全自動 高級金属 宝石 マグネットロン 噴射 機械 記述:マグネトロンスプッターコーティング機械は,高度な表面工学の分野で重要なツールです.物理蒸気沉着 (PVD) プロセスを用いて様々な基板に耐久性のあるコーティングこの機械は高エネルギーのプラズマを生成し 材料の薄い層を作り 基板の表面に堆積........
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PVD マグネトロン スパッタリング マシン / PVD ハード クローム スパッタリング マシン、車のホイール、アルミ製ホイール クローム メッキ 一般情報 PVD バキューム ハード クローム コーティング プロセスは、.........
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PETフィルムをコーティングするために使用される多機能磁気スプッター金属化器 製品説明 マグネトロン噴射真空システム,巻き込みシステム,磁気電子標的スプッターシステム,制御システムなどで構成され,銅,鉛,アルミ,锡,銀などを実現できます.2μmから300μmの厚さの薄膜に噴射する. フィルム.........
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主要な技術索引:1.最終的な真空:≤6.6X10 ³ Pa 2.の真空の獲得システムは分子ポンプを+機械30分の間ポンプ単位3.の連続的なポンプ、真空の程度です8x10 ³ Pa 4.円柱放出させるターゲットが独自に働かせると等しいかまたはそれ以下ことができる採用しますまたは同時に直径の5.基質......
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マグネトロンスプートリングとイオン塗装技術を統合した真空磁気スプートリングコーティング機器は,金属,合金,化合物などにフィルムを準備するのに適しています. 基本的技術特性 高速マグネトロン電極を使用することで,イオン電流は大きくなり,堆積速度とスプッター速度が大幅に向上します.生産能力が高く,.........
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自動車部品のChromeめっきの装飾の反射のコーティングのためのPVDのマグネトロンの放出させる機械連続的なコーティング Goldstoneは専門の真空を開発するために放出させる顧客の適用範囲が広い適用のための沈殿システムを従事している。自動車ミラーのコータは良質の表面鏡および青いミラーのた.........
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フ1200×H800mm マグネトロンスプッティングコーティングマシン 0~60RPM 真空コーティングマシン KSL-1200 適用範囲バキュームコーティングマシン: コンピュータ,携帯電話,家電などの様々な電気機器やスマート端末のコーリングです.金属フィルム,透明フィルム,導電性のないフ.........
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モリブデンの銅合金のマグネトロンの放出させるターゲット 1. モリブデンの銅合金のマグネトロンの放出させるターゲットの記述: モリブデン銅の合金のマグネトロンの放出させるターゲットの準備は浸潤方法によって主に行う。最初に、モリブデンの鋼片の骨組に焼結するのに粗い粒度のモリブデンの粉が.........
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製品概要 ウェストグラスのマグネトロンスプッターカーウィンドウフィルムは 卓越したパフォーマンスを発揮するために 多層ナノスケールセラミックコーティングを備えた 先進的なマグネトロンスプッター技術を使用しています運転の快適さと安全性を向上させるために設計された自動車の保温,爆発耐性,.........
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脈打ったレーザーの沈殿(PLD)システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......
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高精度マグネットロンスプッターフィルム 製品説明: マグネティック・スプッティング・シリーズ (Magnetic Sputtering Series) は,研究開発プロジェクトのために高品質の薄膜を必要とする研究者や科学者の理想的な選択です.磁気記録メディアなどの様々なアプリケーションで薄膜堆積........
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シルバースプッターターゲットのスプッターターゲットのチタンディスクを医療用途での高純度スプッターに 物理蒸気堆積 (PVD) プロセスにおいて,チタン噴射標的は,様々な医療用薄膜の製造において極めて重要です.この薄膜は,パフォーマンスを向上させるために決定的です耐久性,およびインプラント,ス.........
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チタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 ASTM B861-06目標資料の真空メッキ 名前 チタニウムの管ターゲット 標準 ASTM B861-06 輸送のパッケージ 木の場合の真空パック 起源 宝鶏市、シャンシー、中国 港の渡すため 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 サイズ ......
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陶磁器窒化ホウ素は高温抵抗および熱循環の抵抗による非常に熱いくま材料として特にうってつけである。 窒化ホウ素の陶磁器の版の適用 VGFまたはVB方法によって単一の半導体の水晶およびIII-Vの混合物を総合するのに使用される。 項目 単位 見掛密度 g/cm3 2.1.........
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油で潤滑されたローータリーバンの真空ポンプ (RH0020)) 製品説明 典型的な回転式真空ポンプは,ハウジング,ローター,放射的に動くシートから構成される.ドライランニングまたは潤滑型で提供される (後者はほとんどの産業用用途で最も一般的に使用される)ローターは通常,連続的に動いている唯一.........
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放出させるターゲット チタニウム アルミニウム アルミニウム チタニウム(AlTi)の合金の放出させるターゲットはHIPの技術によって作り出され、用具のコーティングおよび装飾的なコーティングで広く利用されている。溶けるプロセスと比較されて、HIPプロセスによって準備されるTiAlターゲットに均一顕.......
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記述 タイタンは時計,生物医学インプラント,ドリル,ラップトップなどに広く使用されている材料ですタイタン は 輝く 銀色 の 白い 外見 を 持つ.チタンは1660°Cの溶融点,4.5g/ccの密度,1453°Cで10-4Torrの蒸気圧を有する.それは頑丈な材料であり,加熱すると簡単に製造すること......
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