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Shenzhen APG Material Company Limited

シティ：shenzhen

国/地域：china

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スパッタリングターゲット材

99.5% - 99.95% 純度チタンスパッタリングターゲット耐食性 Tiターゲット

物理蒸気堆積 (PVD) 技術のコア材料として,タイタンターゲットは,半導体,ディスプレイ,高度な純度と正確な構造制御によってテクノロジーの進歩は,材料性能の最適化,先進的な製造プロセスの先駆的な開発,高価なアプリケーションへの拡張. 性能に関しては,原子レベルの純度制御と微細構造の調節により,チタ...

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インジウムスズ酸化物 (ITO) スパッタリングターゲット

ITOスパッタリングターゲット材は、酸化インジウム（In₂O₃）と酸化スズ（SnO₂）を特定の比率で混合して作られる複合材料です。この特別な組み合わせにより、ITOターゲット材は独自の物理的および化学的特性を備え、精密な成分比率を通じて薄膜に高い透明性と低抵抗を実現します。 ITOは優れた光学透明性...

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シリコンスパッタリングターゲット (Siスパッタリングターゲット)

高純度シリコンスパッタリングターゲット材料：薄膜成膜のコア材料シリコンスパッタリングターゲット材料は、物理蒸着（PVD）プロセスで使用され、主に酸化シリコン、窒化シリコン、水素化シリコンなどの中間層の成膜に使用されます。結晶シリコンとHSiタイプに分けられます。シリコンスパッタリングターゲットは、...

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中国製銅スパッタリングターゲット(Cuスパッタリングターゲット)

高純度銅のスプッターターゲット,カスタム/平面/回転型銅のスプッターターゲット,銅のスプッターターゲット材料の物理的性質が真空スプートリングコーティングのフィルム品質と生産効率を直接決定します.固有の優れた伝導性と優れた熱伝導性半導体製造,ディスプレイパネル,太陽光発電産業,電源電池などの高級製造...

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