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スプートリング pvd

1 - 20 の結果 スプートリング pvd から 27 製品

マグネトロンスパッタリングPVDコーティング装置 製品概要 マグネトロンスパッタリングPVDコーティング装置は、セラミック基板上に耐摩耗性PVD膜を成膜するために設計された先進的な真空コーティング装置です。真空下でマグネトロンスパッタリング技術を利用し、セラミックワークピース上に優れた密着性を.........

Time : Oct,01,2026
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PVDメタライゼーションのための放出させる真空メッキ機械 GVACはDCの放出させるコーティングの陽極消失を克服するAC/MFのマグネトロンの放出させる技術に基づいて自動車付属品のためのコータを発達させた。 顧客の要求に従って、モノラルか多層機能フィルムは異なった材料および形(.........

Time : Jun,26,2026
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マグネトロンスプッター PVD プラスチック用真空堆積機械システム 基本的な価値: プラスチック基板の主要な課題に対処する 性能向上 表面硬さは 2-6H に増加し (対象材料によって) 摩擦耐性,指紋耐性,気候耐性 (UV,湿度,熱) が向上します.化学腐食耐性 (溶媒)汗をかいて 外.........

Time : May,20,2026
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ジルコニウムのPVDの真空メッキのための円柱放出させるターゲット PVDの真空メッキ機械のための平面の放出させるターゲットは複数のアーク イオンで広く利用されているまたは装飾的なPVDのコーティングまたは機能コーティングのためのPVDの真空メッキの企業を放出させるマグネトロン私達はあなたの異なっ........

Time : Dec,09,2024
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真空フラスコ銅マグネトロン スパッタリング システム/真空フラスコ PVD ​​クーパー堆積 マグネトロン スパッタリング技術に感謝します。 金属/セラミック/へのクロム/銀/金の電気めっきコーティングを確実に代替します。 樹脂/石膏/ガラスおよびプラスチッ.........

Time : Apr,21,2025
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金属スプッティングターゲット タイタン アルミウム クロム ツルコニウム ニッケル ニオビウム タントルム モリブデン PVDコーティング蒸発 金属噴射標的は,物理蒸気堆積 (PVD) プロセスで材料を薄い金属層でコーティングするために使用されます.噴射標的に使用される一般的な金属には.........

Time : Nov,25,2024
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ZnSnターゲット材料は,高純度亜鉛とチンから特定の割合で合成された合金ターゲットで,一般的に磁気スプッター,PVD,および他の堆積プロセスで使用される.亜鉛 の 高透明性 と 良き 電気 伝導性 を 亜鉛 の 化学 的 安定 性 と 腐食 耐性 と 結合 し て いるZn-Snから蓄積されたフィル......

Time : Oct,09,2026
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金属スプッティングターゲット Gr1 Gr2 Gr5 チタンスプッティング シルバースプッティングターゲット 商品の詳細: グレード: Gr1 Gr2 Gr5 チタン,TiAl,TiCr,TiCu,TiSi,Mo,Crなど お客様の要求に応じて サイズ: 60/65/70/80/85/90/.........

Time : Feb,02,2026
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製品説明 負荷ロック室付き4ターゲットの磁気スプッターコーティング PVD薄膜コーティング 装置 合金膜 スプッターテスト簡潔 な 紹介4つのターゲットのマグネトロンスプッターコーティングシステムは,フェロー電気,導電,合金,半導体,セラミック,ダイレクト,光学,オキシド硬いPTFEフィルム負荷ロ.......

Time : Aug,12,2026
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天然クォーツの水槽 フレンジは機械的に磨き上げられ,底はPVDスプッター用砂で吹き飛ばされている PVDスプッター用クォーツ・グリジブルは,シリコンや金属などの物質を保持し熱するために,物理蒸気堆積,特に熱蒸発に使用される高純度シリカ (SiO2) 容器である.蒸発し,基板に薄膜を形成する優れた........

Time : Apr,22,2026
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99.95% PVDのコーティングのための純粋なモリブデンの放出させるターゲット モリブデンの放出させるターゲットの導入 2種類のモリブデンの放出させるターゲットがある:モリブデンの平面ターゲットおよびモリブデンの回転式ターゲット。 モリブデン ターゲットは伝導性ガラス、STN/T.........

Time : Feb,10,2026
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マグネトロンスプッティングコーティングのためのターゲット,PVDアーチイオンコーティング 1. PVDのためのウォルフタンモリブデン合金板のターゲットに関する情報: ターゲットは高純度で薄膜堆積技術で広く使用されている高純度で薄膜堆積材料である.仕様について詳しく説明します.ワルフタン・モリ.........

Time : May,08,2026
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純タングメン金属のスプッティング標的 記述: ターンブランスプッターターゲットは,原材料として純粋なターンブランス粉末で作られた製品です.銀色 の 白い 外見 を 持っ ており,優れた 物理 特性 や 化学 特性 の ため に,多くの 分野 で 人気 に なっ て い ます. スプッターター.........

Time : Aug,13,2026
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1,記述: モリブデンは,物理蒸気堆積 (PVD) プロセスで使用される高純度材料である. 薄膜堆積で様々な基質を塗装するために一般的に使用されます. モリブデンスプッターターゲットは優れた熱伝導性と電気伝導性を示しています. 高度な溶融点,良い粘着性,均質なフィルム堆積性で知られています. モリ.......

Time : Dec,07,2024
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高品質の純度ウォルフスタン 販売対象製品 高温耐性 製品説明 高品質のウルフスタン 販売対象製品 属性 目標重量:≤200kg/pc,純度:≥99.95%. スプッターリングは,新しいタイプの物理蒸気堆積 (PVD) 方法.........

Time : Oct,16,2024
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耐食性の医学/産業コーティングのためのチタニウムの合金のPvdターゲット 指定: 項目名前 GR1 GR2 GR5のコーティングのためのチタニウムの合金のpvdターゲット/チタニウムの放出させるターゲット.........

Time : May,30,2024
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チタニウムの管ターゲット真空メッキターゲット チタニウムGr1 ASTM B861-06 133OD*125ID*840 項目名前 チタニウムの管ターゲット サイズ φ133*φ125*840 等級 Gr1 包装 木の場合の真空パック 場所の港 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 ......

Time : Apr,30,2024
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機械マグネトロンの放出させる機械を金属で処理する12ミクロンの真空沈殿機械真空 製品の説明 いろいろな種類の色にProducts.Weの金属仕上げを得るためにペイント ラインが付いている技術のマッチを金属で処理する機械使用真空は真空PVDのコーティング、紫外線自動ペイント ラインを含む顧客のため........

Time : Nov,24,2024
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