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8 年
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銅薄膜コーティング装置、金導電性薄膜スパッタリング成膜装置、銀スパッタリング装置
銅マグネトロンスパッタリング真空コーター
1) 膜厚の制御性と良好な再現性は、均一な膜のより大きな表面での膜の事前めっきの厚さとスパッタリングの信頼できるシステムになることができます。
2) フィルムと基材の密着性が良好です。スパッタリングされた原子の高エネルギーのいくつかは、さまざまなレベルの注入現象を生成し、スパッタリングされた原子と基板原子が互いに融合した基板層上に疑似拡散層が形成されます。
3) フィルムの特別な材料の準備、別の材料とスパッタリング ハイブリッド フィルム、化合物フィルムを使用することができますも TiN 模造金フィルムにスパッタすることができます。
銅マグネトロンスパッタリング真空コーターの仕様
| マグネトロン スパッタリング コーティング マシン | ||||||
| パフォーマンス | RTSP-700 | RTSP-900 | RTSP-1000 | RTSP-1250 | RTSP-1400 | RTSP-1600 |
| コーティングチャンバーのサイズ | 700×H900mm | 900×H1100mm | 1000×H1200mm | 1250×H1350mm | 1400×H1600mm | 1600×H1800mm |
| 電源タイプ | フィラメント電源、パルスバイアス電源、DCマグネトロン電源、中間周波マグネトロン電源、高周波マグネトロン電源、リニアイオン源 | |||||
| 真空チャンバーの構造 | 縦型両開きドア、縦型フロントドア構造、後方排気システム | |||||
| 真空チャンバーの材質 | 高品質のステンレス製キャビティ | |||||
| 限界真空 | 6.0×10-4Pa | |||||
| 排気時間（無負荷） | 大気を 8.0*10 にポンプします。-3>Pa ≤15 分 | |||||
| 真空取得システム | 拡散ポンプまたは分子ポンプ + ルーツ ポンプ + メカニカル ポンプ + ロータリー ベーン ポンプ (お客様の要件に応じて特定のモデルを構成できます) | |||||
| コーティングモード | マグネトロンスパッタリングコーティング | |||||
| フィルムタイプ | 金属膜、反応膜、化合物膜、多層膜、半導体膜 | |||||
| マグネトロンターゲットタイプ | 長方形マグネトロンターゲット、円筒形マグネトロンターゲット、ツインマグネトロンターゲット | |||||
| マグネトロン供給電力とマグネトロンターゲット数 | さまざまなコーティングプロセスと顧客の要件に従って選択してください | |||||
| バイアス電源 | 10KW/1台 | 20KW/1台 | 20KW/1台 | 30KW/1台 | 40KW/1台 | 50KW/1台 |
| ワークターンテーブルの回転モード | 惑星の公転と自動回転、可変周波数速度調整 (制御および調整可能) | |||||
| プロセスガス | 3 パスまたは 4 パスのプロセス ガス フロー制御および表示システム、選択的自動ガス処理システム | |||||
| 冷却モード | 水循環冷却モード、冷却水塔または工業用水冷器または深冷システム。（お客様ご用意） | |||||
| 制御モード | 手動/自動統合モード、タッチスクリーン操作、PLCまたはコンピュータ制御 | |||||
| 総電力 | 30KW | 35KW | 40KW | 50KW | 65KW | 80KW |
| アラームと保護 | ポンプ、ターゲットなどの水不足、過電流および過電圧、開回路およびその他の異常状態を警告し、関連する保護措置および電気的インターロック機能を実行します。 | |||||
| 設備エリア | 幅2m×長さ3m | 幅2.5m×長さ3.5m | 幅3m×長さ4m | 幅4m×長さ5m | 幅4.5m×奥行6m | 幅5m×長さ7m |
| その他の技術的パラメータ | 水圧≧0.2MPa、水温≦25℃、空気圧：0.5～0.8MPa | |||||
| 備考 | コーティング装置の特定の構成は、コーティング製品のプロセス要件に従って設計できます | |||||
詳細な仕様については、お問い合わせください。Royal Technology は、トータル コーティング ソリューションを提供できることを光栄に思います。