空宇宙、医療機器などの業界における高い硬度、熱伝導率、絶縁性の厳しい要求を満たしています。

材料の研究開発を柔軟な製造システムと統合することにより、ZMSHは、クライアントの技術革新と製品アップグレードをサポートする、非標準製品の迅速なプロトタイピングとバッチ納品を可能にします。