
2インチのGaNの型板:
次元:Ф 50.8mmの± 0.1mm
厚さ:4 µm、20 µm;4 µm
オリエンテーション:C平面(0001)の± 0.5°
伝導のタイプ:Nタイプ(Undoped);Nタイプ(Si添加される);Pタイプ(Mg添加される)
抵抗(300K):< 0.5 Ω·cm;< 0.05 Ω·cm;| 10 Ω·cm
キャリア集中:< 5x1017 cm3;> 1x1018 cm3;> 6x1016 cm3
移動性:| 300cm2/V·s;| 200 cm2/V·s;| 10 cm2/V·s
転位密度:5x108 cm-2よりより少し
基質の構造:サファイア(標準のGaN:SSPの選択:DSP)
使用可能な表面積:> 90%
4インチのGaNの型板:
次元:Ф 50.8mmの± 0.1mm
厚さ:4 µm、20 µm;4 µm
オリエンテーション:C平面(0001)の± 0.5°
伝導のタイプ:Nタイプ(Undoped);Nタイプ(Si添加される);Pタイプ(Mg添加される)
抵抗(300K):< 0.5 Ω·cm;< 0.05 Ω·cm:| 10 Ω·cm
キャリア集中:< 5x1017 cm3;> 1x1018 cm3;> 6x1016 cm3
移動性:| 300cm2/V·s;| 200 cm2/V·s;| 10 cm2/V·s
転位密度:5x108 cm-2よりより少し
基質の構造:サファイア(標準のGaN:SSPの選択:DSP)
使用可能な表面積:> 90%