Shanghai Sheeny Metal Mateirals Co.,Ltd.

上海・シーニー・メタル・マテラルズ・コー・リテッド

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放出させるターゲット

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シティ:shanghai
省/州:shanghai
国/地域:china
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高温安定性と優れた耐磨性コーティングフィルムのためのイトリウムスプッターターゲット

イットリウムスパッタリングターゲットは、電子情報、光学コーティング、耐摩耗・耐食コーティング、ハイエンド装飾分野で広く使用されている高純度多機能薄膜材料です。この製品は、高純度イットリウム金属を高度な溶解、鍛造、精密機械加工プロセスを経て製造されています。優れたスパッタリング安定性、膜層均一性、構造...
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より明るく,長く持続するディスプレイのための高度なOLEDカソード層としてイテルビウムスプッターターゲットは

イッテルビウムスパッタリングターゲットは、OLEDディスプレイの金属カソード層の作製に特化した、高純度レアアース金属機能材料です。この製品は、高純度イッテルビウム金属を精密加工して作られており、優れた膜均一性、高い導電性、良好なスパッタリング安定性を特徴としています。従来のマグネシウムや銀のカソード...
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漏れのない半導体メモリーチップ製造のための高電圧ランタンスプッターターゲット

ランタンウム噴射標的は,半導体,光学コーティング,研究分野で使用されている高純度機能材料です.精密加工により高純度ランタン金属から作られています薄膜の均一性,密度,スプッティング安定性が優れている.磁気スプッティングやイオンビームスプッティングなどの様々なコーティングプロセスに適しています. 応.....
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高品質ディスプレイ&タッチスクリーン電極コーティング用アルミニウムネオジム合金スパッタリングターゲット

アルミニウムネオジウム合金スプッターターゲットは,フラットパネルディスプレイやタッチスクリーンにおけるガラス基板電極層のコーティングに使用される重要な機能材料である.この製品は高純度アルミとネオジウムから精密合金プロセスで製造されています.合金組成が均一で,スプッティング性能が安定している.形成され...
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強化されたピエゾ電気性能を持つ5G音響フィルターのためのアルミ・スカンジウム合金スプッティングターゲット

アルミ・スカンジウム合金スプッターターゲットは,高周波フィルター用アルミナイトリドのピエゾエレクトリックフィルムを準備するために特に使用される高性能稀土合金機能材料である.この製品は高純度アルミとスカンジウムから精密合金プロセスで製造されています均質な組成,安定したスプッター性能,優れたフィルム品質...
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お客様の薄膜プロセス向けに調整された組成のカスタムレアアース合金スパッタリングターゲット

カスタムレアアース合金スパッタリングターゲットは、お客様の要求に応じて組成と構造を精密に設計できる高性能機能材料です。この製品は、高度な合金溶解、均質化処理、精密加工技術を通じて製造されています。精密な組成制御、緻密で均一な構造、スパッタリング膜における優れた化学的均一性と微細構造の一貫性を特徴とし...
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極高温航空宇宙および磁気冷凍用途向けHoCu合金スパッタリングターゲット

ホルミウム銅合金スパッタリングターゲットは、磁気冷凍、航空宇宙、低温検出などの最先端分野で使用される高性能機能材料です。この製品は、高純度ホルミウムと銅を精密合金化プロセスで製造しており、均一な合金組成と優れたスパッタリング安定性を特徴としています。特殊な磁気的、熱的、電気的特性を持つ機能性薄膜の作...
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太陽電池フィルムおよび太陽光発電エネルギー用途向け高純度プラセオジムスパッタリングターゲット

プラセオジムスプッターターゲットは,太陽電池,半導体コーティング,光学コーティング,磁気材料に広く使用される高純度機能材料である.この製品は高純度プラセオジミウム金属から精密加工で製造されています薄膜の均一性,密度,スプッティング安定性が優れている.磁気スプッティングやイオンビームスプッティングなど...
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高反射金属膜用サマリウムスパッタリングターゲット & 透明導電性コーティング

サマリウムスパッタリングターゲットは、透明導電膜、高反射金属膜、半導体膜、特殊機能コーティングなどに幅広く使用される高純度希土類金属機能材料です。本製品は、高純度サマリウム金属を精密溶解、成形、加工して作られています。高い融点、高い硬度、優れた導電性を特徴とし、均一で緻密な成膜と良好なスパッタリング...
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5G RFフィルターと高度な電気光学装置のための高性能スカンジウムスプッターターゲット

スカンジウム噴射標的は,鉄電,ピエゾ電,光学コーティング,特殊半導体分野で広く使用される高純度先進機能材料です.この製品は高純度スカンジウム金属から精密加工で製造されています優れたフィルム均一性,構造密度,スプッター安定性がある.様々な物理蒸気堆積プロセスに適しています.マグネトロン発射やパルスレー...
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