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作業理論: カソド弧沉積 (Cathodic arc deposition, Arc-PVD) は,カソド標的から物質を蒸発するために電弧を使用する物理的な蒸気沉積技術である.蒸発した物質は,その後,基板に凝縮されますこの技術では金属,セラミック,複合フィルムを堆積するのに使用できます.
フィルムタイプ:TiN,TiAlN,AlTiN,TiC,TiCN,CrNなど
フィルム特性: 強いフィルム粘着性,高硬さ,摩擦防止,長寿命
適用: 切削ツール,フレーシングカット機,模具,ドリルなど