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噴射装置

1 - 7 の結果 噴射装置 から 7 製品

実験マグネトロンの放出させるコーティングの単位/縦の携帯用小型の放出させるコータ 高貴な技術は設計し、大学教授および科学的な研究開発のための超高真空の塗装システムの提供されたさまざま、さまざまな別のフィルム成長を調査するために、私達の商業企業とより革新的なナノの薄膜を適用されます.........

Time : Dec,09,2024
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A6L 2005-2012年のためのカムシャフトの調節装置の単位Actutor 06E109083G 製品の説明 製品名 カムPhaser OE# 06E109083G...

Time : Jun,27,2025
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主要な技術索引:1.最終的な真空:≤6.6X10 ³ Pa 2.の真空の獲得システムは分子ポンプを+機械30分の間ポンプ単位3.の連続的なポンプ、真空の程度です8x10 ³ Pa 4.円柱放出させるターゲットが独自に働かせると等しいかまたはそれ以下ことができる採用しますまたは同時に直径の5.基質......

Time : Dec,25,2017
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0~60のMPa PPM-T336Aの火力発電の単位圧力送信機 製品紹介: PPM-T336Aシリーズ圧力送信機は放出させた薄膜またはSOIのケイ素oil-filledセンサー、温度および圧力補償回路モジュールおよび正確な圧電気の転換と一致するステンレス鋼 ハウジングで十分に溶接され、包ま.........

Time : Jun,23,2025
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フォシャン 容量大きいステンレス鋼 キッチンシンクPVD真空コーティングユニット 記述:PVD真空コーティング機械は,高真空条件下で様々な基板に金属,合金,または化合物の薄膜を堆積するために使用される洗練された機器です.発泡や蒸発などの物理的な蒸気堆積技術を使用します.電子機器,光学,医療機器な........

Time : Oct,16,2024
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陶磁器窒化ホウ素は高温抵抗および熱循環の抵抗による非常に熱いくま材料として特にうってつけである。 窒化ホウ素の陶磁器の版の適用 VGFまたはVB方法によって単一の半導体の水晶およびIII-Vの混合物を総合するのに使用される。 項目 単位 見掛密度 g/cm3 2.1.........

Time : Sep,08,2023
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発電所の蒸気管の吹くテストのための放出させる銅ターゲット板 空気パージ 1。プロセス パイプラインでは、運ぶすべてのパイプラインは空気と気体媒体一般に清浄になる。 2.空気清浄になることは断続的な清浄になることのために単位で生産単位の大きい圧縮機、か大きい容器を使用するべきである;清浄になる圧力は容......

Time : Jul,29,2023
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