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Shenzhen APG Material Company Limited

シティ：shenzhen

国/地域：china

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セラミックターゲット

スパッタリング・パルスレーザー成膜用酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット

ナイオビウムオキシド標的は,スプッター,パルスレーザー堆積 (PLD),その他の薄膜堆積プロセスで一般的に使用される重要な機能性オキシドセラミック標的である.この標的に良い化学的安定性と電気的特性があります優れた透明性と反射性があるナイオビウム酸化物 (Nb2Ox) の特異性わかった化学的.....

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アルミドーピング亜鉛酸化物標的高密度AZOスプッターターゲート

アルミニウムドープ酸化亜鉛ターゲット (AZO) 透明導電膜ターゲットの分野において、アルミニウムドープ酸化亜鉛（AZO）は、その優れた光電子性能、低コストの利点、および環境に優しい特性により、太陽光発電、ディスプレイ、エレクトロニクスなどの産業にとって理想的な選択肢となっています。アルミニウムで....

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硬質コーティング用TiN窒化チタンスパッタリングターゲット

チタンナイトリド (TiN) ターゲットは,世界的に最も広く使用される金属陶器機能ターゲットの1つです.金属の電気と熱伝導性を,陶器の高硬さと耐腐蝕性と組み合わせますマグネトロンスプッタリングのようなプロセスにより,バランスのとれた機能フィルムが蓄積され,これらのフィルムは機械製造に不可欠な着用保護...

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PVDコーティング用CrC炭化クロムスパッタリングターゲット耐食性

クロムカルバイド (CrC) は,クロム (Cr) と炭素 (C) から形成された化合物で,金属の電導性を陶器の高硬さと組み合わせます.高純度クロムカービッド粉末から,熱圧シンターや噴霧などのプロセスで製造されるクロムカービッドの標的は高溶融点,高強度,熱安定性が優れている. マグネトロンスプッティ...

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高抵抗GXOターゲット成形プロセス焼結カスタム形状

高耐性標的は,高耐性を有する金属または合金材料によって特徴づけられる,スプッターコーティングのための機能的標的材料の一種である.物理蒸気堆積 (PVD) 過程でGXO標的は高耐性薄膜を形成し,光学,電子機器,半導体,機能コーティングなどに適しています.標的材料の組成と構造を制御することで装置の性能最...

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SiC炭化ケイ素スパッタリングターゲット高温耐食性

シリコンカービッド (SiC) 標的は高純度粉末で製造され,高温や腐食に優れた耐性を有します.優れた化学的安定性と熱伝導性これらの特性により,彼らは厳しい作業条件下で高性能薄膜を堆積するのに特に適しています.彼らは半導体全体で広く使用される重要な機能材料です.光電池オプティカル産業シリコン・カービ...

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InCeO インディウムセリウムオキシドターゲット高伝播性低抵抗性

インジウムセリウム酸化物（InCeO）ターゲットは、高温焼結または熱間等方圧プレスによって製造される新しいタイプの透明導電性酸化物ターゲットです。従来のITOターゲットと比較して、優れた透過率、電気伝導率、環境安定性、および柔軟性との互換性を示します。これにより、ハイエンドディスプレイ、太陽光発電、...

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チタンボリド TiB2 陶磁スプッティングターゲット

チタン・ディボライド標的は,高純度TiB2粉末から熱圧またはシンタリングプロセスで製造された陶器標的である.高度な溶融点と高硬さを持つ機能的な材料です金属チタンの優れた化学的安定性とボリドの高硬さ,耐磨性,耐腐蝕性を組み合わせることで,TiB2ターゲットは例外的な性能を提供します.これらの標的は,様...

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亜鉛亜鉛酸化物ターゲット ZTO セラミックターゲット相対密度 ≥98%

亜鉛亜鉛酸化物 (ZTO) ターゲット材料は,主に亜鉛酸化物 (ZnO) と亜鉛酸化物 (SnO2) から成る透明な導電性酸化物ターゲットである.高い光学透明性と優れた電導性を組み合わせて,ITO (インディウムチン酸化物) の理想的な代替物と考えられていますZTOフィルムは,優れた光学および電気....

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インディウム亜鉛酸化物 IZO ターゲット素材ディスプレイ技術

携帯電話の画面をより鮮明で反応しやすくする材料があります! そうです.インディウム亜鉛酸化物 (IZO) です!高級ディスプレイ技術の背後にある"未知の英雄"ですIZOは,優れた光学および電気特性を持つ典型的な透明な導電性酸化物である. 主にインディウム酸化物 (In2O3) ...

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