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8 年
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シリコンの薄片のAuの金のマグネトロンの放出させるコータ、スライド ガラス、陶磁器シート
シリコンの薄片で放出させるAuの金のマグネトロン
概要:
金の放出させる層の特徴:
1. 結合の層は基質およびメタル・フィルム付着を高めて必要です。高貴な技術は異なった適用に基づいて成熟させたコーティングの調理法の範囲を支えます専門の助言の私達の顧客を開発しました。
2. 荒さ（RMS -根の不偏分散） < 40="">
4. 金の放出させる層の表面純度:きれいな表面は金の表面の修正を用いる適用に要求されます。PVDによって、真空システムで使用されて、金の源の元の純度はの水平処理して下さい（99.99%に一般に）
キーワード:Auの金のナノ構造の薄膜の沈殿、放出させるPVDの金放出させる金の薄膜のマグネトロン システムを金属で処理する金の真空
適用:
大学の実験室、金属材料のR & D部は、大抵伝導性の層として電子産業および顕微鏡の標本等に科学で使用するPVDの真空メッキのサービス センター、製造します。
技術仕様:
| モデル | RTAC0808-SP |
| 技術 | 放出させるDC +イオン源（選択のために） |
| 材料 | ステンレス鋼（S304） |
| 部屋のサイズ | Φ800*H800mm |
| 部屋のタイプ | シリンダー、垂直、1ドア |
| 回転式棚システム | 惑星/中央運転 |
| 沈殿材料 | 金、アルミニウム、銀、銅、Chromeのステンレス鋼、ニッケル、チタニウム |
| 沈殿源 | 円柱/平面の放出させる陰極:option.+ 3アークの源のための2か3 |
| 反応ガス制御 | MFC、方法2/4の |
| 制御 | PLC （プログラム可能な論理のコントローラー） + タッチ画面 |
| ポンプ施設管理 | SV300B - 1つのセット（Leybold） 300mの³ /hr |
| 根ポンプ- 1セット、150L/S | |
| ポンプ- 1セット--を握ります、60mの³ /hr | |
| ターボ分子ポンプ:- 1セット、3500L/S | |
| 電源 |
バイアス電源:1*24 KW DCの放出させる力:2*24KW |
| 安全システム | オペレータを保護する多数の安全保護インターロック そして装置 |
| 冷却 | 冷水をリサイクルして下さい |
| 熱すること | ヒーター、9KW |
| 電気力 | 480V/3 phases/60HZ （迎合的な米国） |
| 460V/3 phases/50HZ （迎合的なアジア） | |
| 380V/3 phases/50HZ （迎合的なEU-CE） | |
| 足跡 | L3200*W2600*H2000mm |
| 総重量 | 3.0 T |
| サイクル時間 | 30~40分（基質材料によって、 基質の幾何学および環境条件） |
| 力MAX。 | 50KW |
| 平均出力の消費（およそ） | 20KW |
PVDの金張りのウエファー
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