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チタニウムのための不活性ガスの金属粉の霧化装置4KGを溶かす電極の誘導
概観
主義:真空または不活性ガスの保護の下で、ゆっくり回転原料の棒は高周波インダクション・コイルによって熱され、るつぼがない時帰納的にそして絶えず溶けます。それから溶解した落下は噴霧器のスプレーの版からの高圧不活性ガスによって多数の小さい液体のしぶきに、霧化システムへの流れ放し、押しつぶされます。それから小さい液体のしぶきは飛行中の球形のpartical粉に凝固します。原料はるつぼおよび流動制限転換の管によって連絡しません、従って汚染を得ません。
指定
総力:100kW
l溶ける容量:5kgか10kg （チタニウムの密度によって計算される）
l供給方法:10pcsによっていつも単一か連続的な供給。
l送り速度:回転速度1~30r/min;遅い:1~50mm/min （調節可能な）;速い:200mm/min （絶えず）。
l粉のサイズ:D50=about 45μm。
l回復率:≥ 95%
lガスの消費:高く純粋なArかN2。
特徴:
1. それはMg、Al、チタニウム、NI、W、Moおよび合金粉、陶磁器の粉等のような球形の形そして超高度純度の最高、溶かおよび生きた金属粉を作り出すことができます…
2. 低負荷の消費。
3. 合金の電極は必要合金粉の不均等な化学成分の電極の分離の結果溶けるためにであり。