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40Khz超音波 幅広く散布 薄膜 超音波 コーティング ノズル 霧化装置
記述:
散乱型超音波ノズルの典型的な用途は半導体チップの光抵抗コーティングで,光抵抗物質が半導体チップに噴射される.散布型超音波ノズルによって放出される霧の回転散乱によりワッファー・プレートだけでなく,ワッファー・マイクロ構造の横壁や角にも均質な光抵抗膜が形成される.薄膜太陽電池のコーティングにも使えますカルシウムチタナート太陽電池コーティング,AR伝送と反射フィルムコーティング,保温フィルムコーティング,超水素性コーティングコーティング,PCBフルックスコーティング,その他のアプリケーション.
パラメーター:
| モデル | FSW-4002-L |
| 名前 | 40Khz 散乱式超音波ノズルの原子化 |
| 頻度 | 40kHz |
| 原子化された粒子のサイズ範囲 ((μm) | 15〜40歳 |
| 噴射幅 (mm) | 40~80 |
| 噴射流量 (ml/min) | 0.5-20 |
| 噴霧の高さ (mm) | 30~80 |
| 液体の粘度 (cps) | <30 |
| 粒子の大きさ (μm) | <15 |
| 引換圧 (Mpa) | <0.05 |
| 適用する | 半導体チップの光抵抗性コーティングに適している |
超音波噴霧は,噴霧を作るのに超音波振動を使用する噴霧技術である. 作業原理は以下のように要約することができる:
超音波振動生成:超音波噴霧機には,高周波の電気信号を生成する超音波発電機が内側にあります.これらの電気信号は,トランスデューサー (振動器またはトランスデューサーとしても知られる) により機械的な振動に変換されます.
トランスデューサーの動作原理: トランスデューサーは通常,ピエゾ電気結晶などのピエゾ電気陶器材料で作られています.材料が収縮し膨張する機械的な振動が起こります
1液体噴霧形成:トランスデューサーは,通常ノズルまたは液体貯蔵庫である液体噴霧システムに接続されます.トランスデューサーが振動するとき,振動エネルギーをスプレーシステム内の液体に移しますこの機械的振動は液体に作用し,強烈な液体運動と切断力を発生させる.
2液体切断と原子化:液体の激しい運動と切断力は,小さな滴滴の形成を引き起こす.これらの滴滴は噴霧システムで原子化され,噴霧を形成する.
3噴霧プロセス:生成された噴霧は,適切なノズルと噴霧パラメータを通じて,標的表面に方向的に噴霧することができます.噴霧粒子の大きさと分布は,周波数を調整することによって制御することができます超音波振動の振幅とスプレーパラメータ
一般的に,超音波噴霧は,超音波振動を使用して強い液体切断力を発生させ,液体を微小な噴霧粒子に変換し,細かく均質な噴霧効果を達成します.この噴霧技術には,多くの分野で幅広い応用があります塗料,塗料,インクジェット印刷などです
40Khz超音波 幅広く散布 薄膜 超音波 コーティング ノズル 霧化装置
