マグネトロン噴射機

全自動 高級金属 宝石 マグネットロン 噴射 機械 記述:マグネトロンスプッターコーティング機械は,高度な表面工学の分野で重要なツールです.物理蒸気沉着 (PVD) プロセスを用いて様々な基板に耐久性のあるコーティングこの機械は高エネルギーのプラズマを生成し 材料の薄い層を作り 基板の表面に堆積........

DCマグネトロンスパッタリング装置 - 真空PVDコーティングシステム この高精度DCマグネトロンスパッタリング装置は、金属およびガラス基板への優れた真空PVDコーティング用途向けに設計されています。本装置は、合理的な構造設計、均一なコーティング分布、優れた品質出力、高速な排気速度、短.........

PVD マグネトロン スパッタリング マシン / PVD ​​ハード クローム スパッタリング マシン、車のホイール、アルミ製ホイール クローム メッキ 一般情報 PVD バキューム ハード クローム コーティング プロセスは、.........

PETフィルムをコーティングするために使用される多機能磁気スプッター金属化器 製品説明 マグネトロン噴射真空システム,巻き込みシステム,磁気電子標的スプッターシステム,制御システムなどで構成され,銅,鉛,アルミ,锡,銀などを実現できます.2μmから300μmの厚さの薄膜に噴射する. フィルム.........

主要な技術索引:1.最終的な真空:≤6.6X10 ³ Pa 2.の真空の獲得システムは分子ポンプを+機械30分の間ポンプ単位3.の連続的なポンプ、真空の程度です8x10 ³ Pa 4.円柱放出させるターゲットが独自に働かせると等しいかまたはそれ以下ことができる採用しますまたは同時に直径の5.基質......

自動車部品のChromeめっきの装飾の反射のコーティングのためのPVDのマグネトロンの放出させる機械連続的なコーティング Goldstoneは専門の真空を開発するために放出させる顧客の適用範囲が広い適用のための沈殿システムを従事している。自動車ミラーのコータは良質の表面鏡および青いミラーのた.........

フ1200×H800mm マグネトロンスプッティングコーティングマシン 0~60RPM 真空コーティングマシン KSL-1200 適用範囲バキュームコーティングマシン: コンピュータ,携帯電話,家電などの様々な電気機器やスマート端末のコーリングです.金属フィルム,透明フィルム,導電性のないフ.........

太陽ガラス、断熱ボード、アクリル、家具ボード用反射防止（AR）コーティングライン - 全自動マグネトロンスパッタリングシステム 生産ラインの構成 自動ガラスローディング/アンローディングシステム 精密洗浄・表面処理ユニット マルチステーションマグネトロンスパッタリングコーティングチャン.........

モリブデンの銅合金のマグネトロンの放出させるターゲット 1. モリブデンの銅合金のマグネトロンの放出させるターゲットの記述: モリブデン銅の合金のマグネトロンの放出させるターゲットの準備は浸潤方法によって主に行う。最初に、モリブデンの鋼片の骨組に焼結するのに粗い粒度のモリブデンの粉が.........

製品概要 ウェストグラスのマグネトロンスプッターカーウィンドウフィルムは 卓越したパフォーマンスを発揮するために 多層ナノスケールセラミックコーティングを備えた 先進的なマグネトロンスプッター技術を使用しています運転の快適さと安全性を向上させるために設計された自動車の保温,爆発耐性,.........

脈打ったレーザーの沈殿（PLD）システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

高精度マグネットロンスプッターフィルム 製品説明: マグネティック・スプッティング・シリーズ (Magnetic Sputtering Series) は,研究開発プロジェクトのために高品質の薄膜を必要とする研究者や科学者の理想的な選択です.磁気記録メディアなどの様々なアプリケーションで薄膜堆積........

シルバースプッターターゲットのスプッターターゲットのチタンディスクを医療用途での高純度スプッターに 物理蒸気堆積 (PVD) プロセスにおいて,チタン噴射標的は,様々な医療用薄膜の製造において極めて重要です.この薄膜は,パフォーマンスを向上させるために決定的です耐久性,およびインプラント,ス.........

チタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 ASTM B861-06目標資料の真空メッキ 名前 チタニウムの管ターゲット 標準 ASTM B861-06 輸送のパッケージ 木の場合の真空パック 起源 宝鶏市、シャンシー、中国 港の渡すため 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 サイズ ......

陶磁器窒化ホウ素は高温抵抗および熱循環の抵抗による非常に熱いくま材料として特にうってつけである。 窒化ホウ素の陶磁器の版の適用 VGFまたはVB方法によって単一の半導体の水晶およびIII-Vの混合物を総合するのに使用される。 項目 単位 見掛密度 g/cm3 2.1.........

放出させるターゲット チタニウム アルミニウム アルミニウム チタニウム（AlTi）の合金の放出させるターゲットはHIPの技術によって作り出され、用具のコーティングおよび装飾的なコーティングで広く利用されている。溶けるプロセスと比較されて、HIPプロセスによって準備されるTiAlターゲットに均一顕.......

ランタンウム噴射標的は,半導体,光学コーティング,研究分野で使用されている高純度機能材料です.精密加工により高純度ランタン金属から作られています薄膜の均一性,密度,スプッティング安定性が優れている.磁気スプッティングやイオンビームスプッティングなどの様々なコーティングプロセスに適しています. 応........