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LC3200 HPLC 高速液体クロマトグラフィー高性能液体クロマトグラフ
高性能液体クロマトグラフィー装置の紹介
高性能液体クロマトグラフ（HPLC）は、高性能液体クロマトグラフィーの原理に基づいた装置であり、主に沸点が高く、分子量が大きく、熱的に不安定な有機化合物の分析に使用されます。リザーバー、ポンプ、サンプルインジェクター、クロマトグラフィーカラム、検出器、レコーダーで構成されています。
高性能液体クロマトグラフィー装置の特徴
高圧ポンプ
非常に高いグラジエント再現性を保証する、カスタマイズされた高精度グラジエントメソッド。
特許取得済みの2段階サスペンション技術高圧フローポンプにより、システムの耐用年数を向上
高圧ポンプとサンプラー洗浄液の両方に内蔵された脱気装置
注入量再現性
完全に自己開発されたオートサンプラー。 極座標設計とさまざまな注入方法により、さまざまな顧客のニーズに対応します。補助エアポンプを搭載し、冷却モードがあり、インテリジェント照明モードは観察を容易にするためにオプションです。カラムオーブン
温度制御範囲
ほとんどのユーザーのニーズを満たすために、2方向250mmクロマトグラフィーカラム+ガードカラムの設置位置を提供します。
UV検出器
ベースラインノイズ
ワークステーション
ローカル展開とネットワーク展開機能を備え、さまざまな規模のユーザーのニーズに対応します
高性能液体クロマトグラフィー装置の技術データ
メーカー:
| Wayeal | 製品名: |
| 液体クロマトグラフィー装置 | 動作電源 |
| 220V、50Hz | 周囲温度 |
| 10〜40℃ | 相対湿度 |
| 20〜85％ | 定性再現性 |
| ≤0.2％ | 定量再現性 |
| ≤0.4％ | 高圧定流量ポンプ |
| 流量範囲 | |
| 0.001〜10.000mL/min | 設定ステップ |
| 0.001mL/min | 圧力範囲 |
| 0〜42MPa | 圧力変動 |
| 0.1MPa | 流量設定誤差 |
| ±0.2％ | 流量安定性 |
| RSD≤0.06％ | グラジエント誤差 |
| ±1％ | サンプルポジション |
| 温度制御範囲 | |
| 4〜85℃ | 温度安定性 |
| ±0.02℃ | 温度設定分解能 |
| 0.1℃ | オートサンプラー |
| 注入量再現性 | |
| ＜0.5％RSD | 直線性 |
| ＞0.9999 | クロスコンタミネーション |
| ＜0.002％ | 注入量精度誤差 |
| ±1％ | サンプルポジション |
| 120 | 注入量 |
| 1〜100μL | UV検出器 |
| ベースラインノイズ | |
| ≤5×10 | -6FUベースラインドリフト |
| ≤2×10 | -5Au/h最小検出濃度 |
| ≤2*10 | -9g/mL（ナフタレン/メタノール）スペクトル範囲 |
| (200〜650)nm | 波長誤差 |
| ±0.1nm | 直線性範囲 |
| ≤±0.1nm | 直線性範囲 |
| ≥600μRIU | 3DA検出器 |
| ベースラインノイズ | |
| ≤5×10 | -5Au/hベースラインドリフト |
| ≤2×10 | -5Au/h最小検出濃度 |
| ≤2*10 | -8g/mLスペクトル範囲 |
| (200〜650)nm | 波長誤差 |
| ±0.1nm | 直線性範囲 |
| ≤±0.1nm | 直線性範囲 |
| ≥600μRIU | 4RI検出器 |
| ベースラインノイズ | |
| ≤5×10 | ベースラインドリフト |
| ≤2×10 | 蒸発ガス流量範囲 |
| (0〜3)SLM | 噴霧温度範囲 |
| 室温〜90℃ | 蒸発温度範囲 |
| 室温〜110℃ | 検出チャンバー温度範囲 |
| 室温〜60℃ | 入力空気圧 |
| (4〜7)bar | FL検出器 |
| ベースラインノイズ | |
| ≤5×10 | -6FUベースラインドリフト |
| ≤2×10 | -5FU/30minスペクトル範囲 |
| (200〜650)nm | 波長誤差 |
| ±0.1nm | 直線性範囲 |
| ≥600μRIU | 4RI検出器 |
| 検出範囲 | |
| 0.25〜512μRIU | 直線性範囲 |
| ≥600μRIU | 応答時間 |
| 0.1、0.25、0.5、1、1.5、2、3、6秒; | セル容量 |
| 8μL |
