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産業のために、育つ単結晶のためのイリジウムるつぼそしてプロダクト
イリジウムのるつぼは高い純度を未加工イリジウム材料及び血しょう倍の溶けるプロセスの使用によって欠陥から作られて提供しなかった。私達の熱い造る機械および圧延製造所私達がるつぼを作るためによい高密度イリジウムの版を作り出すことを可能にするため。
イリジウムのるつぼの適用
イリジウムのるつぼは単結晶の成長の特定の方法のために主に、呼んだCzochralski方法（CZ方法）を使用される。イリジウムの金属は高温の半導体の再結晶化のための高性能点火プラグ、るつぼ、およびchloralkaliプロセスの塩素の生産のための電極でように高温の高い耐食性が必要なとき、用いられる。イリジウムの放射性同位体はある放射性同位体の熱電発電機で使用される。
イリジウムのるつぼおよび製作
イリジウムはガラス製造業および成長の高い純度の単結晶を含む最も革新的で、最もデマンドが高い適用のためのプラチナ/ロジウム合金へ理想的な代わり、である。私達に頻繁に複雑な顧客のデッサンを使用する顕著な製作を作り出すこの困難な金属を使用の非常に貴重な専門知識がある。その利点は下記のものを含んでいる:
2000°Cまでの空気の安定性
ジルコニアの穀物より高い機械強さは合金を安定させた
（私達が提供してもいい酸化保護を要求するかもしれないが減少に安定している）
攻撃耐化学薬品性
イリジウムのるつぼ映像:
