漏れのない半導体メモリーチップ製造のための高電圧ランタンスプッターターゲット
モリブデン平面スプッタリング標的
金属の放出させるターゲット チタニウム アルミニウムChromeのジルコニウムはニオブのタンタルのモリブデンPVDのコーティングの蒸発にニッケルを被せる
純粋な希土類酸化物のハフニウム シリンダー餌Hfの放出させる目標資料
99.99%純粋なチタニウム ディスク4n高い純度のチタニウムの金属の放出させるターゲット低密度
抵抗力がある自然な混合の石英ガラスの放出させるターゲット高温
タンタルススプッティングコーティングマシン
99.6%純度GR1 GR2の円形のチタニウムの放出させるターゲット ハードウェア
NI 200のニッケルは放出させるターゲット純粋なニッケル合金のニッケル ベースの合金を合金にする
平面の放出させるターゲットのためのDIN2462ステンレス鋼の管
PVDコーティング 半導体コーティングと光学コーティングのためのタンタルスプッターターゲット
脈打ったレーザーの沈殿PLDシステムはDC RFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させる
FeitengのマグネトロンのCrの放出させるターゲットOD127*ID458*10
16.6g/Cm3純粋なタンタルの放出させるターゲット優秀な酸抵抗
真空メッキのための3N5 99.95%モリブデンの放出させるターゲット
ジルコニウムのSystermの高密度に塗るPVDのための回転放出させるターゲット
99.95%放出させるコーティングのための高い純度のモリブデン ターゲット
