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10x10mm 5x5mmは正方形sicの基質、1inch sicのウエファー、sicの水晶破片、sicの半導体の基質、6H-N SICのウエファー、高い純度の炭化ケイ素のウエファーをカスタマイズしました
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私達はpolytype 4HのSiCのウエファー、SiCの小国家および研究者および企業の製造業者のための異なった質等級の6Hのための半導体材料を、特に提供します。私達はSiCの結晶成長の工場とのよい関係があり、また持っています製造業者SiCの基質およびSiCのウエファーに生産ライン確立されるSiCのウエファーの加工技術を所有します。高度およびハイテクで物質的な研究および州の協会および中国の半導体の実験室の分野からの一流の製造業者によって投資される絶えずSiCのウエファー、現在小国家の質を改善し、大型の基質を開発するために専門の会社が私達捧げられるように。
アプリケーション領域
高周波および高い発電の電子デバイスのショットキー1つのダイオード、JFET、BJT、PiN、
ダイオード、IGBT、MOSFET
2つの光電子工学装置:GaN/SiC青いLEDの基質材料(GaN/SiC)で主にLED使用されて
Advantagement
•低い格子不適当な組み合わせ•高い熱伝導性
•低い電力の消費
•優秀で一時的な特徴
•高いバンド ギャップ
sicの基質のためのcommen 2inchのサイズ
2inch直径の炭化ケイ素(SiC)の基質の指定 | ||||||||||
等級 | ゼロMPDの等級 | 生産の等級 | 研究の等級 | 模造の等級 | ||||||
直径 | 50.8 mm±0.2mm | |||||||||
厚さ | 330 μm±25μmか430±25umまたは1000um±25um | |||||||||
ウエファーのオリエンテーション | 軸線を離れて:軸線の <1120> 4H-N/4H-SIのための±0.5°の方の4.0°: <0001>6H-N/6H-SI/4H-N/4H-SIのための±0.5° | |||||||||
Micropipe密度 | ≤0 cm-2 | ≤5 cm-2 | ≤15 cm-2 | ≤100 cm-2 | ||||||
抵抗 | 4H-N | 0.015~0.028 Ω•cm | ||||||||
6H-N | 0.02~0.1 Ω•cm | |||||||||
4/6H-SI | ≥1E5 Ω·cm | |||||||||
第一次平たい箱 | {10-10} ±5.0° | |||||||||
第一次平らな長さ | 18.5 mm±2.0 mm | |||||||||
二次平らな長さ | 10.0mm±2.0 mm | |||||||||
二次平らなオリエンテーション | 上向きケイ素:90° CW。主で平らな±5.0°から | |||||||||
端の排除 | 1つのmm | |||||||||
TTV/Bow /Warp | ≤10μm/≤10μm/≤15μm | |||||||||
荒さ | ポーランドRa≤1 nm | |||||||||
CMP Ra≤0.5 nm | ||||||||||
高輝度ライトでひび | どれも | 1弾の割り当てられる、≤2 mm | 累積長さの≤ 10mm、単一length≤2mm | |||||||
高輝度ライトによる六角形の版 | 累積区域≤1% | 累積区域≤1% | 累積区域≤3% | |||||||
高輝度ライトによるPolytype区域 | どれも | 累積区域≤2% | 累積区域≤5% | |||||||
高輝度ライトによる傷 | 1×wafer直径の累積長さへの3つの傷 | 1×wafer直径の累積長さへの5つの傷 | 1×wafer直径の累積長さへの5つの傷 | |||||||
端の破片 | どれも | 3弾の割り当てられる、≤0.5 mmそれぞれ | 5弾の割り当てられる、≤1 mmそれぞれ | |||||||
映像サイズ:10x10x0.5mmt、
許容:±0.03mm
マッチの深さXの幅:0.4mmx0.5mm
タイプ:4H-semi
表面:磨かれた(sspかdsp)
RA:0.5nm
1. Q:あなたのパッケージは何ですか。それらは安全ですか。
A:私達はパッケージとして自動吸着フィルム箱を提供します。
2.Q:あなたの支払の言葉は何ですか。
A:私達の支払の言葉は配達の前に先立ってT/T 50%、50%です。
3.Q:私はいかにあるサンプルを得てもいいですか。
A:Becauceはサンプルとして最低ロットを発注できることを形プロダクトを、私達望みますカスタマイズしました。
4.Q:どの位時間私達はサンプルを得てもいいですか。
A:私達は-確認した25日後10のサンプルを送ります。
5.Q:あなたの工場はいかに品質管理に関してしますか。
A:質は最初に常に私達のモットー、から制御する質にとっての労働者の付加の大きい重要性です
最後の最後へのまさに始め。