Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

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Manufacturer from China
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企業との接触
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.
シティ:shanghai
省/州:shanghai
国/地域:china
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10*10.5mm2 GaNの単結晶の基質の厚さ350の±25 µm TTVの≤ 10のµm

10*10.5mm2 GaNの単結晶の基質の厚さ350の±25 µm TTVの≤ 10のµm
  • 10*10.5mm2 GaNの単結晶の基質の厚さ350の±25 µm TTVの≤ 10のµm
  • 10*10.5mm2 GaNの単結晶の基質の厚さ350の±25 µm TTVの≤ 10のµm
  • 10*10.5mm2 GaNの単結晶の基質の厚さ350の±25 µm TTVの≤ 10のµm
  • 10*10.5mm2 GaNの単結晶の基質の厚さ350の±25 µm TTVの≤ 10のµm
製品の詳細
10*10.5mm2 C表面はnタイプの支えがないGaNの単結晶の基質の抵抗をSi添加した < 0=""> 概観 ガリウム窒化物(GaN)の基質は良質のsingle-crystal基質である。それは元のHVPE方法および最初に長年にわたり開発されたウエファーの加工技術となされる。特徴は高い結晶、よい...
製品詳細図 →