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光学産業のためのHfO2の沈殿のマグネトロンの放出させるコータ

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光学産業のためのHfO2の沈殿のマグネトロンの放出させるコータ

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モデル番号 :MSC-O-X—X
原産地 :中国、成都
最小注文数量 :1セット
支払い条件 :T/T
供給能力 :ケースバイケース
納期 :ケースバイケース
パッケージの詳細 :木製ケース
重量 :カスタマイズ可能
サイズ :カスタマイズ可能
カスタマイズ可能 :利用できる
保証期間 :1年またはケースバイケース
発送条件 :海/空/マルチモーダル輸送
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光学企業のマグネトロンの放出させる沈殿
 
 
適用

適用 特定の目的 物質的なタイプ
光学

反射防止フィルムのような光学フィルム、
ハイ・ローr.i.

SiO2、TiO2、Ta2O5、ZrO2、HfO2
低放出ガラス

金属(銀、銅、錫、等)の多数の層
または他の混合物

透明な行なうガラス ZnO:Al、等

 
働き主義
放出させるマグネトロンの特徴は高いfilm-forming率、低い基質の温度、よいフィルムの付着である
そして実現可能な大きい区域のコーティング。この技術はDCのマグネトロンの放出させることおよびRFのマグネトロンに分けることができる
放出させること。
 
特徴

  モデル   MSC-O-X-X
  コーティングのタイプ   メタル・フィルム、金属酸化物およびAINのようなさまざまな誘電性のフィルム
  コーティングの温度較差   500℃への正常な温度
  コーティングの真空槽のサイズ   700mm*750mm*700mm (カスタマイズ可能)
  背景の真空   < 5="">-7mbar
  コーティング厚さ   ≥ 10nm
  厚み制御の精密   ≤ ±3%
  最高のコーティングのサイズ   ≥ 100mm (カスタマイズ可能な)
  フィルム厚さの均等性   ≤ ±0.5%
  基質のキャリア   惑星の回転メカニズムを使って
  目標資料   4×4インチ(4インチと互換性があり、下の)
  電源   およびバイアスが任意なら、DCの脈拍、RFのような電源
  プロセス ガス   ArのN2、O2
注:利用できるカスタマイズされた生産。

                                                                                                                
コーティングのサンプル

光学産業のためのHfO2の沈殿のマグネトロンの放出させるコータ

 

プロセス ステップ
→は真空槽にコーティングのための基質を置く;
→ Vacuumize高低の温度の真空槽、および基質を同期的に回すため;
→は塗り始める:基質は前駆物質とそして同時反作用なしで順に連絡される;
→は各反作用の後で高純度窒素のガスとのそれを清浄にする;
基質フィルム厚さが標準的までだったおよび清浄になり、冷却の操作を回す→停止はある後
完了される、そして条件を壊す真空の後で基質を会われる取りなさい。
 
私達の利点
私達は製造業者である。
成長したプロセス。
24就業時間以内の応答。
 
私達のISOの証明
光学産業のためのHfO2の沈殿のマグネトロンの放出させるコータ
 
私達のパテントの部分
光学産業のためのHfO2の沈殿のマグネトロンの放出させるコータ光学産業のためのHfO2の沈殿のマグネトロンの放出させるコータ
 
私達の賞の部分およびR & Dの資格

光学産業のためのHfO2の沈殿のマグネトロンの放出させるコータ光学産業のためのHfO2の沈殿のマグネトロンの放出させるコータ

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