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実験室DCおよびRFの放出させるコータ、Lab.Coatingの単位、R & Dの実験室を放出させるDC/MF。放出させるシステム

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実験室DCおよびRFの放出させるコータ、Lab.Coatingの単位、R & Dの実験室を放出させるDC/MF。放出させるシステム

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型式番号 :RTSP-400
原産地 :中国製
最低順序量 :1 セット
支払の言葉 :L/C、T/T
供給の能力 :毎月10セット
受渡し時間 :8 週
包装の細部 :標準を、長距離の海洋/空気および内陸の交通機関のための新たな問題/カートン、適したで詰められるために輸出して下さい。
部屋 :横のオリエンテーション
放出させる源 :MF、DCおよびRF
放出させる陰極 :円の平面のタイプ
放出させるターゲット :Al2O3、TiO、ITOのCr、Zr、Auの金
工場位置 :上海都市、中国
世界的なサービス :ポーランド-ヨーロッパ;イラン西のアジア及び中東、トルコ、インド、メキシコ南アメリカ
訓練サービス :機械動作、維持、コーティング プロセス調理法、プログラム
保証 :限定保証機械の自由な、一生の1年
OEM及びODM :利用できる、私達は注文仕立ての設計および製作を支える
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                                      実験室のマグネトロンの放出させる真空メッキ システム 

 

 

1. UHVの放出させるシステムはが装備されています

  • 半伝導性および非導電材料(Si、SiO2、Al2O3、Si3N4、Cr2O3、ITOおよび他の材料)を沈殿させるDCの放出させる銃。
  • 伝導性の物質的なアルミニウム、銀、金等を沈殿させるRFの放出させる銃。
  • DCおよびRFの電源の源は交換された適用範囲が広い場合もあります。

 

2. UHVの放出させるシステム応用の

  • 重合体材料、木、低温の生地の伝導性のコーティングより少しより100の℃

         ガラス、製陶術および他の誘電材料の伝導性のコーティングの適用。

 

実験室DCおよびRFの放出させるコータ、Lab.Coatingの単位、R & Dの実験室を放出させるDC/MF。放出させるシステム

 

3. 技術的な性能:

 

3. 1つの最終的な真空圧力:5.0×10-6トルよりよくして下さい。

3. 2.作動の真空圧力:1.0×10-4トル。

3. 3. Pumpingdownの時間:1台の自動支払機から1.0×10-4 Torr≤への3分(乾燥した室温は部屋をきれいにし、空けます)

3. 4.物質的な(放出させる) Al、Cr、Sn、チタニウム、SS、CU…等を金属で処理します。

3. 5.作動モデル:手動で完全な自動的に/Semi-Auto/

 

4.構造

UHVの放出させる真空メッキ機械は下記に記載されているキー完了されてシステムを含んでいます:

1. 真空槽

2. Rouhgingの真空ポンプ システム(裏付けポンプ パッケージ)

3. 高真空ポンプ システム(拡散ポンプ)

4. 電気制御および操作システム

5. Auxiliarry設備システム(サブシステム)

6. 沈殿システム

 

 

より多くの指定のために、私達に連絡して下さい。カスタマイズされた照会は歓迎されます。 

 

 

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