2インチ半絶縁インディアム・フォスフィード INP エピタキシアル・ウェーファー LDレーザーダイオード,半導体エピタキシアル・ウェーファー,3インチ INPウェーファー,シングルクリスタルウェーファー 2インチ 3インチ 4インチ INP基板,半導体ウエファー,INPレーザーエピタキシャルウエファー

InP レーザーエピタキシアルウェーバーの特徴

- INPウエフルを製造するために使用する

- デザインアートワークでカスタマイズされたものをサポートします

レーザーで使われていますレーザーで使われています

- 1.3μmから1.55μmの波長範囲で,量子井戸構造

- MOCVD や MBE,エッチング,金属化,包装などの技術を使用して,最終的な形状を達成します

InPレーザーエピタキシアル・ウェーバーについて

InPエピタキシアルウエファーは,光電子機器および高周波電子機器の製造に広く使用されるインジアム・フォスフィード (InP) 材料に基づく高品質の薄膜である.

金属有機化学蒸気堆積 (MOCVD) や分子ビームエピタキシ (MBE) などの技術で InP基板で栽培されるエピタキシアル・ウェーバーは優れた結晶質と制御可能な厚さを持っています.

このエピタキシアル・ウェーファーの直接帯域格差特性により,レーザーと光検出器で特に1.3μmと1.3μmの光通信アプリケーションで良好な性能を発揮する.55μm波長範囲低損失と高帯域幅のデータ転送を保証します.

同時に,InPエピタキシアルウエフルの高い電子移動性と低騒音特性により,高速および高周波アプリケーションでも重要な利点があります.

さらに,統合光電子回路と光ファイバー通信技術の継続的な発展により,InP エピタキシアルウエフルの応用展望はますます広がっています現代の光電子機器やシステムに不可欠で重要な材料となっています.

センサーへの応用関連技術の進歩を促進し,将来の科学技術革新の基礎を築きました..

InP レーザーエピタキシアル・ウェーバーの詳細

製品パラメータ	DFB上位軸のウエフラー	高功率DFB エピタキシアル・ウェーファー	シリコンフォトニクスエピタキシアル・ウェーファー
税率	10G/25G/50G	/	/
波長	1310nm
サイズ	2 / 3 インチ
製品の特徴	CWDM 4/PAM 4	BH技術	PQ/AlQ DFB
PL 波長制御	3nmより良い
lPL 波長均一性	1nm @inner より STD.Dev より良い
厚さ制御	42mm +3%より良い
厚さの均一性	+3% @inner 42mm より良い
ドーピング対策	+10%以上
P-lnPドーピング (cm-3)	Znドーピング 5e17から2e18
N-InPドーピング (cm-3)	Siドーピング 5e17〜3e18