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マグネトロンスプートリングコーティングマシン

1 - 20 の結果 マグネトロンスプートリングコーティングマシン から 2665 製品

DC および MF マグネトロン スパッタリング コーティング マシン、ディープ ブラック PVD ​​コーティング ソリューション マグネトロンスパッタリングコーティング プラズマコーティング マグネトロン スパッタ.........

Time : Apr,21,2025
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サイズ調整可能 マグネトロンスプッティングコーティングマシン/PVDコーティング機器 記述:マグネトロンスプッタリングコーティングマシンは薄膜堆積の分野で重要な機器です.このマシンはマグネトロンスプッタリングの原理に基づいて動作します.電子を閉じ込めて加速させる 強い磁場を生成するために マグネ........

Time : Apr,12,2025
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マグネトロンの放出させるコーティングのためのタングステンの放出させるターゲット 1. マグネトロンの放出させるコーティングのためのタングステンの放出させるターゲットの記述: タングステンの層はTFT-LCDスクリーンの薄膜のトランジスターの部品である。それらは大画面のフォーマット、非.........

Time : Apr,04,2025
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PETフィルムをコーティングするために使用される多機能磁気スプッター金属化器 製品説明 マグネトロン噴射真空システム,巻き込みシステム,磁気電子標的スプッターシステム,制御システムなどで構成され,銅,鉛,アルミ,锡,銀などを実現できます.2μmから300μmの厚さの薄膜に噴射する. フィルム.........

Time : Mar,29,2025
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ZYD-SFL アルミニウム ミラーの真空メッキ機械/ガラスは真空メッキ機械/ミラー コーティングを広げます 私達にコーティングの mirro のための 2 つの解決があります、1 つは continious マグネトロンの放出させるコーティング ラインです、別のものは箱のタイプ ミラーのコータです......

Time : May,30,2024
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脈打ったレーザーの沈殿(PLD)システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

Time : Jul,15,2023
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高精度マグネットロンスプッターフィルム 製品説明: マグネティック・スプッティング・シリーズ (Magnetic Sputtering Series) は,研究開発プロジェクトのために高品質の薄膜を必要とする研究者や科学者の理想的な選択です.磁気記録メディアなどの様々なアプリケーションで薄膜堆積........

Time : Jan,27,2025
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チタンターゲット シリコンスプッティングターゲット Gr5 Gr7 Pvdコーティングマシン "ターゲット"という単語は 日常生活で使われる ターゲット材料から由来しますコーティング材料は電子線またはイオン線で爆撃されます発射する材料は"発射対象"と呼ばれます 金属チタンからチタン発射標.........

Time : Jan,08,2025
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チタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 ASTM B861-06目標資料の真空メッキ 名前 チタニウムの管ターゲット 標準 ASTM B861-06 輸送のパッケージ 木の場合の真空パック 起源 宝鶏市、シャンシー、中国 港の渡すため 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 サイズ ......

Time : Apr,30,2024
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主要な技術索引:1.最終的な真空:≤6.6X10 ³ Pa 2.の真空の獲得システムは分子ポンプを+機械30分の間ポンプ単位3.の連続的なポンプ、真空の程度です8x10 ³ Pa 4.円柱放出させるターゲットが独自に働かせると等しいかまたはそれ以下ことができる採用しますまたは同時に直径の5.基質......

Time : Dec,25,2017
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記述 発射標的は,発射方法により薄膜を培養する材料であり,標的は金属や陶器を加工することによって製造される.我々は,様々な材料のスプッターターゲットの製品を提供してきました溶融,シンテリング,合成,機械加工の技術を組み合わせることで製造方法の選択と用途と目的に応じてカスタマイズが可能目標の材料と........

Time : Dec,07,2024
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高純度99.97% タングメン 発射塗装用標的 紹介 1ターンプスティン噴射標的は,X線熒光 (XRF),光放出質量スペクトロメトリ (GDMS),および誘導結合プラズマ (ICP) を含む最も実証された技術を採用しています.2アケメタルのウランターゲットは高純度99.97%まで,密度18.8.........

Time : Apr,18,2025
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放出させるコーティングのための後ろ板ととらわれの高い純度のモリブデンの放出させるターゲット Sifonからのモリブデン ターゲット: 1. 高い純度≥99.95% 2. 高密度≥10.1g/cm3 3. T*3340*3340として広い次元 4. 広い適用は顧客によって、私達の.........

Time : May,30,2024
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魚皮ピーナッツ製造機 ライン コーティングピーナッツ製造機 ※記述: コーティングされたピーナッツ製造機械は主にピーナッツのスナックを処理するために使用されます.コーティング機械はコーティングされたポップコーン,コーティングされたアーモンド,コーティングされたタブレット,ピーナッツなども処理する........

Time : May,06,2025
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CVDコーティングマシン 0.1-1.0MPaコーティング圧力 200~1050°Cコーティング温度 製品説明: CVDコーティングマシンへの紹介 CVDコーティングマシン (CVD Coating Machine) は,真空コーティング技術を促進するために設計されたコーティングプロセス機器の一........

Time : Dec,02,2024
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高効果スプレーガン金属コーティングマシン ペイント 静電粉末コーティングマシン 製品説明 高効果スプレーガン金属コーティングマシン ペイント 静電粉末コーティングマシン.プロファイルや平らなパーツの粉末コーティングに適しています.サイズと材料は完全にGema GA03とGM03電磁粉.........

Time : May,30,2025
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