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スプートリングターゲット

1 - 20 の結果 スプートリングターゲット から 35 製品

ジルコニウムの回転放出させるターゲット ジルコニウムの回転放出させるターゲット、ジルコニウムの回転ターゲット、ジルコニウムの放出させるターゲット、ジルコニウムの回転式放出させるターゲット、ジルコニウムの回転放出させるターゲット。 記述 放出させるターゲットの不運.........

Time : Dec,09,2024
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真空メッキのための3N5 99.95%モリブデンの版の放出させるターゲット モリブデンの放出させるターゲットの導入 製品名 純度 密度 表面 処理 Moターゲット 99.95% 10.22g/cm3 地面.........

Time : Jun,27,2025
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記述 発射対象は,発射方法により薄膜を培養する材料であり,金属や陶器を加工することによって製造される.我々は,様々な材料のスプッターターゲットの製品を提供してきました溶融,シンテリング,合成,機械加工の技術を組み合わせることで製造方法の選択と用途と目的に応じてカスタマイズが可能目標の材料と要求に........

Time : Nov,06,2025
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高温抵抗力がある良質の石英ガラスの放出させるターゲット 二酸化ケイ素の放出させるターゲットはSiおよびO.の二酸化ケイ素(SiO2)を含んでいる、別名無水ケイ酸は惑星で最も豊富な材料の2から、自然な混合物作ったである:ケイ素(Si)および酸素(O2)。無水ケイ酸は最も一般に水晶の形にあると考.........

Time : Nov,06,2025
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"ターゲット"という単語は 日常生活で使われる ターゲット材料から由来しますコーティング材料は電子線またはイオン線で爆撃されます発射する材料は"発射対象"と呼ばれます 金属チタンからチタン発射標的へ タイタンのスプートリングターゲットは,チタン金属を原材料として製造したチタン製品で,.........

Time : May,30,2024
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ターゲットPure>3N5 127*458*10クロムの放出させるターゲットをクロムめっきにしなさい 項目名前 ターゲットをクロムめっきにしなさい サイズ OD127*ID458*10 純粋 Pure>3N5 包装 木の場合の真空パック 場所の港 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 ......

Time : Apr,30,2024
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脈打ったレーザーの沈殿(PLD)システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

Time : Jul,15,2023
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モリブデン平面スプッタリング標的 材料: モリブデン 形状: プレート 純度: 990.5% 密度: 10.2g/cm 色: シルバー 標準: ASTMB386 サイズ: コスモス 表面: 明るい ハイライト.........

Time : Dec,04,2024
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真空スプッティングコーティングのためのモリブデン標的 1真空スプッティングコーティング用モリブデン標的の記述: モリブデンのスプッターターゲットは,通常,モリブデンの粉末からシンター化されます.ほとんどの場合,シンター化されたモリブデンの粉末であるアノードから作られます.標的にアノードに.........

Time : Nov,28,2024
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トリッチ133*4*4113mm 304L 平面スプッターターゲットのスプッターターゲットのステンレス鋼管 トリッチ133*4*4113mm 304L スプッティングターゲットのステンレススチールチューブ グレード304L 仕様: 133*4*4113mm 過剰摂取の許容量:0.1-0.4mm.........

Time : Jul,12,2024
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超高純度ワルフスタン合金 W-Ti 発射標的 半導体物理蒸気堆積のためのプレート平面ビレット トルンプトンチタン (WTi) フィルムは半導体および太陽光電池産業におけるAlとSiの間の効果的な拡散障壁として機能することが知られている.WTiフィルムは通常,物理蒸気堆積 (PVD) によって薄膜とし......

Time : Sep,08,2024
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TZM モリブデンおよび合金 ディスクシートプレート、スパッタリングターゲットプレートシート 製品説明 - 緻密化された微細構造を備えた均一な粒子により、より長い使用時間が保証されます。 - 高強度、高融点 - 優れた耐食性、優れた耐熱性。 - プロのアフターサービス &nbs.........

Time : Feb,11,2025
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NI 200のニッケルは放出させるターゲット純粋なニッケル合金のニッケル ベースの合金を合金にする 製品の説明 製品名 ニッケル200......

Time : Nov,28,2025
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純粋なチタニウムの99.99% 4nディスク高い純度のチタニウムの金属の放出させるターゲット チタニウムは金属および延性がある。5,090 m/s.のレートで健全な旅行。チタニウムの主要な特徴は低密度、高い機械強さおよび容易な処理である。新しいチタニウムの合金によい熱抵抗があり、600℃か高温で長.......

Time : Dec,23,2024
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アルミニウム シートによってカスタマイズされるアルミニウム アルミニウム価格のAlの放出させるターゲットを薄板金 7075アルミニウムの適用 タイプ7075アルミニウムは1最も強いアルミ合金である。その高い降伏強さ(>500 MPa)および低密度は重い摩耗に応じて材料に航空機の部品または部品のような......

Time : Oct,25,2023
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ハフニウムの餌99.9%販売のための純粋なHfの餌3N Hfの餌の製品特質 項目名前 PVDのコーティング材料Hfの餌 純度 99.99% 形 あなたの要求に従う正方形/円形、 あなたの要求に従って.........

Time : Nov,06,2025
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太陽光起電適用99.99% 4N酸化亜鉛ターゲットのためのZnOターゲットは包装の表面を進めました:機械平面は/円形あなたの要求利用できるサイズに従う、正方形/円形太陽光起電適用99.99% 4N酸化亜鉛ターゲットによって進められた包装純度99.99%の形のための項目名前のZnOターゲットを磨きまし......

Time : Dec,11,2024
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