製品カテゴリ

企業との接触

Shenzhen APG Material Company Limited

シティ：shenzhen

国/地域：china

連絡窓口：MrsNancy

表示連絡先の詳細

企業との接触

1 - 4 の 4

スパッタリングターゲット材

99.5% - 99.95% 純度チタンスパッタリングターゲット耐食性 Tiターゲット

物理蒸気堆積 (PVD) 技術のコア材料として,タイタンターゲットは,半導体,ディスプレイ,高度な純度と正確な構造制御によってテクノロジーの進歩は,材料性能の最適化,先進的な製造プロセスの先駆的な開発,高価なアプリケーションへの拡張. 性能に関しては,原子レベルの純度制御と微細構造の調節により,チタ...

企業との接触

Add to Cart

ITOスパッタリングターゲット材インジウムスズ酸化物ターゲットディスプレイトテクノロジー用

ITOターゲット材料は、酸化インジウム（In₂O₃）と酸化スズ（SnO₂）を特定の比率で混合して作られる複合材料です。この特別な組み合わせにより、ITOターゲット材料は独自の物理的および化学的特性を備え、精密な成分比率を通じて薄膜に高い透明性と低抵抗を実現します。 ITOは優れた光学透明性（可視光....

企業との接触

Add to Cart

半導体製造のための高純度スプッティングターゲット材料

高純度シリコン標的材料:薄膜堆積のためのコア材料シリコンターゲット材料は,物理蒸気堆積 (PVD) プロセスで主に,酸化シリコン,ナイトライド,水化シリコンなどの中層層を堆積するために使用されます.結晶シリコンとHSiタイプに分けられますシリコンターゲットは,通常,濃灰色で,半金属的な外見と約2....

企業との接触

Add to Cart

カスタム / プラナー / ロータリー Cu スパッタリング用銅ターゲット

高純度銅ターゲット、カスタム/平面/ロータリー銅ターゲット、スパッタリングコーティング用銅ターゲットサプライヤー材料の物理的特性は、真空スパッタリングコーティングにおける膜質と生産効率を直接決定します。銅ターゲットは、その固有の優れた導電性と卓越した熱伝導性により、半導体製造、ディスプレイパネル、...

企業との接触

Add to Cart