RCAきれいなプロセスはシリコンの薄片から有機性残余を取除くためにRCA Corporationで開発される洗浄法に基づいています。クリーニングの解決は水5部、1部27%の水酸化アンモニウムおよび1部30%の過酸化水素から成っています。それは有機性汚染物を取除き、ウエファーの表面に酸化させたケイ素の薄層を残します。

シリコンの薄片のクリーニングの特徴

1）完全なPPR （性能の価格の比率）の単一のグループプロダクト

2) カルシウム、マグネシウム、金属、銅、鉛および蛍光体から自由でであって下さい、ROHSの条件を満たして下さい。

3）高精度なIT区域の条件を満たすよい油を取り除く性能。

技術的な変数をきれいにするシリコンの薄片

分類プロジェクト	JH-1020シリコンの薄片のクリーニング	標準をテストして下さい
分類プロジェクト	JH-1020シリコンの薄片のクリーニング	標準をテストして下さい
出現	黄色がかった液体に無色	視覚化
比重量	1.01-1.25	デンシメーター
pH	12.0-14.0	PHの器械
自由なアルカリ性（piont）	≧13.5mg	CYFC

シリコンの薄片のクリーニングの指示

1) 純粋な水を4分の3までクリーニングタンクに入れて下さい、そして、加えて下さい3%の-5%集中の代理店を、加えて下さい事務レベル、最後まで水を、熱して下さい働く温度まで浴室の解決を。

2) ある程度のケイ素切れの油を取り除いた後浴室の解決を完全に変える必要があって下さい。

酸化を避ける3）は空気の露出された時間を減らします。

4) 働く温度50-65の程度、処分の時間:2-5minutes.

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