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シオ2基板

1 - 11 の結果 シオ2基板 から 11 製品

SiO2ウエファー 熱酸化物洗浄器 厚さ 20um+5% MEMS 光通信システム 製品説明: SIO2シリコン二酸化ウエファーは半導体製造の基礎要素として使用される.厚さは10μmから25μm,この重要な基板は6インチと8インチの直径で提供されています,様々な用途に汎用性を確保する.主に,.........

Time : May,06,2025
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陶磁器の基質SiO2は、揮発有機化合物サポートを形づける 記述: 触媒と塗られるの後で、プロダクトは有機性廃棄物ガスの浄化で広く、熱交換システム産業廃棄物のガスの処置、石炭発電設備のガス送管の浄化、窒素化合物の浄化システム、廃物の焼却および有害なガスの浄化の処置、等加えられる。 プロダクトの利点: ......

Time : Sep,08,2023
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SiO2水晶の石英ガラスの版2inch 6inchのの高さの硬度の水晶ガラス 光学ガラスレンズ、quartzsのガラス板、水晶光学窓、 sio2 quartzsの基質、GS1のGS2水晶カバー レンズ 水晶の紹介 水晶は二酸化ケイ素、SiO2である。純粋な水晶は無色であるが、美しく着色された宝石への......

Time : Aug,19,2023
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4インチ100mm SiO2は良質の4インチSiO2が即時の郵送物のための在庫に石英ガラスのウエファーをある即時の郵送物のための在庫の石英ガラスのウエファー コーニング7980を。信頼された材料の製造者からの市場、BonTekの光電子工学の最もよい価格の順序100mmの石英ガラスのウエファー。顧客......

Time : Apr,26,2023
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基質の表面のコーティングの二酸化ケイ素のインクジェット印刷のための強い吸囚性 導入 二酸化ケイ素のインクジェット活字媒体は吸着材料の色インク基質の表面のコーティングの私達の標準的です。私達のケイ酸ゲルの洗練された材料そしてカスタマイズ可能な特性はデジタル媒体の顔料のためにおよび.........

Time : Dec,09,2024
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光学窓およびレーザー機械のための高い純度の無水ケイ酸のquartsightガラス 製品の説明: 溶かされた明確な無水ケイ酸の水晶ガラス板は優秀な熱衝撃の安定性および高い伝送の高い純度の水晶砂から成っています。それは電灯レーザー レンズ/光学機器/高温窓で広く利用されています。 Shengfanの水晶......

Time : Feb,24,2025
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ISO9001、ISO14001は利用できるMSDS TDS COAをすぐに発破を掛ける産業陶磁器のビードを証明した 記述 陶磁器のビードは砂を吹き付ける媒体として広く利用されている。その主要な化学内容はZrO2およびSiO2、ZrO2約62%、SiO2 25-30%である。Z.........

Time : Mar,28,2025
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4インチCZの熱酸化フィルム厚さ300nm 4"の絶縁を用いる主なシリコンの薄片;6"への2"からのPAM-XIAMENの提供の二酸化ケイ素のウエファー(シリコンの薄片の熱酸化物(SiO2)の)サイズは誘電材料として1200°CのMEMS (マイクロ電子機械システム)装置で。統合される基質のSiO2......

Time : Feb,25,2020
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磨かれた表面Siのケイ素の単結晶 黒い無定形のケイ素はカーボンが付いている砂(SiO2)の減少によって得られる。ケイ素に青灰色の金属光沢があればUltra-pure水晶。バルク ケイ素は酸素、水および酸の方にun-reactive (HFを除いて)であるが、熱いアルカリで分解する。ケイ素は半導体、合......

Time : May,20,2023
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高周波スイッチ電源用高電流抵抗ショットキーダイオード MBR20100.pdf 典型的なショットキー整流器の内部回路構造は、N 型半導体基板に基づいており、その上にヒ素をドーパントとして含む N エピタキシャル層が形成されます。アノードはモリブデンやアルミニウムなどの材料を使用してバリア層を形成し.......

Time : Dec,10,2024
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陶磁器のコネクター ブロック/特別な機能製陶術の部品 1. 記述: 薄膜の基質(厚の1ミリメートル以下)はまた記事のファイン セラミックスの図1で医者の翼配列によって、プロセス説明したなされる。有機性つなぎおよび可塑剤は形成で助けるために加えられる。標準的な公式はマグネーシア(MgO)の少量のアルミ......

Time : Jul,11,2023
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