Tiスパッタリングチタンターゲット/チタンスパッタターゲット/真空コーティングチタンターゲット 1. 製品情報 商品名 ASTM B381 gr2 gr5 gr9 gr12 チタンターゲット直径 3'' 4'.........
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チタニウム ターゲットGr2 ASTM B381放出させるターゲット放出させる材料は放出させることを目標とする 項目名前 チタニウム ターゲット 等級 Gr2 材料 チタニウム 包装 木の場合の真空パック 配達の港 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 形 円形。 表面 漬物、磨かれ......
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製品名:チタニウム ターゲット ブロック、チタニウムの合金ターゲット ブロック、チタニウムの銅ターゲット ブロック、チタニウム アルミニウム ターゲット ブロック。材料:TA1、TA2、TC4は異なった使用に従って、物質的なタイプを選びます。チタニウム ターゲット指定:100*50 100*40 ......
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99.9%~99.999% 純度チタン ターゲット 薄膜堆積の成功の鍵 超高性能から 最低コストの用途まで 調整できます 超高性能から 最低コストの用途まで 調整できます 3Nから5N+までの純度で作れます 標的の金属工学,酸素含有量,表面仕上げ,組み立て技術を制御することで標的に提供しています........
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製品情報: 名前 Zr702 Zr705 真空コーティング ジルコニウム標的 チタン標的 半導体LED産業用 材料 ジルコニアとジルコニア合金 グレード Zr702,Zr704,Zr705,RO60001,RO60901,RO60804 など 純度 >99.5% 密度 6..........
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ステンレス・スティール・テーブルウェア・プラチング・ゴールド・バキュム・コーティング・マシン 製品説明 このPVD (Physical Vapor Deposition) コーティングマシンは,様々な材料に薄くて耐久性のあるコーティングを施すために設計された先進的な工業機器です.固体 の 物質.........
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耐食性の医学/産業コーティングのためのチタニウムの合金のPvdターゲット 指定: 項目名前 GR1 GR2 GR5のコーティングのためのチタニウムの合金のpvdターゲット/チタニウムの放出させるターゲット.........
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酸化物ターゲット[アルミナ ターゲット、ニッケルの酸化物ターゲットおよびAZO (ZnO:Al)ターゲット、酸化亜鉛ターゲット、銅酸化物の目標資料、酸化鉄ターゲット、tzoターゲット、TGZOターゲット、GZOターゲット、伝導性TiO2 (低酸素症)ターゲット、TiO2ターゲット;チタン酸塩の多数タ......
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鍛造材が5チタニウム6Al4Vのチタニウムの合金ターゲットを等級別にする中国の製造者は厚い壁の管を配管する 概観 必要な細部 原産地: 中国 銘柄: TOBO 型式番号: チタニウムの管/管 材料: チタニウムの、チタニウ.........
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純粋なチタニウムの99.99% 4nディスク高い純度のチタニウムの金属の放出させるターゲット チタニウムは金属および延性がある。5,090 m/s.のレートで健全な旅行。チタニウムの主要な特徴は低密度、高い機械強さおよび容易な処理である。新しいチタニウムの合金によい熱抵抗があり、600℃か高温で長.......
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チタニウムの円形ターゲットによってカスタマイズされる中国河南放出させる高力純度 利点 1.終えられた滑らか。傷無し。正確な許容。 2.高い純度。優秀な性能。高温抵抗。 3.Grainサイズの均等性。カスタマイズされたサービス。 約放出させる 放出させることは別の企業の建築ガラ.........
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W ワルフスタン 噴射 航空宇宙 稀土の溶融 ワルフタン噴射 航空宇宙,稀土の溶融,電気光源,化学機器,医療機器,金属機械,溶融機器,石油などに広く使用されている標的 パラメーター オーダーデメリット (OD) ID (mm) 長さ (mm) オーダーメイド.........
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チタニウムの版シートのコーティングのためのチタニウムの放出させるターゲット プロダクト細部: チタニウム プロダクトのために、続くことは正常な情報である: 製品名 チタニウム プロダクト.........
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外科装置PVDチタニウムのコータ、装置、外科用具のコータをめっきする外科手術用の器具 1. 概説 医療産業の適用のPVDの真空メッキの技術は、1部金属の器械、のようなです:針のホールダー、カッター、歯科用具等。 biocompatibilityを考えると、私達はアークの.........
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GR2チタニウムPVDの金のコーティング水めっきおよび真空メッキの機械化の部品。 記述 PVDは英語の物理的な蒸気沈殿(物理的な蒸気沈殿)の省略である。それは真空の条件の下で目標資料を蒸発させ、電界を使用して蒸発させた物質およびガスをイオン化するのにガス放電を使用する低電圧、high-cu.........
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