溶融シリカ・ウェーファーで半導体プロセスをアップグレードする 熱安定性に匹敵しない 光学と光子学
溶融シリコンウエファーは 超純の合成溶融シリコン (SiO2) から作られ 卓越した光学透明性 熱安定性 化学耐性があります半導体製造における要求の高いアプリケーションに最適極限条件に耐えるように設計されながら 寸法精度と表面の整合性を保ちます
主要な特徴は:
300mmまでの直径と 0.1mm から 10mm までの厚さでカスタマイズできます 溶融シリカウエファーでは 急速なプロトタイプ作成と 大量生産が可能です安定した品質と定時配達のためにISO認証の製造を信頼してください.
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| パラメータ | 記述 |
|---|---|
| 材料 | 溶融クォーツ JGS2 |
| 構成 | SiO2(シリコン二酸化物) |
| トランスミッション | 紫外線 (UV) から赤外線 (IR) の範囲で優れた透明性 |
| 屈折指数 | 1.4585 (587.6 nm で) |
| 密度 | 2.203g/cm3 |
| 熱膨張係数 | 5.5×10-7K-1 |
| 動作温度範囲 | 1200°Cまで |
| 化学 耐性 | ほとんどの酸,塩基,有機溶媒に耐性 |
| 表面塗装 | 片面または両面から磨いたもの |
| 表面の質 | 通常,業界標準 (例えば,MIL-O-13830) に基づいて指定される. |
| 次元容量 | 顧客の要求に応じてカスタマイズできる |
| ウェーファーサイズ | 2",3",4",6",8",より大きい |
| ウェファーの厚さ | 通常は数ミリメートルから数ミリメートルです |
| 申請 | 光学,レーザー,半導体,科学機器など |



溶融クォーツ製造仕様
|
パラメータ |
JGS1 |
JGS2 |
JGS3 |
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最大サイズ |
< Φ200mm |
<Φ300mm |
< Φ200mm |
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トランスミッション範囲 (中程度のトランスミッション比) |
0.17~2.10um (Tavg>90%) |
0.26~2.10um (Tavg>85%) |
0.185~3.50um (Tavg>85%) |
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OH- 内容 |
1200ppm |
150ppm |
5ppm |
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発光 (ex 254nm) |
ほぼ 無料 |
強いV-b |
強いV-B |
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汚れの含有量 |
5ppm |
20〜40ppm |
40〜50ppm |
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バイレフリジェンスの常数 |
2〜4nm/cm |
4〜6nm/cm |
4〜10 nm/cm |
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溶解方法 |
合成性心血管病 |
酸素水素の溶融 |
電気溶融 |
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申請 |
レーザー基板 窓,レンズ,プリズム,鏡... |
半導体と高温窓 |
IRとUV |
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よくある質問:
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