マグネトロンスプートリングコーティングマシン

サイズ調整可能 マグネトロンスプッティングコーティングマシン/PVDコーティング機器 記述:マグネトロンスプッタリングコーティングマシンは薄膜堆積の分野で重要な機器です.このマシンはマグネトロンスプッタリングの原理に基づいて動作します.電子を閉じ込めて加速させる 強い磁場を生成するために マグネ........

フ1200×H800mm マグネトロンスプッティングコーティングマシン 0~60RPM 真空コーティングマシン KSL-1200 適用範囲バキュームコーティングマシン: コンピュータ,携帯電話,家電などの様々な電気機器やスマート端末のコーリングです.金属フィルム,透明フィルム,導電性のないフ.........

ミニ小型マグネトロンスパッタリングリアルゴールドコーティング装置 ステンレス鋼ジュエリーにリアルゴールドコーティングを精密かつ効率的に施すために特別に設計されたコンパクトなマグネトロンスパッタリングシステム。 高精度リアルゴールドコーティング技術 真空環境下で高度なマグネトロンスパッタリン.........

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マグネトロンの放出させるコーティングのためのタングステンの放出させるターゲット 1. マグネトロンの放出させるコーティングのためのタングステンの放出させるターゲットの記述: タングステンの層はTFT-LCDスクリーンの薄膜のトランジスターの部品である。それらは大画面のフォーマット、非.........

PETフィルムをコーティングするために使用される多機能磁気スプッター金属化器 製品説明 マグネトロン噴射真空システム,巻き込みシステム,磁気電子標的スプッターシステム,制御システムなどで構成され,銅,鉛,アルミ,锡,銀などを実現できます.2μmから300μmの厚さの薄膜に噴射する. フィルム.........

製品説明 負荷ロック室付き4ターゲットの磁気スプッターコーティング PVD薄膜コーティング 装置 合金膜 スプッターテスト簡潔 な 紹介4つのターゲットのマグネトロンスプッターコーティングシステムは,フェロー電気,導電,合金,半導体,セラミック,ダイレクト,光学,オキシド硬いPTFEフィルム負荷ロ.......

ソーラーガラス、断熱板、アクリル、家具ボード用の反射防止（AR）コーティングライン - 全自動マグネトロンスパッタリングシステム 生産ライン構成 自動ガラス搬入・搬出システム 精密洗浄・表面処理装置 マルチステーションマグネトロンスパッタリングコーティングチャンバー その場での光学モニタリン.........

製品概要 マグネトロンのスプッター カーウィンドウフィルム ウェストグラスは 先進的なマグネトロンのスプッター コーティング技術を使用します高エネルギーイオン爆撃によるPET基板にナノスケールセラミックコーティングの複数の層を堆積するその主な利点は,高精度で均質なフィルム構造で.........

ZYD-SFL アルミニウム ミラーの真空メッキ機械/ガラスは真空メッキ機械/ミラー コーティングを広げます 私達にコーティングの mirro のための 2 つの解決があります、1 つは continious マグネトロンの放出させるコーティング ラインです、別のものは箱のタイプ ミラーのコータです......

脈打ったレーザーの沈殿（PLD）システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

プラチナターゲットは高純度プラチナ金属から作られ,マグネトロン噴射,蒸発,イオン塗装などの真空堆積プロセスで一般的に使用されます.プラチナは固有の高い化学的安定性を持っています耐腐蝕性,高温性能,厳しい条件下で均質で密度の高いフィルムを形成し,電子機器,光学部品,高級の装飾品. プラチナ ターゲット......

高精度マグネットロンスプッターフィルム 製品説明: マグネティック・スプッティング・シリーズ (Magnetic Sputtering Series) は,研究開発プロジェクトのために高品質の薄膜を必要とする研究者や科学者の理想的な選択です.磁気記録メディアなどの様々なアプリケーションで薄膜堆積........

チタンターゲット シリコンスプッティングターゲット Gr5 Gr7 Pvdコーティングマシン "ターゲット"という単語は 日常生活で使われる ターゲット材料から由来しますコーティング材料は電子線またはイオン線で爆撃されます発射する材料は"発射対象"と呼ばれます ......

チタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 ASTM B861-06目標資料の真空メッキ 名前 チタニウムの管ターゲット 標準 ASTM B861-06 輸送のパッケージ 木の場合の真空パック 起源 宝鶏市、シャンシー、中国 港の渡すため 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 サイズ ......

記述 発射標的は,発射方法により薄膜を培養する材料であり,標的は金属や陶器を加工することによって製造される.我々は,様々な材料のスプッターターゲットの製品を提供してきました溶融,シンテリング,合成,機械加工の技術を組み合わせることで製造方法の選択と用途と目的に応じてカスタマイズが可能目標の材料と........