容易な方法金属製品Co.、株式会社。

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金属粉の霧化装置

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容易な方法金属製品Co.、株式会社。
シティ:changsha
省/州:hunan
国/地域:china
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小さいガスの消費が付いている低い溶ける金属粉の冶金学装置

小さいガスの消費低溶ける金属のための遠心霧化装置200のKgの 概観 回ディスク遠心分離機の霧化の技術の原則は金属の液体が現在制限指導装置を高速回転ディスクの中心の方に溶ける炉から貫流する参照し、次にこと放射状に配り、回転ディスク上の溶解した金属の膜および慣性および遠心力の効果の下で......
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歯科遠心霧化プロセス、粉末や金の製造工程

簡単なプロセスおよび操作歯科MIMのための遠心霧化装置50のKgの 概観 回ディスク遠心分離機の霧化の技術の原則は金属の液体が現在制限指導装置を高速回転ディスクの中心の方に溶ける炉から貫流する参照し、次にこと放射状に配り、回転ディスク上の溶解した金属の膜および慣性および遠心力の効果の......
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MIMのための遠心容易の霧化の金属粉の霧化装置操作

MIMのための遠心霧化装置50~200のKgの金属粉の霧化装置の 概観 回ディスク遠心分離機の霧化の技術の原則は金属の液体が現在制限指導装置を高速回転ディスクの中心の方に溶ける炉から貫流する参照し、次にこと放射状に配り、回転ディスク上の溶解した金属の膜および慣性および遠心力の効果の下......
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よい流動率の速い冷却速度の粉末や金の製造工程

チタニウム、Wのための1~3KG無線周波数血しょう粉のバリングの金属粉の霧化装置 概観 無線周波数血しょうトーチは高エネルギー密度、強い暖房の強さを所有し、プラズマ アークは巨大です。利用できる電極電極の蒸発によって引き起こされるプロダクトにそれが原因で汚染を発生できません。 無線周波数......
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高速の無線周波数血しょうバリングの金属粉の製造工程

チタニウム、Wのための1~3KG無線周波数血しょう粉のバリングの金属粉の霧化装置 概観 無線周波数血しょうトーチは高エネルギー密度、強い暖房の強さを所有し、プラズマ アークは巨大です。利用できる電極電極の蒸発によって引き起こされるプロダクトにそれが原因で汚染を発生できません。 無線周波数......
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血しょう4つのKGは金属粉の霧化装置Alのための電極プロセスPREPを回します

血しょう4つのKGは金属粉の霧化装置Alのための電極プロセス(PREP)を回します 概観 金属か合金は原料として溶極になされます。その端の表面は溶解した液体に血しょうトーチおよび溶解熱されます、そして溶解したの高速回転電極の遠心力によって出、小さいしぶきに押しつぶされ、そして粉に凝固します......
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PREP血しょう回転電極のプロセス用機器球形の金属粉のための4つのKG

電極プロセス(PREP)を衛星自由な粉が付いている球形の金属粉のための4つのKG回して下さい 概観 金属か合金は原料として溶極になされます。その端の表面は溶解した液体に血しょうトーチおよび溶解熱されます、そして溶解したの高速回転電極の遠心力によって出、小さいしぶきに押しつぶされ、そし......
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高い球形の不活性ガスの霧化プロセスEIGAを溶かす電極の誘導

チタニウムのための高い球形の不活性ガスの霧化(EIGA)を溶かす誘導4つのKGの電極の 概観 主義:真空または不活性ガスの保護の下で、ゆっくり回転原料の棒は高周波インダクション・コイルによって熱され、るつぼがない時帰納的にそして絶えず溶けます。それから溶解した落下は噴霧器のスプレーの版から......
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チタニウムのガスの霧化の粉の製造設備、高速ガスの霧化装置

チタニウムのための不活性ガスの金属粉の霧化装置4KGを溶かす電極の誘導 概観 主義:真空または不活性ガスの保護の下で、ゆっくり回転原料の棒は高周波インダクション・コイルによって熱され、るつぼがない時帰納的にそして絶えず溶けます。それから溶解した落下は噴霧器のスプレーの版からの高圧不活性ガス......
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電極の誘導のMg/チタニウムのための溶けるガスの金属粉の霧化装置

Mgのチタニウムのための不活性ガスの金属粉の霧化装置を溶かす4KG電極の誘導 概観 主義:真空または不活性ガスの保護の下で、ゆっくり回転原料の棒は高周波インダクション・コイルによって熱され、るつぼがない時帰納的にそして絶えず溶けます。それから溶解した落下は噴霧器のスプレーの版からの高圧不活......
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