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高品質 高純度 高密度 タングラン 噴射標的
ワルフスタン発射標的は,材料の薄膜を基板に堆積するために使用される発射と呼ばれるプロセスで使用される材料の一種である.スプッターリングは,標的材料から原子が噴射され,基板に堆積されるプロセスである.薄膜を作ります
トルフスタン発射標的は高純度トルフスタンから作られ,耐磨性のある熱安定性のあるコーティングを必要とするアプリケーションに使用されます.半導体にはよく使われます航空宇宙 医療産業
ワルフスタン発射標的の特徴や用途には以下のものがある.
高度な溶融点: タングステンは非常に高い溶融点を有し,高温耐性を要求するアプリケーションに理想的な選択となります.
高密度: ワルフレムは非常に密度の高い材料であり,高質量堆積率を必要とするアプリケーションに優れた選択となります.
熱伝導性が良い: ワルフスタンには熱伝導性が良いため,効率的な熱消耗を必要とするアプリケーションに有用である.
耐磨性: ワルフスタン は 耐磨性 が 高い の で,耐久 的 な コーティング を 要求 する 用途 に は 優れた 選択 です.
高度な純度: タングスタン発射標的は高度な純度タングスタンから作られ,半導体製造などの高度の純度を必要とするアプリケーションに適しています.
総じて,ワルフラムスプッターターゲットは高品質の材料であり,非常に安定し,耐磨性があり,熱伝導性のあるコーティングを必要とする幅広い用途に適しています.