高電気伝導率・高熱伝導率金属銀スパッタリングターゲット
Gr5 Gr7 チタンシルバー 医療用高純度スプッター用標的 密度4.5g/cm3
より明るく,長く持続するディスプレイのための高度なOLEDカソード層としてイテルビウムスプッターターゲットは
モリブデン平面スプッタリング標的
チタンチチアルZr Cr スプッティングターゲットディスク
抵抗力がある自然な混合の石英ガラスの放出させるターゲット高温
Agの銀のMangetronの放出させるシステム、PVD Ag銀の放出させるコータ
99.95% 純タングラン 発射標的 金属 W タングラン 標的 耐腐蝕
平面の放出させるターゲットのためのDIN2462ステンレス鋼の管
NI 200のニッケルは放出させるターゲット純粋なニッケル合金のニッケル ベースの合金を合金にする
99.99%純粋なチタニウム ディスク4n高い純度のチタニウムの金属の放出させるターゲット低密度
コーティングのための10.2g/Cm3純粋なモリブデンの長方形/円形の版の放出させるターゲット
FeitengのマグネトロンのCrの放出させるターゲットOD127*ID458*10
脈打ったレーザーの沈殿PLDシステムはDC RFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させる
真空の放出させるコーティングのモリブデン ターゲット モリブデン ディスクのための円形のモリブデン プロダクト モリブデンの放出させるターゲット
放出させるWチタニウムの金属は半導体の物理的な蒸気ターミナルのための平面の鋼片を目標とする
