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産業用密閉循環噴霧乾燥機
技術パラメータ:
| 仕様 | 密閉循環噴霧乾燥機,密封状態での乾燥のための噴霧乾燥機 |
| 容量 |
特殊なスプレードライヤーの寸法に応じて 顧客の特定の要求に応じた |
| 乾燥した粉末の収集 | ≥95% |
| 残り溶媒 | ≤ 2% |
| 酸素含有量 | ≤ 500 ppm |
| 電気部品の爆発防止 | EXBIIBT4 |
| システム状態 | 陽圧 |
原則:
シール循環スプレー乾燥システムはシール条件で動作します.乾燥ガス通常は,N2のような惰性ガスです.それは有機溶剤で材料を乾燥するために適用されます.毒性ガスと酸化しやすい材料循環ガスとして惰性ガスを採用し,乾燥材料を保護する.
消湿処理後,惰性ガスは循環する.N2は加熱され,乾燥塔に入ります.液体物質は螺旋ポンプで遠心噴嘴に輸送されます.原子化器で液体霧に 原子化されます乾燥塔で熱伝達が完了する.
乾燥した製品は塔の底に放出され,蒸発した有機溶媒は扇風機によって生成される真空に吸い込まれます.サイクロンと噴霧塔で分かれます飽和した有機ガスは,冷凝器で凝縮された後に排出されます.
凝縮されていないガスは,継続的に加熱した後,システムで再循環します.通常の通常の遠心噴霧乾燥プロセスは,空気輸送と退却プロセスによって実現されます.これは爆発防止型密閉循環遠心噴霧乾燥機と通常の遠心噴霧乾燥機との間の明らかな違いです.
乾燥システム内の乾燥介質はN2で,内部は正圧下にある.正圧を維持するために,正圧トランスミッタは自動的にN2の入口量を制御する.
構造図:
