製品説明:私たちの金属スプッターターゲットは インディウムで結合されています ターゲットと裏付けプレートの間の安全で信頼性の高い結合を保証するための 非常に効果的な材料ですこれは,標的がスプッター処理中に場所にとどまることを保証します高品質な出力になります メタルスプッターリングターゲットは99........
Add to Cart
Auの金のスライド ガラスのMangetronの放出させるシステム/PVD Auの金の放出させるコータ 金はスライド ガラスに塗り、シリコンの薄片はsubstragesのAuの金属の薄膜の層を、のような沈殿させるために放出させるDCのマグネトロンのPVDプロセスを使用します:スライド ガラス.........
Add to Cart
"ターゲット"という単語は 日常生活で使われる ターゲット材料から由来しますコーティング材料は電子線またはイオン線で爆撃されます発射する材料は"発射対象"と呼ばれます 金属チタンからチタン発射標的へ タイタンのスプートリングターゲットは,チタン金属を原材料として製造したチタン製品で,.........
Add to Cart
10.2g/cm3コーティングのための純粋なモリブデンの放出させるターゲット モリブデンの放出させるターゲットの導入 製品名 純度 密度 表面 処理 Moターゲット 99.95% 10.22g/cm3 地面.........
Add to Cart
CNCによって処理される良い粉砕の表面が付いている二酸化ケイ素の放出させるターゲット 水晶ガラスSiO2はまた無水ケイ酸ガラスをである企業および研究のための非常に重要な材料呼んだ。ホウケイ酸ガラスと同じような低い熱膨張率があり、少数の酸によってだけ攻撃され、そして他の技術的なガラスと比較して.........
Add to Cart
働き主義: 沈殿を行います放出させることによって薄膜の沈殿の蒸気沈殿(PVD)物理的な方法放出させて下さい。これはシリコンの薄片のような「基質」に源である「ターゲット」から材料を出すことを含みます。Resputteringはイオンまたは原子の衝突によって沈殿プロセスの間に沈殿させた材料の再放出です。......
Add to Cart
1,記述: 材料:モリブデンスプッター標的は純粋なモリブデン (Mo) 金属から作られています. 密度:モリブデンには高密度があり,通常,1立方センチメートル (g/cm3) に対して10.2〜10.3グラムの密度があります. 溶融点: モリブデンは,高温の噴射処理に耐えるために,約2,623°........
Add to Cart
高純度スプッターコーティングタンタルムターゲットタンタルムディスクターゲット 1仕様 スプッターコーティングタンタルムターゲット: スプッターコーティングタンタル ターゲット 材料:R05200,R05400,R05252 (Ta-2.5W),R05255 (Ta-10W) 円形標的:.........
Add to Cart
タンタルのタングステンTaWの合金正方形ターゲット カスタム化の指定 準備プロセス:熱い地殻均衡押すこと、正常な温度の焼結、粉の金の処置、等目標資料の形態:平らなターゲット、複数のアーク ターゲット、ステップ ターゲット、特別型ターゲット 適用装備品:マグネトロンの放出させる装置、イオン放.........
Add to Cart
--ガラス処理の部屋:∮100mm;高い130mm。--標本の段階のサイズ:∮40mm (把握6標本のコップ)--金ターゲット サイズ:∮58mm*0.12mm (厚さ)--真空の検出:Piraniのゲージ--真空の保護:マイクロスケールのインフレーション弁との20 pa--中型のガス:アルゴンのガ......
Add to Cart
イオンポンプ、3L-25、DN35CF、21L / s空気、6L / s Ar、-5KV、7E-8Pa スパッタイオンポンプはクリーンで超高真空を得るための真空発生装置です。 スパッタイオンポンプはオイルレス超高真空セットのメインポンプです。 イオンポンプは閉鎖系で作動し、連続作動式補助ポンプ.........
Add to Cart
17 ITOパターン1.製品の説明のマスター接触GFFを放出させているインチ反指の印刷物のPcap GFFの構造のタッチ パネルはキャパシタンス カップリングを通してフィルムの基質でフィルム センサーを作るためにITOパターンを放出させるプロセスによって容量性タッチ画面のパネルを、正確に感知する接触......
Add to Cart
純粋なチタニウムの99.99% 4nディスク高い純度のチタニウムの金属の放出させるターゲット チタニウムは金属および延性がある。5,090 m/s.のレートで健全な旅行。チタニウムの主要な特徴は低密度、高い機械強さおよび容易な処理である。新しいチタニウムの合金によい熱抵抗があり、600℃か高温で長.......
Add to Cart
4インチCZの1つの側面のCr/Au放出させる層の厚さ10nm/50nm 4"の主なシリコンの薄片;、シアムンPowerwayの先端材料Co. 1990年に見つけられて、株式会社(PAM-XIAMEN)は中国のsemiconの医者の半導体材料の一流の製造業者である。PAM-XIAMENは高度の結晶成......
Add to Cart
乗用車のための良質の低価格の中国製卸し売り造られた車輪の真空の放出させるペンキ 鍛造材はブランクに金属をかぶせる圧力を適用するためにプラスチック変形を作り出すようにある特定の機械特性、ある特定の形およびサイズの鍛造材を得るために機械類を造ることを使用する処理方法である。鍛造材は(造り、押す).........
Add to Cart
製品説明 化学処理されたPETフィルム 12ミクロンPETフィルム Bramd 名前テンポ材料BOPP/PET/CPP/PE/PVC厚さ6-10um またはカスタマイズ幅20-2300mm またはカスタマイズ長さ500m-2500m またはカスタマイズ 製品に関する詳細 生産プロセス このフィルムを......
Add to Cart
PVDは何であるか。 PVDは物理的な蒸気沈殿を意味する。固体材料が真空の環境で蒸発し、基質の表面に沈殿するのは一種の薄膜のコーティングの技術およびプロセスである。 PVDプロセスは単一原子としてコーティング薄い金属かメタル・セラミック表面層を形作るために材料か基質の表面に混.........
Add to Cart