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rf sputtering

1 - 3 の結果 rf sputtering から 3 製品

実験室のマグネトロンの放出させる真空メッキ システム 1. UHVの放出させるシステムはが装備されています 半伝導性および非導電材料(Si、SiO2、Al2O3、Si3N4、Cr2O3、ITOおよび他の.........

Time : Dec,04,2024
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脈打ったレーザーの沈殿(PLD)システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

Time : Jul,15,2023
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75mmの真空沈殿システム真空メッキ機械精密リモート これは二重2"の密集したマグネトロンの放出させるシステム ターゲット源、非金属材料に塗るための金属フィルムに塗るための例えば、1つのDCの源、および他のRFの源である。この塗装システムは材料の広い範囲のための両方の単一か多数のフィルムの層に、合.......

Time : Nov,24,2024
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