Suzhou Haichuan Rare Metal Products Co., Ltd.

スズー・ハイチュアン・レア・メタル・プロダクトス株式会社

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 放出させるターゲット

シルバースプッティングターゲットの材料の製造者 99.95% 丸いスプッティングターゲットのスライバーシート

形状 丸いプレート 純度 99.999 材料 シルバー サイズ オーダーメイド よくある質問 Q1: サンプル数量注文できますか?A1:はい,MOQはありません. Q2: 箱/箱に自分のロゴを付けられるか?A2:はい,OEMとODM......
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工場直供 99.95% プラチナスプッターターゲット プラチナPtスプッターターゲット

工場直供 99.95% プラチナターゲット プラチナPtスプッターターゲット プラチナスプッターターゲットは,高純度プラチナ金属から作られた円状の材料で,スプッターと呼ばれるプロセスで使用される.スプッターターゲットはプラズマイオンで爆撃され,標的表面から原子を切り離し,薄膜を作るための基板に堆積す...
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高純度スプッターゴールド目標 99.999% マグネトロンスプッターコーティング

高純度ゴールドスプッティングターゲット 99.999% マグネトロンスプッティングコーティング ゴールドスプッターターゲットは,高純度ゴールド金属から作られた円状の材料で,スプッターリングと呼ばれるプロセスで使用されます.スプッターリングでは,ターゲット材料はプラズマイオンで爆撃され,標的表面か.....
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高純度4N5チタンスプッターターゲット 円盤 コーティング用ターゲット

高純度4N5チタンのスプッターターゲット 円盤 コーティング用ターゲット タイタン発射標的は,高純度チタン金属で作られた円状の材料で,発射と呼ばれるプロセスに使用される.発射中に,標的材料はプラズマイオンで爆撃され,標的表面から原子を切り離し,薄膜を作るための基板に堆積する. 構成(%)......
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タンタルプレート 99.95% 純タンタルスプッターターゲット/タンタルプレート/シート/ディスク

タンタルプレート 99.95% 純タンタルスプッターターゲット/タンタルプレート/シート/ディスク タンタルスプッターターゲットは,高純度のタンタルス金属で作られた円状の材料で,スプッターと呼ばれるプロセスで使用される.スプッターリングでは,ターゲット材料はプラズマイオンで爆撃され,標的表面から.....
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99.95% 高純度 Mo1 噴射標的 モリブデン 特殊部品 モリブデン 噴射標的

99.95% 高純度Mo1モリブデン特殊部品 モリブデン噴射標的 モリブデンのスプートリングターゲットは,スプートリングプロセスで使用される材料の一種であり,材料の薄膜を基板に堆積するために使用されます.スプッターリングは,標的材料から原子が噴射され,基板に堆積されるプロセスである.薄膜を作ります....
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Pvdクロムスプッターターゲット/クロムスプッターターゲット価格/Crスプッターターゲット

pvd クロムスプッター目標/クロムスプッター目標価格/Crスプッター目標 クロムスプッターターゲットは,スプッター処理に使用される材料の一種であり,材料の薄膜を基板に堆積するために使用されます.スプッターリングは,標的材料から原子が噴射され,基板に堆積されるプロセスである.薄膜を作ります ......
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スプッター用ジルコニウム標的 Zr スプッター用コーティング用ターゲット

シルコニウムスプッティングターゲット Zr スプッティングコーティングのためのターゲット ジルコニアスプッターターゲットは,スプッター処理に使用される材料の一種であり,材料の薄膜を基板に堆積するために使用されます.スプッターリングは,標的材料から原子が噴射され,基板に堆積されるプロセスである.薄膜を...
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研究室機器 5n/6n 99.999% 高純度シリコンシリコンスプッター 標的光学コーティング材料

研究室機器 5n/6n 99.999% 高純度シリコンシリコンスプッター 標的光学コーティング材料 シリコンスプッターターゲットは,スプッタープロセスで使用される材料の一種であり,材料の薄膜を基板に堆積するために使用されます.スプッターリングは,標的材料から原子が噴射され,基板に堆積されるプロセスで...
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