マグネトロン発射源

柔軟な回路 RFIDフィルム 真空網膜コーティング 蒸発 + スプッティング網膜 ロールからロールコーティング ローリングからローリングの真空コーターの特徴:複数の堆積源で,酸化導電フィルム,金属導電フィルム,光学フィルム,介電フィルムで利用できます. ローリングからローリングの真空コ.........

ハイエンドのステンレス鋼時計マグネトロン スパッタリング装置 マグネトロン スパッタリング装置の主要部品:真空チャンバー、真空ポンプ、電気キャビネット。 マグネトロン スパッタリング装置付属装置:エアコンプレッサー、ウォータータワー、ウォーターポンプ、オーブン。 &.........

ペット フィルムに塗るために使用されるMetallizerを放出させる多機能のマグネトロン 製品の説明 放出させるマグネトロンは真空システム、巻くシステム、マグネトロン ターゲット放出させるシステム、制御システム、等で構成され、2 μmに300 μmの厚さの薄膜で放出させる銅、鉛、ア.........

モリブデンの銅合金のマグネトロンの放出させるターゲット 1. モリブデンの銅合金のマグネトロンの放出させるターゲットの記述: モリブデン銅の合金のマグネトロンの放出させるターゲットの準備は浸潤方法によって主に行う。最初に、モリブデンの鋼片の骨組に焼結するのに粗い粒度のモリブデンの粉が.........

マグネトロンの放出させるガラス コーティングの生産ライン マグネトロンの放出させる塗装システムは建築反射ガラス、かミラーおよび装飾の多彩なガラスでも加えることができる。うまく設計された大きい区域の放出させる陰極は最高のガラスでコーティングを作ることができる。2540×3660mmのサイズ。最大限に活......

脈打ったレーザーの沈殿（PLD）システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

高精度マグネットロンスプッターフィルム 製品説明: マグネティック・スプッティング・シリーズ (Magnetic Sputtering Series) は,研究開発プロジェクトのために高品質の薄膜を必要とする研究者や科学者の理想的な選択です.磁気記録メディアなどの様々なアプリケーションで薄膜堆積........

チタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 ASTM B861-06目標資料の真空メッキ 名前 チタニウムの管ターゲット 標準 ASTM B861-06 輸送のパッケージ 木の場合の真空パック 起源 宝鶏市、シャンシー、中国 港の渡すため 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 サイズ ......

シルバースプッターターゲットのスプッターターゲットのチタンディスクを医療用途での高純度スプッターに 物理蒸気堆積 (PVD) プロセスにおいて,チタン噴射標的は,様々な医療用薄膜の製造において極めて重要です.この薄膜は,パフォーマンスを向上させるために決定的です耐久性,およびインプラント,ス.........

主要な技術索引:1.最終的な真空:≤6.6X10 ³ Pa 2.の真空の獲得システムは分子ポンプを+機械30分の間ポンプ単位3.の連続的なポンプ、真空の程度です8x10 ³ Pa 4.円柱放出させるターゲットが独自に働かせると等しいかまたはそれ以下ことができる採用しますまたは同時に直径の5.基質......

陶磁器窒化ホウ素は高温抵抗および熱循環の抵抗による非常に熱いくま材料として特にうってつけである。 窒化ホウ素の陶磁器の版の適用 VGFまたはVB方法によって単一の半導体の水晶およびIII-Vの混合物を総合するのに使用される。 項目 単位 見掛密度 g/cm3 2.1.........

チタニウム ターゲット純粋な金属の放出させるターゲット高い純度の金属のマグネトロンは高い純度に塗るPVDのためのターゲットを放出させる チタニウム ターゲット 高純度および高密度放出させるターゲットは下記のものを含んでいる:放出させるターゲット（純度:99.9%-99.999%） チタニウム.........

99.995%純度チタンスプッターターゲット PVDコーティングローータリーチューブターゲット タイタンの標的薄膜材料の調製に使用され,マグネトロンスプッター技術で広く使用されています. 集積回路,装飾コーティング産業,フラットディスプレイなどが必要ですしたがって,チタンターゲットの質は非常に重要.......

タンタルのタングステンTaWの合金正方形ターゲット カスタム化の指定 準備プロセス:熱い地殻均衡押すこと、正常な温度の焼結、粉の金の処置、等目標資料の形態:平らなターゲット、複数のアーク ターゲット、ステップ ターゲット、特別型ターゲット 適用装備品:マグネトロンの放出させる装置、イオン放.........

GCWM-9075 75kW/915MHz CWのマグネトロン GCWM-9075マグネトロンは特に75KW産業暖房設備のために設計され、製造された高い発電マイクロウェーブ源、である。それは働く頻度を固定した:915MHz±10MHz.陽極は水冷であり、磁石分野は電磁石である。GCWM-90.........

W ワルフスタン 噴射 航空宇宙 稀土の溶融 ワルフタン噴射 航空宇宙,稀土の溶融,電気光源,化学機器,医療機器,金属機械,溶融機器,石油などに広く使用されている標的 パラメーター オーダーデメリット (OD) ID (mm) 長さ (mm) オーダーメイド.........

1.5kWマグネトロン、マイクロウェーブ/抵抗炉、炭化ケイ素、熱する均等性 記述 HY-MF1516Eはより速い暖房または焼結のためのマイクロウェーブおよび抵抗炉の部屋の炉です。 ユーザーはまたeletric暖房源のために炭化ケイ素を使用できます。 HY-MF1516Eは温.........