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使用された磁石スプッター

1 - 20 の結果 使用された磁石スプッター から 68 製品

DC マグネトロン スパッタリング コーティング マシン/DC スパッタリング システム マグネトロン スパッタリング モデル: DC スパッタリング、MF スパッタリング、RF スパッタリング DCスパッタ.........

Time : Apr,21,2025
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サイズ調整可能 マグネトロンスプッティングコーティングマシン/PVDコーティング機器 記述:マグネトロンスプッタリングコーティングマシンは薄膜堆積の分野で重要な機器です.このマシンはマグネトロンスプッタリングの原理に基づいて動作します.電子を閉じ込めて加速させる 強い磁場を生成するために マグネ........

Time : Apr,12,2025
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マグネトロンの放出させるコーティングのためのタングステンの放出させるターゲット 1. マグネトロンの放出させるコーティングのためのタングステンの放出させるターゲットの記述: タングステンの層はTFT-LCDスクリーンの薄膜のトランジスターの部品である。それらは大画面のフォーマット、非.........

Time : Apr,04,2025
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ペット フィルムに塗るために使用されるMetallizerを放出させる多機能のマグネトロン 製品の説明 放出させるマグネトロンは真空システム、巻くシステム、マグネトロン ターゲット放出させるシステム、制御システム、等で構成され、2 μmに300 μmの厚さの薄膜で放出させる銅、鉛、ア.........

Time : Aug,22,2024
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マグネトロンの放出させるガラス コーティングの生産ライン マグネトロンの放出させる塗装システムは建築反射ガラス、かミラーおよび装飾の多彩なガラスでも加えることができる。うまく設計された大きい区域の放出させる陰極は最高のガラスでコーティングを作ることができる。2540×3660mmのサイズ。最大限に活......

Time : Jan,25,2025
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脈打ったレーザーの沈殿(PLD)システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

Time : Jul,15,2023
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高精度マグネットロンスプッターフィルム 製品説明: マグネティック・スプッティング・シリーズ (Magnetic Sputtering Series) は,研究開発プロジェクトのために高品質の薄膜を必要とする研究者や科学者の理想的な選択です.磁気記録メディアなどの様々なアプリケーションで薄膜堆積........

Time : Jan,27,2025
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シルバースプッターターゲットのスプッターターゲットのチタンディスクを医療用途での高純度スプッターに 物理蒸気堆積 (PVD) プロセスにおいて,チタン噴射標的は,様々な医療用薄膜の製造において極めて重要です.この薄膜は,パフォーマンスを向上させるために決定的です耐久性,およびインプラント,ス.........

Time : Jan,08,2025
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チタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 ASTM B861-06目標資料の真空メッキ 名前 チタニウムの管ターゲット 標準 ASTM B861-06 輸送のパッケージ 木の場合の真空パック 起源 宝鶏市、シャンシー、中国 港の渡すため 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 サイズ ......

Time : Apr,30,2024
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陶磁器窒化ホウ素は高温抵抗および熱循環の抵抗による非常に熱いくま材料として特にうってつけである。 窒化ホウ素の陶磁器の版の適用 VGFまたはVB方法によって単一の半導体の水晶およびIII-Vの混合物を総合するのに使用される。 項目 単位 見掛密度 g/cm3 2.1.........

Time : Sep,08,2023
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主要な技術索引:1.最終的な真空:≤6.6X10 ³ Pa 2.の真空の獲得システムは分子ポンプを+機械30分の間ポンプ単位3.の連続的なポンプ、真空の程度です8x10 ³ Pa 4.円柱放出させるターゲットが独自に働かせると等しいかまたはそれ以下ことができる採用しますまたは同時に直径の5.基質......

Time : Dec,25,2017
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チタニウム ターゲット純粋な金属の放出させるターゲット高い純度の金属のマグネトロンは高い純度に塗るPVDのためのターゲットを放出させる チタニウム ターゲット 高純度および高密度放出させるターゲットは下記のものを含んでいる:放出させるターゲット(純度:99.9%-99.999%) チタニウム.........

Time : May,30,2024
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99.995%純度チタンスプッターターゲット PVDコーティングローータリーチューブターゲット タイタンの標的薄膜材料の調製に使用され,マグネトロンスプッター技術で広く使用されています. 集積回路,装飾コーティング産業,フラットディスプレイなどが必要ですしたがって,チタンターゲットの質は非常に重要.......

Time : Apr,10,2025
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タンタルのタングステンTaWの合金正方形ターゲット カスタム化の指定 準備プロセス:熱い地殻均衡押すこと、正常な温度の焼結、粉の金の処置、等目標資料の形態:平らなターゲット、複数のアーク ターゲット、ステップ ターゲット、特別型ターゲット 適用装備品:マグネトロンの放出させる装置、イオン放.........

Time : Nov,11,2024
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産業マイクロ波加熱のための高性能のモールス式電信符号波のマグネトロン モールス式電信符号波のマグネトロンの紹介 モールス式電信符号波のマグネトロンはマイクロウェーブ システムで広く利用されているタイプのcrossed-field発振器弁である。モールス式電信符号波のマグネトロンはモー.........

Time : May,29,2024
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家の電気マイクロウェーブ マグネトロンの陶磁器/特別な陶磁器の部品 1. 記述: マグネトロンは金属のブロックの小さい、開いたキャビティの一連の空胴共振器を過ぎて動いている間磁界が付いている電子の流れの相互作用を使用してマイクロウェーブを発生させる強力な真空管である。電子はキャビティおよび原因のマイ......

Time : Jul,11,2023
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マイクロウェーブ マグネトロンのためのCMCの陶磁器の部品 1. 記述: マイクロウェーブ マグネトロンのための陶磁器の部品は電子レンジ、マイクロウェーブ発電機のためにマグネトロンで95%のアルミナ、それから主に等使用される成っている。 2. キー ワード: マグネトロン、電子レンジ、マイクロウェー......

Time : Jul,29,2023
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