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SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD
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6インチ 8インチ 12インチ LPCVD酸化炉 ポリシリコンとシリコン酸化物の均一薄膜堆積
製品の詳細
LPCVD酸化炉の要約 6インチ 8インチ 12インチ LPCVD酸化炉 ポリシリコンとシリコン酸化物の均一薄膜堆積 LPCVD (低圧化学蒸気堆積) システムは半導体製造における重要な薄膜堆積装置として使用され,主にポリシリコン,シリコン酸塩,シリコン酸化フィルムこの技術の主要利点は以下の通りで...
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