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スプートリング pvd

1 - 20 の結果 スプートリング pvd から 21 製品

PVDメタライゼーションのための放出させる真空メッキ機械 GVACはDCの放出させるコーティングの陽極消失を克服するAC/MFのマグネトロンの放出させる技術に基づいて自動車付属品のためのコータを発達させた。 顧客の要求に従って、モノラルか多層機能フィルムは異なった材料および形(.........

Time : Jan,25,2025
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宝石類のための 1 年の保証のフル オート PVD ​​のコータ その他の構成 作業理論 マルチアーク+マグネトロンスパッタリング 操作方法 タッチスクリーン 制御システム 全自動 暖房システム 1セット 回転スタンド 1セット PVDコーティング.........

Time : Aug,09,2023
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PVD MFのマグネトロンの放出させるコータ、MFの放出させるシステム、錫MFの放出させる沈殿単位 MF Mangetronの放出させるコーターRT1215-SPMFは銅、alumunium、プラスチック、金属のサーキット ボードの伝導性のフィルムの層のめっきのためにesigne.........

Time : Dec,04,2024
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ジルコニウムのPVDの真空メッキのための円柱放出させるターゲット PVDの真空メッキ機械のための平面の放出させるターゲットは複数のアーク イオンで広く利用されているまたは装飾的なPVDのコーティングまたは機能コーティングのためのPVDの真空メッキの企業を放出させるマグネトロン私達はあなたの異なっ........

Time : Dec,09,2024
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正方形の純粋なチタニウムの放出させるターゲット高い純度99.995%の回状のチタニウムのチタニウムの放出させるターゲットチタニウムの放出させるターゲットPVDのコーティングの等級1のチタニウム アーク ターゲット チタニウム ターゲット チタニウムの放出させるターゲット99.9% Tioxの酸.........

Time : May,30,2024
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金属スプッティングターゲット タイタン アルミウム クロム ツルコニウム ニッケル ニオビウム タントルム モリブデン PVDコーティング蒸発 金属噴射標的は,物理蒸気堆積 (PVD) プロセスで材料を薄い金属層でコーティングするために使用されます.噴射標的に使用される一般的な金属には.........

Time : Nov,25,2024
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チタンターゲット シリコンスプッティングターゲット Gr5 Gr7 Pvdコーティングマシン "ターゲット"という単語は 日常生活で使われる ターゲット材料から由来しますコーティング材料は電子線またはイオン線で爆撃されます発射する材料は"発射対象"と呼ばれます 金属チタンからチタン発射標.........

Time : Jan,08,2025
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99.95% PVDのコーティングのための純粋なモリブデンの放出させるターゲット モリブデンの放出させるターゲットの導入 2種類のモリブデンの放出させるターゲットがある:モリブデンの平面ターゲットおよびモリブデンの回転式ターゲット。 モリブデン ターゲットは伝導性ガラス、STN/T.........

Time : Apr,04,2025
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マグネトロンスプッティングコーティングのためのターゲット,PVDアーチイオンコーティング 1. PVDのためのウォルフタンモリブデン合金板のターゲットに関する情報: ターゲットは高純度で薄膜堆積技術で広く使用されている高純度で薄膜堆積材料である.仕様について詳しく説明します.ワルフタン・モリ.........

Time : Apr,04,2025
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1,記述: モリブデンは,物理蒸気堆積 (PVD) プロセスで使用される高純度材料である. 薄膜堆積で様々な基質を塗装するために一般的に使用されます. モリブデンスプッターターゲットは優れた熱伝導性と電気伝導性を示しています. 高度な溶融点,良い粘着性,均質なフィルム堆積性で知られています. モリ.......

Time : Dec,07,2024
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高品質の純度ウォルフスタン 販売対象製品 高温耐性 製品説明 高品質のウルフスタン 販売対象製品 属性 目標重量:≤200kg/pc,純度:≥99.95%. スプッターリングは,新しいタイプの物理蒸気堆積 (PVD) 方法.........

Time : Oct,16,2024
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耐食性の医学/産業コーティングのためのチタニウムの合金のPvdターゲット 指定: 項目名前 GR1 GR2 GR5のコーティングのためのチタニウムの合金のpvdターゲット/チタニウムの放出させるターゲット.........

Time : May,30,2024
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チタニウムの管ターゲット真空メッキターゲット チタニウムGr1 ASTM B861-06 133OD*125ID*840 項目名前 チタニウムの管ターゲット サイズ φ133*φ125*840 等級 Gr1 包装 木の場合の真空パック 場所の港 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 ......

Time : Apr,30,2024
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機械マグネトロンの放出させる機械を金属で処理する12ミクロンの真空沈殿機械真空 製品の説明 いろいろな種類の色にProducts.Weの金属仕上げを得るためにペイント ラインが付いている技術のマッチを金属で処理する機械使用真空は真空PVDのコーティング、紫外線自動ペイント ラインを含む顧客のため........

Time : Nov,24,2024
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金をめっきする標準的なか注文の装飾的なステンレス鋼の版Mirror/PVD 304 210 316L 1. XINFUTIANからの装飾的なコーティングの技術 私達のロール2ロール金属片のコーターは900mm… 1250mmの幅および0.2の… 0.7mmの厚さと金属片に塗れる、異なった物質的な構成......

Time : Jun,01,2023
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放出させるコーティングのための高い純度の金属の放出させるターゲット モリブデン ターゲット Sifonからのモリブデン ターゲット: 1. 高い純度≥99.95% 2. 高密度≥10.1g/cm3 3. T*3340*3340として広い次元 4. 広い適用は顧客によって、私達の.........

Time : May,30,2024
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ハフニウムの餌99.9%販売のための純粋なHfの餌3N Hfの餌の製品特質 項目名前 PVDのコーティング材料Hfの餌 純度 99.99% 形 あなたの要求に従う正方形/円形、 あなたの要求に従って.........

Time : Apr,21,2025
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陶磁器窒化ホウ素は高温抵抗および熱循環の抵抗による非常に熱いくま材料として特にうってつけである。 窒化ホウ素の陶磁器の版の適用 VGFまたはVB方法によって単一の半導体の水晶およびIII-Vの混合物を総合するのに使用される。 項目 単位 見掛密度 g/cm3 2.1.........

Time : Sep,08,2023
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